中国光刻机有大突破!!光电所成功研制650mmX650mm大面 ...

来源:百度文库 编辑:超级军网 时间:2024/03/29 03:56:58
大家说所这650mmX650mm大面积光刻机,究竟在什么技术水平上啊

大家说所这650mmX650mm大面积光刻机,究竟在什么技术水平上啊

一句话,,,实在看不出啥来
比印度领先50年。
吹牛皮,就上海那个光机所,当年弄虚作假,造不出光刻机就去国外买了个回来拿去评审验收
2015-9-28 14:34 上传



近期,中国科学院光电技术研究所顺利完成新一代单场超大面积光刻机(650mmX650mm)研制,并通过用户验收,各项技术指标达到国际先进水平。
  新一代超大面积光刻机采用2500W大功率高压汞灯作为光源,利用离轴非球面反射镜结合蝇眼透镜匀光技术,在实现高光功率密度的同时,保证照明均匀性。同时,为解决大尺寸样片调平及对准等关键技术问题,创新性地采用了低阻力气浮调平技术以及可变倍率光学系统等先进技术。经测试,设备在650mm×650mm照明面积内,光功率密度大于15mW/cm2,照明不均匀性≤5%,能够一次性进行650mm×650mm的大面积样片加工,加工分辨力达到2μm,对准精度±1μm。
  该设备具有大曝光面积、高套刻对准精度、高可靠性、操作方便、自动化程度高等特点,不仅能够在平板显示产业进行彩膜(CF)、隔柱(Spacer)以及薄膜晶体管(TFT)等核心部件加工,还能够应用于微电子、微机电、微光学领域进行各种芯片、传感器、大尺寸光栅、码盘等微纳元件加工及芯片封装。同时该设备还能够在宏观加工领域,完成传统机械加工方式难以实现的薄壁零件等高难度加工,应用领域广泛。
  近日,首家用户中科院西安光学精密机械研究所在光电所举行了设备验收会。西安光机所有关专家听取报告,并对超大面积光刻机设备进行了现场测试与实验,验证了各项性能指标均满足设计要求,对光电所研制水平表示了肯定和赞赏。
  新一代单场超大面积光刻设备,无论是曝光面积、照明不均匀性、光功率密度还是对准精度等核心技术指标都处于国际先进水平。其成功研制对提升我国微细加工设备整体研制水平,促进我国单场超大面积极端微细加工技术发展具有重要的现实意义。

地址:http://www.cas.cn/syky/201509/t20150924_4430168.shtml
2015-9-28 14:35 上传


近期,中国科学院光电技术研究所顺利完成新一代单场超大面积光刻机(650mmX650mm)研制,并通过用户验收,各项技术指标达到国际先进水平。
  新一代超大面积光刻机采用2500W大功率高压汞灯作为光源,利用离轴非球面反射镜结合蝇眼透镜匀光技术,在实现高光功率密度的同时,保证照明均匀性。同时,为解决大尺寸样片调平及对准等关键技术问题,创新性地采用了低阻力气浮调平技术以及可变倍率光学系统等先进技术。经测试,设备在650mm×650mm照明面积内,光功率密度大于15mW/cm2,照明不均匀性≤5%,能够一次性进行650mm×650mm的大面积样片加工,加工分辨力达到2μm,对准精度±1μm。
  该设备具有大曝光面积、高套刻对准精度、高可靠性、操作方便、自动化程度高等特点,不仅能够在平板显示产业进行彩膜(CF)、隔柱(Spacer)以及薄膜晶体管(TFT)等核心部件加工,还能够应用于微电子、微机电、微光学领域进行各种芯片、传感器、大尺寸光栅、码盘等微纳元件加工及芯片封装。同时该设备还能够在宏观加工领域,完成传统机械加工方式难以实现的薄壁零件等高难度加工,应用领域广泛。
  近日,首家用户中科院西安光学精密机械研究所在光电所举行了设备验收会。西安光机所有关专家听取报告,并对超大面积光刻机设备进行了现场测试与实验,验证了各项性能指标均满足设计要求,对光电所研制水平表示了肯定和赞赏。
  新一代单场超大面积光刻设备,无论是曝光面积、照明不均匀性、光功率密度还是对准精度等核心技术指标都处于国际先进水平。其成功研制对提升我国微细加工设备整体研制水平,促进我国单场超大面积极端微细加工技术发展具有重要的现实意义。
凤凰竹马甲 发表于 2015-9-28 14:24
一句话,,,实在看不出啥来
不好意思,发了一次本帖,屡审不过。于是又发了一句话,准备内容贴在二楼,居然需要审核,刚刚审核通过
光刻机目前能有成熟上市的产品的世界上也就4家,荷兰的ASML是龙头老大差不多有80%的市场份额,日本的尼康和佳能,还有就是中国的SMEE了。SMEE我经常去,产品已经规模化了。国内还有一些研究机构也在搞,不过还不成规模。
这块如果搞成了芯片代工得降价了
这个面积还是很主流了,如果性能指标,尤其是可靠性和稳定性高于同类其他产品,还是很有前途的
这种东西,后来者存在的市场障碍在于,用户一般都会选用市场上久经考验的成熟产品,靠低价是不行的,,,看市场选择吧,不能太乐观
这个面积还是很主流了,如果性能指标,尤其是可靠性和稳定性高于同类其他产品,还是很有前途的
这种东西, ...
说实话,真要够指标,政策倾斜一下是有必要的。
凤凰竹马甲 发表于 2015-9-28 15:28
这个面积还是很主流了,如果性能指标,尤其是可靠性和稳定性高于同类其他产品,还是很有前途的
这种东西, ...

这不是什么看市场选择的问题,这些高端领域我们都要一一拿下的。
来自:关于超级大本营
liebingjia 发表于 2015-9-28 15:39
这不是什么看市场选择的问题,这些高端领域我们都要一一拿下的。
这种东西,不好办
光刻机这种核心设备,设备自身的价值虽然高,但跟整体的投资和预期产出比,又不算什么,而一旦可靠性出现问题,直接损失可以轻轻松松就远远大于设备自身的购买价格,,,所以不好办
国家最多可以对购买国产设备给予补贴,但这种设备,这种 补贴根本起不到多大作用
凤凰竹马甲 发表于 2015-9-28 15:48
这种东西,不好办
光刻机这种核心设备,设备自身的价值虽然高,但跟整体的投资和预期产出比,又不算什么 ...
NO


有国家补贴的东西一般是飞速发展的...


kkdidi 发表于 2015-9-28 15:52
NO
我已经说的很清楚这种设备的特殊性了,如果设备确实好用,补贴是有意义的
如果确实不好用,补贴也没用
这个跟很多行业不一样的
就算搞得再好,下游厂家不用也是然并卵,毕竟下游厂家用惯了洋货的根本看不上鳖货
宏达先生 发表于 2015-9-28 14:32
吹牛皮,就上海那个光机所,当年弄虚作假,造不出光刻机就去国外买了个回来拿去评审验收
说这种话时,请拿出证据来先!
凤凰竹马甲 发表于 2015-9-28 15:57
我已经说的很清楚这种设备的特殊性了,如果设备确实好用,补贴是有意义的
如果确实不好用,补贴也没用
...
不是说这个...


国产的东西可能长时间不好用

就十年时间吧...

国家的投入还是要投...

过了那个节点,就全普及了...

很多产业就是这么过来的....


来自:关于超级大本营
来自:关于超级大本营
关键是,这个规格的光刻机欧美日是否对华禁运?如果敞开随便买,那国产的就很难了。
宏达先生 发表于 2015-9-28 14:32
吹牛皮,就上海那个光机所,当年弄虚作假,造不出光刻机就去国外买了个回来拿去评审验收
搽,还有这事儿。。。给简单说道说道。。。
克林霉素磷酸钠 发表于 2015-9-28 16:04
如果好用,不补贴也大卖,企业最是看重成本,好用又便宜,企业肯定是从少到多逐步购买

来自:关于超级大本 ...
这种设备的采购成本,跟一旦出现问题可能导致的损失,根本不值一提,所以直接设备补贴的吸引力不是那么明显
说实话,看不懂。相当于什么水平啊
芯片个锤子,典型的i线高压汞灯,拿来做液晶显示的也许还凑合,CD值微米或者亚级别(记不准了)。做集成电路就差的远了。
芯片个锤子,典型的i线高压汞灯,拿来做液晶显示的也许还凑合,CD值微米或者亚级别(记不准了)。做集成电 ...
好眼力.........
关键是,这个规格的光刻机欧美日是否对华禁运?如果敞开随便买,那国产的就很难了。
基本上是随便买,佳能的比较好,这个月苏州三星还搬进去车间一台,8代。
国产设备任重道远,而且文中还没有涉及到实际生产中很重要的tact time和up time,不知道是多少~
做mems还行,微电子就算了,精度差太远。
好眼力.........
也许是g线,不知道工作波长是多少,反正汞灯跑不出这俩

wyczmj 发表于 2015-9-28 16:10
搽,还有这事儿。。。给简单说道说道。。。


别听这人胡扯,上海光机所很牛叉的,况且上光所的重点领域是在强激光,那里在做什么光刻机,当然有些光刻机上的单元技术上光所是有研究的
wyczmj 发表于 2015-9-28 16:10
搽,还有这事儿。。。给简单说道说道。。。


别听这人胡扯,上海光机所很牛叉的,况且上光所的重点领域是在强激光,那里在做什么光刻机,当然有些光刻机上的单元技术上光所是有研究的
说这种话时,请拿出证据来先!
爱信信,不信拉倒,说来不起给你看的
这种东西,不好办
光刻机这种核心设备,设备自身的价值虽然高,但跟整体的投资和预期产出比,又不算什么 ...
对啊,光考虑经济效益,老板也很难下决心冒险,采用新设备。
一旦合格率不够,首先要怀疑这个设备。
搽,还有这事儿。。。给简单说道说道。。。
前几年就说他们做了个多少多少纳米的光刻机,还只有个样机!通过了评审,后来就没有然后了,买的别人的东西来糊弄国内的专家,反正评审过了,项目经费拿到了。
别听这人胡扯,上海光机所很牛叉的,况且上光所的重点领域是在强激光,那里在做什么光刻机,当然有些光 ...
牛叉啊牛叉,别人都22nm了,他连个28nm的都搞不定
宏达先生 发表于 2015-9-28 16:39
前几年就说他们做了个多少多少纳米的光刻机,还只有个样机!通过了评审,后来就没有然后了,买的别人的东 ...
我搽,这么恶劣。。
我搽,这么恶劣。。
这算个屁,国内这种情况多了去了!再说光刻机本来就是高大上的设备哪有那么简单。
加工分辨力达到2μm,对准精度±1μm。
嗯,INTEL的Corei5 六代 制作工艺是14nm。
1μm=1000nm。
12寸单晶硅直径是300mm,中科院的加工是矩形650mm×650mm,大可能是他的强项。
当然两者不能直接等同,但是可以看出差距
牛叉啊牛叉,别人都22nm了,他连个28nm的都搞不定
你把制程工艺和设备分辨率搞清楚了?
你把制程工艺和设备分辨率搞清楚了?
这个还用说?你工艺能达到1nm?