好吧，关于中芯国际28nm工艺上线的二手消息：国产首台28 ...

国产首台28纳米等离子硅刻蚀机通过验证并实现销售

链接：北京市经济和信息化委员会http://www.bjeit.gov.cn/gyfz/dzxxcyc/201401/t20140108_31475.htm

       近日，在国家02科技重大专项的支持下，北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司自主研发的12英寸28纳米等离子硅刻蚀机全面通过中芯国际生产线全流程工艺验证，在刻蚀工艺、产品良率等关键指标上均达到国际先进水平，并获得客户订单，标志着中国集成电路高端装备国产化取得新的突破，打破了美国、日本对28纳米集成电路生产设备的技术封锁和市场垄断。

　　北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司成立于2001年，一直从事高端刻蚀设备的自主开发和产业化。2006年研发成功我国第一台100纳米高密度等离子刻蚀机，填补了我国高端集成电路装备领域的空白，获得国家科技进步二等奖。2012年完成了国内第一台65纳米硅刻蚀机的大生产线销售。此次将28纳米硅刻蚀设备推向市场，真正实现了与主流生产线的需求同步。

北方微电子NMC612B-28硅刻蚀机获得中芯国际采购订单

链接：北方微电子官网http://www.bj-nmc.cn/

      辞旧迎新之际，我国集成电路高端装备产业再传捷报，由北方微电子公司自主研发的12英寸28纳米等离子硅刻蚀机全面通过中芯国际生产线全流程工艺验证，并获得客户订单，标志着中国集成电路高端装备国产化取得新的突破。

      近年来，我国集成电路产业在国家重大专项的支持下不断取得丰硕成果，北方微电子研发的等离子硅刻蚀机便是其中之一。集成电路产业是支撑当今科学技术发展的基础产业，其制造水平是衡量一个国家高科技发展水平的重要标志，而用来加工制造集成电路芯片的工艺设备更占据着整个产业链的高端，成为先进国家科技竞争能力的标志。目前国际上代工业进入规模量产的最高水平是28纳米技术，相比40纳米技术，可使集成电路的功耗更小、速度更快、成本更低，主要应用于CPU、存储器、移动通信、数字音视频等高端芯片产品，目前这类高端芯片还主要依赖进口。值得欣慰的是，我国集成电路制造技术依靠多年的艰辛努力也实现了飞跃发展，即将迎来28纳米技术时代。
   
      等离子刻蚀设备是众多集成电路制造设备中最核心装备之一，其目的是完整的将电路设计图案复制到硅片表面，在硅片表面实现三维精细加工，形成各种形状的槽和孔，加工槽的宽度最小尺寸在28纳米尺度。加工一片12英寸硅片，晶体管栅极刻蚀的数量大于一万亿个，且成功率要高于99.999％，才能保证整个芯片的成品率高于98％，这万亿个栅极宽度的变化不能大于3纳米，而深度的控制更是在几个原子层的厚度，因此对系统的工艺能力和稳定性要求极高。

      在今天没有任何一个集成电路芯片能在缺乏等离子刻蚀技术情况下完成，刻蚀设备也在整个芯片厂的设备投资中占据高达近15%以上的比重。最先进的等离子硅刻蚀设备凝聚着数十个科技领域的菁华，涵盖超洁净技术、射频等离子体技术、高真空技术、材料技术、磁场控制和屏蔽技术、软件与控制技术、机器人与自动化技术、高纯气体与化学腐蚀技术、计算机模拟仿真等诸多领域。目前国际上也仅有美国和日本各一家企业能够提供满足28纳米生产线的成熟设备。长期以来，高端刻蚀设备一直是制约我国集成电路产业发展的瓶颈，目前20纳米以下技术西方国家仍然对我国进行技术封锁和使用限制。

      北方微电子成立于2001年，一直致力于高端刻蚀设备的自主开发和产业化，2006年就研发成功我国第一台8英寸100纳米高密度等离子刻蚀机，填补了我国高端集成电路装备领域的空白，因此而获得国家科技进步二等奖的殊荣。2012年又完成了国内第一台65纳米硅刻蚀机的大生产线销售，此次将28纳米硅刻蚀设备推向市场标志着我国在高端集成电路装备领域第一次实现与主流生产线的需求同步。

      北方微电子正式发布的面向28纳米的硅刻蚀设备，不但突破了精密等离子体控制、更高精确的硅片表面温度控制、更高的气流均匀控制等多项关键技术，以全新的硬件设计满足了客户在STI以及未来Double patterning、HKMG等先进制程中对刻蚀工艺提出的高速率、高均匀性、低损伤和低缺陷、精确尺寸和形貌控制、低颗粒污染等要求，在多项工艺、特别是产品良率等关键指标上达到国际先进水平。

      历经十余年的耕耘，北方微电子在中国集成电路产业成绩卓著，无论8英寸或12英寸硅刻蚀设备，都以先进的工艺指标、竞争力的价格和完善的客户服务打破了进口设备的垄断局面。同时在先进封装、LED、MEMS等泛半导体相关领域也成绩斐然，获得越来越高的产业认可度和市场占有率。
   
     新的一年，新的开始，中国集成电路装备产业会与中国集成电路芯片制造产业一道谱写新的篇章。

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      查了一下北方微电子公司相关资料，NMC612B-28 12英寸高密度等离子硅刻蚀机是在NMC612B基础上开发的用于28nm干法硅蚀刻机，应用于300mm尺寸的硅片加工，能够满足32-22nm技术节点的关键刻蚀工艺需求，用于逻辑电路、闪存、动态随机存储器的半导体前道（FEOL）工艺，包括：Gate、STI、SPT、Spacer、Offset等，也可用于Zero mark、前道硬掩模膜刻蚀工艺等。

    国产首台28纳米等离子硅刻蚀机通过验证并实现销售

链接：北京市经济和信息化委员会http://www.bjeit.gov.cn/gyfz/dzxxcyc/201401/t20140108_31475.htm

       近日，在国家02科技重大专项的支持下，北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司自主研发的12英寸28纳米等离子硅刻蚀机全面通过中芯国际生产线全流程工艺验证，在刻蚀工艺、产品良率等关键指标上均达到国际先进水平，并获得客户订单，标志着中国集成电路高端装备国产化取得新的突破，打破了美国、日本对28纳米集成电路生产设备的技术封锁和市场垄断。

　　北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司成立于2001年，一直从事高端刻蚀设备的自主开发和产业化。2006年研发成功我国第一台100纳米高密度等离子刻蚀机，填补了我国高端集成电路装备领域的空白，获得国家科技进步二等奖。2012年完成了国内第一台65纳米硅刻蚀机的大生产线销售。此次将28纳米硅刻蚀设备推向市场，真正实现了与主流生产线的需求同步。

北方微电子NMC612B-28硅刻蚀机获得中芯国际采购订单

链接：北方微电子官网http://www.bj-nmc.cn/

      辞旧迎新之际，我国集成电路高端装备产业再传捷报，由北方微电子公司自主研发的12英寸28纳米等离子硅刻蚀机全面通过中芯国际生产线全流程工艺验证，并获得客户订单，标志着中国集成电路高端装备国产化取得新的突破。

      近年来，我国集成电路产业在国家重大专项的支持下不断取得丰硕成果，北方微电子研发的等离子硅刻蚀机便是其中之一。集成电路产业是支撑当今科学技术发展的基础产业，其制造水平是衡量一个国家高科技发展水平的重要标志，而用来加工制造集成电路芯片的工艺设备更占据着整个产业链的高端，成为先进国家科技竞争能力的标志。目前国际上代工业进入规模量产的最高水平是28纳米技术，相比40纳米技术，可使集成电路的功耗更小、速度更快、成本更低，主要应用于CPU、存储器、移动通信、数字音视频等高端芯片产品，目前这类高端芯片还主要依赖进口。值得欣慰的是，我国集成电路制造技术依靠多年的艰辛努力也实现了飞跃发展，即将迎来28纳米技术时代。
   
      等离子刻蚀设备是众多集成电路制造设备中最核心装备之一，其目的是完整的将电路设计图案复制到硅片表面，在硅片表面实现三维精细加工，形成各种形状的槽和孔，加工槽的宽度最小尺寸在28纳米尺度。加工一片12英寸硅片，晶体管栅极刻蚀的数量大于一万亿个，且成功率要高于99.999％，才能保证整个芯片的成品率高于98％，这万亿个栅极宽度的变化不能大于3纳米，而深度的控制更是在几个原子层的厚度，因此对系统的工艺能力和稳定性要求极高。

      在今天没有任何一个集成电路芯片能在缺乏等离子刻蚀技术情况下完成，刻蚀设备也在整个芯片厂的设备投资中占据高达近15%以上的比重。最先进的等离子硅刻蚀设备凝聚着数十个科技领域的菁华，涵盖超洁净技术、射频等离子体技术、高真空技术、材料技术、磁场控制和屏蔽技术、软件与控制技术、机器人与自动化技术、高纯气体与化学腐蚀技术、计算机模拟仿真等诸多领域。目前国际上也仅有美国和日本各一家企业能够提供满足28纳米生产线的成熟设备。长期以来，高端刻蚀设备一直是制约我国集成电路产业发展的瓶颈，目前20纳米以下技术西方国家仍然对我国进行技术封锁和使用限制。

      北方微电子成立于2001年，一直致力于高端刻蚀设备的自主开发和产业化，2006年就研发成功我国第一台8英寸100纳米高密度等离子刻蚀机，填补了我国高端集成电路装备领域的空白，因此而获得国家科技进步二等奖的殊荣。2012年又完成了国内第一台65纳米硅刻蚀机的大生产线销售，此次将28纳米硅刻蚀设备推向市场标志着我国在高端集成电路装备领域第一次实现与主流生产线的需求同步。

      北方微电子正式发布的面向28纳米的硅刻蚀设备，不但突破了精密等离子体控制、更高精确的硅片表面温度控制、更高的气流均匀控制等多项关键技术，以全新的硬件设计满足了客户在STI以及未来Double patterning、HKMG等先进制程中对刻蚀工艺提出的高速率、高均匀性、低损伤和低缺陷、精确尺寸和形貌控制、低颗粒污染等要求，在多项工艺、特别是产品良率等关键指标上达到国际先进水平。

      历经十余年的耕耘，北方微电子在中国集成电路产业成绩卓著，无论8英寸或12英寸硅刻蚀设备，都以先进的工艺指标、竞争力的价格和完善的客户服务打破了进口设备的垄断局面。同时在先进封装、LED、MEMS等泛半导体相关领域也成绩斐然，获得越来越高的产业认可度和市场占有率。
   
     新的一年，新的开始，中国集成电路装备产业会与中国集成电路芯片制造产业一道谱写新的篇章。

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      查了一下北方微电子公司相关资料，NMC612B-28 12英寸高密度等离子硅刻蚀机是在NMC612B基础上开发的用于28nm干法硅蚀刻机，应用于300mm尺寸的硅片加工，能够满足32-22nm技术节点的关键刻蚀工艺需求，用于逻辑电路、闪存、动态随机存储器的半导体前道（FEOL）工艺，包括：Gate、STI、SPT、Spacer、Offset等，也可用于Zero mark、前道硬掩模膜刻蚀工艺等。