中国光刻机有大突破！！光电所成功研制650mmX650mm大面 ...-超级军网

　近期，中国科学院光电技术研究所顺利完成新一代单场超大面积光刻机（650mmX650mm）研制，并通过用户验收，各项技术指标达到国际先进水平。
　　新一代超大面积光刻机采用2500W大功率高压汞灯作为光源，利用离轴非球面反射镜结合蝇眼透镜匀光技术，在实现高光功率密度的同时，保证照明均匀性。同时，为解决大尺寸样片调平及对准等关键技术问题，创新性地采用了低阻力气浮调平技术以及可变倍率光学系统等先进技术。经测试，设备在650mm×650mm照明面积内，光功率密度大于15mW/cm2，照明不均匀性≤5%，能够一次性进行650mm×650mm的大面积样片加工，加工分辨力达到2μm，对准精度±1μm。
　　该设备具有大曝光面积、高套刻对准精度、高可靠性、操作方便、自动化程度高等特点，不仅能够在平板显示产业进行彩膜（CF）、隔柱(Spacer)以及薄膜晶体管（TFT）等核心部件加工，还能够应用于微电子、微机电、微光学领域进行各种芯片、传感器、大尺寸光栅、码盘等微纳元件加工及芯片封装。同时该设备还能够在宏观加工领域，完成传统机械加工方式难以实现的薄壁零件等高难度加工，应用领域广泛。
　　近日，首家用户中科院西安光学精密机械研究所在光电所举行了设备验收会。西安光机所有关专家听取报告，并对超大面积光刻机设备进行了现场测试与实验，验证了各项性能指标均满足设计要求，对光电所研制水平表示了肯定和赞赏。
　　新一代单场超大面积光刻设备，无论是曝光面积、照明不均匀性、光功率密度还是对准精度等核心技术指标都处于国际先进水平。其成功研制对提升我国微细加工设备整体研制水平，促进我国单场超大面积极端微细加工技术发展具有重要的现实意义。

地址：http://www.cas.cn/syky/201509/t20150924_4430168.shtml

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2015-9-28 09:25 上传

　近期，中国科学院光电技术研究所顺利完成新一代单场超大面积光刻机（650mmX650mm）研制，并通过用户验收，各项技术指标达到国际先进水平。
　　新一代超大面积光刻机采用2500W大功率高压汞灯作为光源，利用离轴非球面反射镜结合蝇眼透镜匀光技术，在实现高光功率密度的同时，保证照明均匀性。同时，为解决大尺寸样片调平及对准等关键技术问题，创新性地采用了低阻力气浮调平技术以及可变倍率光学系统等先进技术。经测试，设备在650mm×650mm照明面积内，光功率密度大于15mW/cm2，照明不均匀性≤5%，能够一次性进行650mm×650mm的大面积样片加工，加工分辨力达到2μm，对准精度±1μm。
　　该设备具有大曝光面积、高套刻对准精度、高可靠性、操作方便、自动化程度高等特点，不仅能够在平板显示产业进行彩膜（CF）、隔柱(Spacer)以及薄膜晶体管（TFT）等核心部件加工，还能够应用于微电子、微机电、微光学领域进行各种芯片、传感器、大尺寸光栅、码盘等微纳元件加工及芯片封装。同时该设备还能够在宏观加工领域，完成传统机械加工方式难以实现的薄壁零件等高难度加工，应用领域广泛。
　　近日，首家用户中科院西安光学精密机械研究所在光电所举行了设备验收会。西安光机所有关专家听取报告，并对超大面积光刻机设备进行了现场测试与实验，验证了各项性能指标均满足设计要求，对光电所研制水平表示了肯定和赞赏。
　　新一代单场超大面积光刻设备，无论是曝光面积、照明不均匀性、光功率密度还是对准精度等核心技术指标都处于国际先进水平。其成功研制对提升我国微细加工设备整体研制水平，促进我国单场超大面积极端微细加工技术发展具有重要的现实意义。

地址：http://www.cas.cn/syky/201509/t20150924_4430168.shtml

面积大，精度低。

微电子就算了，连我们这个特种半导体的精度要求都已经比这个高了。

显示器上面目测windows XP

这个分辨率确实不怎么高。。。。还有这个东西不怎么新了吧？

不太懂，我就问问这个玩意现在能刻几纳米的芯片？刻的是存储芯片还是CPU？

没感觉很厉害的样子

同ls，2μm是不是就是2000nm？？这么说任道重远啊

同ls，2μm是不是就是2000nm？？这么说任道重远啊
国内生产光刻机量产型号精度90nm，有65nm精度在检验审批中。

这个精度真是低到丧心病狂

一步步来，总会追赶上的

有些人就是不认真看帖，这是专门给液晶面板做光刻的，一个大的显示屏几时要用到纳米级的光刻了？难不成想做3.5寸的，分辨率1000PPI的4K屏？

同ls，2μm是不是就是2000nm？？这么说任道重远啊
不要只看分辨率，视场同样重要，一般光刻机是22×22mm 或26×32mm。这样一些特殊客户需要的芯片就需要拼接。如果有大视场可以一次曝成。当然如果能做到65x65，分辨率也是微米级的，那说明中国的镜头非常非常NB了！

加工分辨力达到2μm，对准精度±1μm

这精度仍不够？离日本的精度差多少呢？

封装用的，低档货

显示器上面目测windows XP
我也看到了！用的xp系统也！

内行遍地走啊

我也看到了！用的xp系统也！
还有还有，电容用的是日本的哎

一看到光刻机就有人开喷中国芯片了…

此光刻机非彼光刻机。

纳米技术要白菜化

加工分辨力达到2μm，对准精度±1μm

这精度仍不够？离日本的精度差多少呢？
佳能5代曝光机CF用，total pitch精度也是1微米，可以了，阵列用的稍微好一点也就是亚微米

精度比起日本的光刻机还有相当大的差距

不懂看看讨论

有差距，不乐观啊

不了解，这是什么水平

urin1010 发表于 2015-9-28 15:02
国内生产光刻机量产型号精度90nm，有65nm精度在检验审批中。
对于这样的网路忽悠局，就两个字，扯淡

眼睛不要只盯着最低线宽，不追求器件密度的场合多了去了，模拟器件，MEMS，显示类，感光类都用不着几十纳米的工艺

对于这样的网路忽悠局，就两个字，扯淡
扯淡不扯淡另说，只说事实90nm已经卖出不少，tsmc就采购一部分。

urin1010 发表于 2015-9-28 20:16
扯淡不扯淡另说，只说事实90nm已经卖出不少，tsmc就采购一部分。
你这是哪个位面的tsmc?
90nm的初号机还呆调试车间里，你还来个“不少了”，“一部分”~~~~~~