拓荆科技12英寸半导体PECVD设备获得突破

      
      

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2015-10-31 20:20 上传

     
       一家名不见经传的小公司，藏身于沈阳市浑南区一处僻静小院，投资仅３亿多元，历时短短四五载，就一举突破少数国际巨头的垄断，在全国首次实现大规模集成电路专用薄膜设备（ＰＥＣＶＤ设备）的量产，被誉为ＩＣ装备业界的“隐形冠军”。

　　它就是沈阳拓荆科技有限公司。

　　一个多月前，拓荆所产的１２英寸ＰＥＣＶＤ设备，累计在线加工量突破１０万片，产品合格率达到１００％。这标志着，我国国产高端ＩＣ装备实现重大突破，开始全面进入市场，助力“中国芯”迈上新台阶。

　　这里，听不到机器的轰鸣，看不到壮观的设备。透过密闭的玻璃窗，记者看到，超洁净的工区内，穿戴防护装备的技术人员，正在生产线上紧张忙碌。

　　“硅片上一层层‘长’出的薄膜，厚度要非常均匀，要求设备有极高的精度和稳定性，”沈阳拓荆公司副总经理刘忆军博士告诉记者，“芯片制造代表了现代工业的核心竞争力，每个硅片上载有上千片芯片，价值几十万、上百万元美金，工程师拿起来，手会紧张得发抖！”

　　长期以来，我国芯片产业严重落后，要靠大量进口，每年进口量已超过石油，成为第一大进口商品。ＰＥＣＶＤ设备是芯片制造的４种最重要设备之一，其核心技术是利用等离子体增强化学气相沉积法，在硅晶片表面镀一层固态薄膜。该技术完全被美日等少数发达国家垄断，设备进口受到严格限制。

　　拓荆人为何要向这一技术领域的“珠穆朗玛峰”攀登？

　　２００５年，旅居海外、任美国第二大ＩＣ装备企业技术副总裁的姜谦博士，在美邂逅了中科院和沈阳市政府的招商团。从那一刻起，他作出了回国创业、带领中国ＩＣ装备制造业打破封锁、突出重围的重大人生决定；次年，姜谦来到沈阳，随后领衔承担科技部“十一五”重大技术专项的研发。

　　２０１０年，在辽宁省及沈阳市、浑南区政府支持下，沈阳拓荆公司正式成立，投资３亿多元，向国际巨头垄断的大规模集成电路专用薄膜设备生产发起挑战。

　　拓荆在当地招聘大学毕业生，组建创业团队，又吸引海外优秀专家加盟。经过一系列艰苦努力，终于完成了硬件、软件、自动控制、工艺等全部开发任务，成功导入生产商线上测试。２０１１年１０月，我国首台自主开发研制的１２英寸ＰＥＣＶＤ设备样机出厂。

　　几年过去了，在向世界科技高峰的攀登中，拓荆交出了令业内吃惊的答卷：

　　自主开发出２－１２英寸ＰＥＣＶＤ三个完整系列产品，成为国内唯一能够生产用于大规模集成电路生产线的１２英寸全自动ＰＥＣＶＤ设备的企业，薄膜制备可靠性、可重复性及工艺水平达到国际先进水平，打破了长期依赖国外进口的局面；

　　累计销售产品１８台（套），其中１２英寸ＰＥＣＶＤ设备８台（套），为中芯国际、苏州晶方以及复旦、清华等高端客户提供设备支撑；

　　不仅实现设备国产化，还使价格比进口降低３０％多，提升了我国ＩＣ制造装备的市场竞争力。

　　把脉拓荆这位“隐形冠军”，个头小，水平高，贡献大，给人诸多启示：

　　有一支优秀人才组成的研发队伍。

　　拓荆汇聚了机械电子、软件、真空等多领域优秀人才。“研发力量雄厚，员工中７０％是研发人员，其中本科生占５３％，博士、硕士占３５％，仅国家千人计划专家就有三名，”公司副总经理孙丽杰告诉记者。

　　公司负责人姜谦博士是全球薄膜设备资深专家，曾在英特尔公司等企业工作多年，拥有８０余项专利，是具有“一个人带动一个产业”能力的领军人才。前来加盟的刘忆军、吕光泉等七八位专家，也均来自国际优秀企业的专家团队。

　　有一股浓厚的创新氛围。

　　“我们不靠下命令、出题目，而让科研人员自己提出想法，敢于尝试，不怕失败，”公司工程研发副总经理周仁说，每一天，每一项技术攻关，都会成为脑力激荡的过程，极大发挥科研人员主观能动性，员工称企业为“拓荆大学”，创新成为工作和思维的常态。

　　一般企业每年研发投入占收入４％就算不错了，而拓荆每年把全部利润都投进去了，已获专利７０多项，在申请的有６０余项。

　　有一种积极进取的创业精神。

　　拓荆对质量管理精益求精。“芯片设备停机一小时，就会带来几万美元的损失，因此每个生产环节都要精密控制，千锤百炼；设备出厂前，要买大量硅片进行制膜试验，以达到最佳稳定状态。”刘忆军博士告诉记者。

　　公司一直保持艰苦创业精神。管理层外出参会，虽然别人都住星级酒店会场，他们却自觉住在两三百元以下的快捷酒店。

　　拓荆把硅谷优秀企业文化引入企业之中。从早会、项目布置到岗前培训、技术学习，每个环节中，管理团队都要把道德感、荣誉感、责任感教育融入其中，打造良好文化氛围。

　　拓荆在业界开始有名了。但是，拓荆把目标定得更宏大。

　　“１２英寸ＰＥＣＶＤ设备每年全球的市场份额，大约是１００多亿元，我们要积极抢占这一市场，”拓荆公司的领导团队显然成竹在胸。

　　拓荆打造现代企业管理制度，全员持股。去年又成功进行一次融资，筹备建设新厂区，并向国际最新一代产品——原子层沉积系统ＡＬＤ设备进军，确保我国ＩＣ薄膜设备制造与国际主流技术保持同步。

　　

　　

http://news.xinhuanet.com/2015-08/17/c_1116276266.htm

      
      

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       一家名不见经传的小公司，藏身于沈阳市浑南区一处僻静小院，投资仅３亿多元，历时短短四五载，就一举突破少数国际巨头的垄断，在全国首次实现大规模集成电路专用薄膜设备（ＰＥＣＶＤ设备）的量产，被誉为ＩＣ装备业界的“隐形冠军”。

　　它就是沈阳拓荆科技有限公司。

　　一个多月前，拓荆所产的１２英寸ＰＥＣＶＤ设备，累计在线加工量突破１０万片，产品合格率达到１００％。这标志着，我国国产高端ＩＣ装备实现重大突破，开始全面进入市场，助力“中国芯”迈上新台阶。

　　这里，听不到机器的轰鸣，看不到壮观的设备。透过密闭的玻璃窗，记者看到，超洁净的工区内，穿戴防护装备的技术人员，正在生产线上紧张忙碌。

　　“硅片上一层层‘长’出的薄膜，厚度要非常均匀，要求设备有极高的精度和稳定性，”沈阳拓荆公司副总经理刘忆军博士告诉记者，“芯片制造代表了现代工业的核心竞争力，每个硅片上载有上千片芯片，价值几十万、上百万元美金，工程师拿起来，手会紧张得发抖！”

　　长期以来，我国芯片产业严重落后，要靠大量进口，每年进口量已超过石油，成为第一大进口商品。ＰＥＣＶＤ设备是芯片制造的４种最重要设备之一，其核心技术是利用等离子体增强化学气相沉积法，在硅晶片表面镀一层固态薄膜。该技术完全被美日等少数发达国家垄断，设备进口受到严格限制。

　　拓荆人为何要向这一技术领域的“珠穆朗玛峰”攀登？

　　２００５年，旅居海外、任美国第二大ＩＣ装备企业技术副总裁的姜谦博士，在美邂逅了中科院和沈阳市政府的招商团。从那一刻起，他作出了回国创业、带领中国ＩＣ装备制造业打破封锁、突出重围的重大人生决定；次年，姜谦来到沈阳，随后领衔承担科技部“十一五”重大技术专项的研发。

　　２０１０年，在辽宁省及沈阳市、浑南区政府支持下，沈阳拓荆公司正式成立，投资３亿多元，向国际巨头垄断的大规模集成电路专用薄膜设备生产发起挑战。

　　拓荆在当地招聘大学毕业生，组建创业团队，又吸引海外优秀专家加盟。经过一系列艰苦努力，终于完成了硬件、软件、自动控制、工艺等全部开发任务，成功导入生产商线上测试。２０１１年１０月，我国首台自主开发研制的１２英寸ＰＥＣＶＤ设备样机出厂。

　　几年过去了，在向世界科技高峰的攀登中，拓荆交出了令业内吃惊的答卷：

　　自主开发出２－１２英寸ＰＥＣＶＤ三个完整系列产品，成为国内唯一能够生产用于大规模集成电路生产线的１２英寸全自动ＰＥＣＶＤ设备的企业，薄膜制备可靠性、可重复性及工艺水平达到国际先进水平，打破了长期依赖国外进口的局面；

　　累计销售产品１８台（套），其中１２英寸ＰＥＣＶＤ设备８台（套），为中芯国际、苏州晶方以及复旦、清华等高端客户提供设备支撑；

　　不仅实现设备国产化，还使价格比进口降低３０％多，提升了我国ＩＣ制造装备的市场竞争力。

　　把脉拓荆这位“隐形冠军”，个头小，水平高，贡献大，给人诸多启示：

　　有一支优秀人才组成的研发队伍。

　　拓荆汇聚了机械电子、软件、真空等多领域优秀人才。“研发力量雄厚，员工中７０％是研发人员，其中本科生占５３％，博士、硕士占３５％，仅国家千人计划专家就有三名，”公司副总经理孙丽杰告诉记者。

　　公司负责人姜谦博士是全球薄膜设备资深专家，曾在英特尔公司等企业工作多年，拥有８０余项专利，是具有“一个人带动一个产业”能力的领军人才。前来加盟的刘忆军、吕光泉等七八位专家，也均来自国际优秀企业的专家团队。

　　有一股浓厚的创新氛围。

　　“我们不靠下命令、出题目，而让科研人员自己提出想法，敢于尝试，不怕失败，”公司工程研发副总经理周仁说，每一天，每一项技术攻关，都会成为脑力激荡的过程，极大发挥科研人员主观能动性，员工称企业为“拓荆大学”，创新成为工作和思维的常态。

　　一般企业每年研发投入占收入４％就算不错了，而拓荆每年把全部利润都投进去了，已获专利７０多项，在申请的有６０余项。

　　有一种积极进取的创业精神。

　　拓荆对质量管理精益求精。“芯片设备停机一小时，就会带来几万美元的损失，因此每个生产环节都要精密控制，千锤百炼；设备出厂前，要买大量硅片进行制膜试验，以达到最佳稳定状态。”刘忆军博士告诉记者。

　　公司一直保持艰苦创业精神。管理层外出参会，虽然别人都住星级酒店会场，他们却自觉住在两三百元以下的快捷酒店。

　　拓荆把硅谷优秀企业文化引入企业之中。从早会、项目布置到岗前培训、技术学习，每个环节中，管理团队都要把道德感、荣誉感、责任感教育融入其中，打造良好文化氛围。

　　拓荆在业界开始有名了。但是，拓荆把目标定得更宏大。

　　“１２英寸ＰＥＣＶＤ设备每年全球的市场份额，大约是１００多亿元，我们要积极抢占这一市场，”拓荆公司的领导团队显然成竹在胸。

　　拓荆打造现代企业管理制度，全员持股。去年又成功进行一次融资，筹备建设新厂区，并向国际最新一代产品——原子层沉积系统ＡＬＤ设备进军，确保我国ＩＣ薄膜设备制造与国际主流技术保持同步。

　　

　　

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