超级军网ZT: 中国光刻机十年突破
来源：百度文库 编辑：超级军网 时间：2024/04/29 11:54:39
2013年9月，上海微电子装备有限公司（以下简称“上微”）到台湾参加半导体展。这预示着上微300系列光刻机正式进军LED产业，多款光刻机实现产业化，似乎近在眼前了。
集成电路制造光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备，其研发对集成电路产业和信息产业的发展具有极大的技术带动作用。在此领域，一些发达国家早已“虎踞龙盘”抢占战略竞争优势。然而，十多年前，我国的光刻机技术还犹如一张白纸，一切都得从零开始。
随着国内集成电路产业的发展，科技部决定将此设立为“十五”科技重大专项。国家863计划中，光刻机成为首个以企业为主导开展研究的重大项目。2002年3月，上海微电子装备有限公司成立。十年后，从“无”到“有”，上微已经具备了高端光刻机的系统设计与集成测试的能力，掌握了光刻机多项核心关键技术，并拥有了这一领域的多项自主知识产权，成为世界上继欧洲和日本3家光刻机公司之后的第4家掌握高端光刻机的系统设计与系统集成测试技术的公司。
2009年下半年，首台先进封装光刻机实现了销售并上用户生产线运行，设备性能稳定，得到了客户较高的评价和认同，目前已形成了量产供货能力。2013年8月，首台用于2.5代生产线的新型显示光刻机正式上线。目前，上微已占据国内先进封装光刻机市场80%的份额，并迫使国际竞争对手大幅降低了产品价格。此外，2010年，上微还与上海大学展开合作，SSB200/10 OLED研发光刻机生产出自主知识产权的1.6英寸OLED显示屏，将国产光刻设备用于平板显示领域，在国内实现了零的突破。
上微总经理贺荣明表示：“从制造型国家到创新型国家转型，就必须实现能级的跃迁，抢占产业生态链的高端。”以国家战略需求为导向，政府大胆决策，稳定支持，以企业为纽带，聚合产学研用创新资源，让企业成为技术创新的“主角”，这便是光刻机研制过程中的创新实践经验。（李思瑶）
http://laoyaoba.com/ss6/html/80/n-471080.html
2013年9月，上海微电子装备有限公司（以下简称“上微”）到台湾参加半导体展。这预示着上微300系列光刻机正式进军LED产业，多款光刻机实现产业化，似乎近在眼前了。
集成电路制造光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备，其研发对集成电路产业和信息产业的发展具有极大的技术带动作用。在此领域，一些发达国家早已“虎踞龙盘”抢占战略竞争优势。然而，十多年前，我国的光刻机技术还犹如一张白纸，一切都得从零开始。
随着国内集成电路产业的发展，科技部决定将此设立为“十五”科技重大专项。国家863计划中，光刻机成为首个以企业为主导开展研究的重大项目。2002年3月，上海微电子装备有限公司成立。十年后，从“无”到“有”，上微已经具备了高端光刻机的系统设计与集成测试的能力，掌握了光刻机多项核心关键技术，并拥有了这一领域的多项自主知识产权，成为世界上继欧洲和日本3家光刻机公司之后的第4家掌握高端光刻机的系统设计与系统集成测试技术的公司。
2009年下半年，首台先进封装光刻机实现了销售并上用户生产线运行，设备性能稳定，得到了客户较高的评价和认同，目前已形成了量产供货能力。2013年8月，首台用于2.5代生产线的新型显示光刻机正式上线。目前，上微已占据国内先进封装光刻机市场80%的份额，并迫使国际竞争对手大幅降低了产品价格。此外，2010年，上微还与上海大学展开合作，SSB200/10 OLED研发光刻机生产出自主知识产权的1.6英寸OLED显示屏，将国产光刻设备用于平板显示领域，在国内实现了零的突破。
上微总经理贺荣明表示：“从制造型国家到创新型国家转型，就必须实现能级的跃迁，抢占产业生态链的高端。”以国家战略需求为导向，政府大胆决策，稳定支持，以企业为纽带，聚合产学研用创新资源，让企业成为技术创新的“主角”，这便是光刻机研制过程中的创新实践经验。（李思瑶）
http://laoyaoba.com/ss6/html/80/n-471080.html
中微刻蚀机获得韩国先进存储芯片客户重复订单
2014年2月12日存储在线报道： 中微半导体设备有限公司（简称“中微”）宣布获得韩国先进存储芯片生产厂商购买Primo SSC AD-RIE™（中微单反应台等离子体刻蚀设备）的重复订单。该设备被客户认可为用于16纳米关键闪存芯片加工的首选设备（PTOR），将用于大批量芯片生产。此前，中微的Primo SSC AD-RIE™通过客户生产线上严格的验证，取得了比其他同类竞争产品更加优异的结果。中微现在正在和客户合作研究开发DRAM和3D NAND工艺。中微刻蚀机获得韩国先进存储芯片客户重复订单中微单反应台等离子体刻蚀设备Primo SSC AD-RIE(TM)
中微副总裁兼韩国区总经理尹敬一表示，中微设备成为“PTOR”标志着中微取得了一项重大进展，他说道：“很明显，现在处于世界前沿的客户不单单想从供应商那儿寻找新设备，他们还希望能够为复杂的生产过程带来的挑战寻求全面解决方案。这就要求先进技术和相关专业知识紧密联系在一起，正是依靠这种模式，我们为该客户解决了生产过程中碰到的各种问题，使得客户的闪存芯片开发取得新的进展。”
Primo SSC AD-RIE™是中微Primo系列第三代、也是最新一代刻蚀设备产品，能够满足超高产能、优异的芯片加工质量和芯片刻蚀技术可延展性等严苛的技术要求。Primo SSC AD-RIE™的晶圆传递平台可配置多达6个单晶圆加工反应器，每个反应器可以独立地设定加工条件，从而灵活地实现精准的工艺控制。每个反应器有极高的抽速，并有多区气体分布、动态射频功率以及多区温度控制等可独立调节的工艺参数。而在线工艺微调和稳固的腔体设计避免了高深宽比刻蚀工艺中常出现的刻蚀停止现象以及工艺飘移现象的发生，从而提高刻蚀的重复性并更容易实现反应器之间的良好匹配，能够大大提高生产效率。
中微刻蚀设备的一大关键优势在于它的配置极具灵活性。它在同一个主机系统上可以配备双反应器实现高产出和低成本，或者也可以配备单反应器以满足关键刻蚀工艺中高抽速等要求。这种配置的灵活性还体现在气体控制系统的安装上，他们既可以置于地面以便于维护，也可以置于设备上方以减少占地面积。
Primo SSC AD-RIE和Primo D-RIE是中微的注册商标。
2014年2月12日存储在线报道： 中微半导体设备有限公司（简称“中微”）宣布获得韩国先进存储芯片生产厂商购买Primo SSC AD-RIE™（中微单反应台等离子体刻蚀设备）的重复订单。该设备被客户认可为用于16纳米关键闪存芯片加工的首选设备（PTOR），将用于大批量芯片生产。此前，中微的Primo SSC AD-RIE™通过客户生产线上严格的验证，取得了比其他同类竞争产品更加优异的结果。中微现在正在和客户合作研究开发DRAM和3D NAND工艺。中微刻蚀机获得韩国先进存储芯片客户重复订单中微单反应台等离子体刻蚀设备Primo SSC AD-RIE(TM)
中微副总裁兼韩国区总经理尹敬一表示，中微设备成为“PTOR”标志着中微取得了一项重大进展，他说道：“很明显，现在处于世界前沿的客户不单单想从供应商那儿寻找新设备，他们还希望能够为复杂的生产过程带来的挑战寻求全面解决方案。这就要求先进技术和相关专业知识紧密联系在一起，正是依靠这种模式，我们为该客户解决了生产过程中碰到的各种问题，使得客户的闪存芯片开发取得新的进展。”
Primo SSC AD-RIE™是中微Primo系列第三代、也是最新一代刻蚀设备产品，能够满足超高产能、优异的芯片加工质量和芯片刻蚀技术可延展性等严苛的技术要求。Primo SSC AD-RIE™的晶圆传递平台可配置多达6个单晶圆加工反应器，每个反应器可以独立地设定加工条件，从而灵活地实现精准的工艺控制。每个反应器有极高的抽速，并有多区气体分布、动态射频功率以及多区温度控制等可独立调节的工艺参数。而在线工艺微调和稳固的腔体设计避免了高深宽比刻蚀工艺中常出现的刻蚀停止现象以及工艺飘移现象的发生，从而提高刻蚀的重复性并更容易实现反应器之间的良好匹配，能够大大提高生产效率。
中微刻蚀设备的一大关键优势在于它的配置极具灵活性。它在同一个主机系统上可以配备双反应器实现高产出和低成本，或者也可以配备单反应器以满足关键刻蚀工艺中高抽速等要求。这种配置的灵活性还体现在气体控制系统的安装上，他们既可以置于地面以便于维护，也可以置于设备上方以减少占地面积。
Primo SSC AD-RIE和Primo D-RIE是中微的注册商标。
不明觉厉！
这太好了！
中微刻蚀机获得韩国先进存储芯片客户重复订单
2014年2月12日存储在线报道： 中微半导体设备有限公司（简称“中微”）宣布获得韩国先进存储芯片生产厂商购买Primo SSC AD-RIE™（中微单反应台等离子体刻蚀设备）的重复订单。该设备被客户认可为用于16纳米关键闪存芯片加工的首选设备（PTOR），将用于大批量芯片生产。此前，中微的Primo SSC AD-RIE™通过客户生产线上严格的验证，取得了比其他同类竞争产品更加优异的结果。中微现在正在和客户合作研究开发DRAM和3D NAND工艺。中微刻蚀机获得韩国先进存储芯片客户重复订单中微单反应台等离子体刻蚀设备Primo SSC AD-RIE(TM)
中微副总裁兼韩国区总经理尹敬一表示，中微设备成为“PTOR”标志着中微取得了一项重大进展，他说道：“很明显，现在处于世界前沿的客户不单单想从供应商那儿寻找新设备，他们还希望能够为复杂的生产过程带来的挑战寻求全面解决方案。这就要求先进技术和相关专业知识紧密联系在一起，正是依靠这种模式，我们为该客户解决了生产过程中碰到的各种问题，使得客户的闪存芯片开发取得新的进展。”
Primo SSC AD-RIE™是中微Primo系列第三代、也是最新一代刻蚀设备产品，能够满足超高产能、优异的芯片加工质量和芯片刻蚀技术可延展性等严苛的技术要求。Primo SSC AD-RIE™的晶圆传递平台可配置多达6个单晶圆加工反应器，每个反应器可以独立地设定加工条件，从而灵活地实现精准的工艺控制。每个反应器有极高的抽速，并有多区气体分布、动态射频功率以及多区温度控制等可独立调节的工艺参数。而在线工艺微调和稳固的腔体设计避免了高深宽比刻蚀工艺中常出现的刻蚀停止现象以及工艺飘移现象的发生，从而提高刻蚀的重复性并更容易实现反应器之间的良好匹配，能够大大提高生产效率。
中微刻蚀设备的一大关键优势在于它的配置极具灵活性。它在同一个主机系统上可以配备双反应器实现高产出和低成本，或者也可以配备单反应器以满足关键刻蚀工艺中高抽速等要求。这种配置的灵活性还体现在气体控制系统的安装上，他们既可以置于地面以便于维护，也可以置于设备上方以减少占地面积。
Primo SSC AD-RIE和Primo D-RIE是中微的注册商标。
2014年2月12日存储在线报道： 中微半导体设备有限公司（简称“中微”）宣布获得韩国先进存储芯片生产厂商购买Primo SSC AD-RIE™（中微单反应台等离子体刻蚀设备）的重复订单。该设备被客户认可为用于16纳米关键闪存芯片加工的首选设备（PTOR），将用于大批量芯片生产。此前，中微的Primo SSC AD-RIE™通过客户生产线上严格的验证，取得了比其他同类竞争产品更加优异的结果。中微现在正在和客户合作研究开发DRAM和3D NAND工艺。中微刻蚀机获得韩国先进存储芯片客户重复订单中微单反应台等离子体刻蚀设备Primo SSC AD-RIE(TM)
中微副总裁兼韩国区总经理尹敬一表示，中微设备成为“PTOR”标志着中微取得了一项重大进展，他说道：“很明显，现在处于世界前沿的客户不单单想从供应商那儿寻找新设备，他们还希望能够为复杂的生产过程带来的挑战寻求全面解决方案。这就要求先进技术和相关专业知识紧密联系在一起，正是依靠这种模式，我们为该客户解决了生产过程中碰到的各种问题，使得客户的闪存芯片开发取得新的进展。”
Primo SSC AD-RIE™是中微Primo系列第三代、也是最新一代刻蚀设备产品，能够满足超高产能、优异的芯片加工质量和芯片刻蚀技术可延展性等严苛的技术要求。Primo SSC AD-RIE™的晶圆传递平台可配置多达6个单晶圆加工反应器，每个反应器可以独立地设定加工条件，从而灵活地实现精准的工艺控制。每个反应器有极高的抽速，并有多区气体分布、动态射频功率以及多区温度控制等可独立调节的工艺参数。而在线工艺微调和稳固的腔体设计避免了高深宽比刻蚀工艺中常出现的刻蚀停止现象以及工艺飘移现象的发生，从而提高刻蚀的重复性并更容易实现反应器之间的良好匹配，能够大大提高生产效率。
中微刻蚀设备的一大关键优势在于它的配置极具灵活性。它在同一个主机系统上可以配备双反应器实现高产出和低成本，或者也可以配备单反应器以满足关键刻蚀工艺中高抽速等要求。这种配置的灵活性还体现在气体控制系统的安装上，他们既可以置于地面以便于维护，也可以置于设备上方以减少占地面积。
Primo SSC AD-RIE和Primo D-RIE是中微的注册商标。
光吹有毛用，好多东西都是实验室的东西，能应用到实际商业生产中才有用，22纳米的芯片都有技术了但是实际大规模产品这么多年没看见。
很厉害，继续加油
木木毛毛 发表于 2014-3-6 19:43
光吹有毛用，好多东西都是实验室的东西，能应用到实际商业生产中才有用，22纳米的芯片都有技术了但是实际大 ...
“上微已占据国内先进封装光刻机市场80%的份额，并迫使国际竞争对手大幅降低了产品价格。”
看清楚再来
木木毛毛 发表于 2014-3-6 19:43
光吹有毛用，好多东西都是实验室的东西，能应用到实际商业生产中才有用，22纳米的芯片都有技术了但是实际大 ...
“上微已占据国内先进封装光刻机市场80%的份额，并迫使国际竞争对手大幅降低了产品价格。”
看清楚再来
中微刻蚀机获得韩国先进存储芯片客户重复订单
2014年2月12日存储在线报道： 中微半导体设备有限公司（简称“中微”）宣布获得韩国先进存储芯片生产厂商购买Primo SSC AD-RIE™（中微单反应台等离子体刻蚀设备）的重复订单。该设备被客户认可为用于16纳米关键闪存芯片加工的首选设备（PTOR），将用于大批量芯片生产。此前，中微的Primo SSC AD-RIE™通过客户生产线上严格的验证，取得了比其他同类竞争产品更加优异的结果。中微现在正在和客户合作研究开发DRAM和3D NAND工艺。中微刻蚀机获得韩国先进存储芯片客户重复订单中微单反应台等离子体刻蚀设备Primo SSC AD-RIE(TM)
中微副总裁兼韩国区总经理尹敬一表示，中微设备成为“PTOR”标志着中微取得了一项重大进展，他说道：“很明显，现在处于世界前沿的客户不单单想从供应商那儿寻找新设备，他们还希望能够为复杂的生产过程带来的挑战寻求全面解决方案。这就要求先进技术和相关专业知识紧密联系在一起，正是依靠这种模式，我们为该客户解决了生产过程中碰到的各种问题，使得客户的闪存芯片开发取得新的进展。”
Primo SSC AD-RIE™是中微Primo系列第三代、也是最新一代刻蚀设备产品，能够满足超高产能、优异的芯片加工质量和芯片刻蚀技术可延展性等严苛的技术要求。Primo SSC AD-RIE™的晶圆传递平台可配置多达6个单晶圆加工反应器，每个反应器可以独立地设定加工条件，从而灵活地实现精准的工艺控制。每个反应器有极高的抽速，并有多区气体分布、动态射频功率以及多区温度控制等可独立调节的工艺参数。而在线工艺微调和稳固的腔体设计避免了高深宽比刻蚀工艺中常出现的刻蚀停止现象以及工艺飘移现象的发生，从而提高刻蚀的重复性并更容易实现反应器之间的良好匹配，能够大大提高生产效率。
中微刻蚀设备的一大关键优势在于它的配置极具灵活性。它在同一个主机系统上可以配备双反应器实现高产出和低成本，或者也可以配备单反应器以满足关键刻蚀工艺中高抽速等要求。这种配置的灵活性还体现在气体控制系统的安装上，他们既可以置于地面以便于维护，也可以置于设备上方以减少占地面积。
Primo SSC AD-RIE和Primo D-RIE是中微的注册商标。
2014年2月12日存储在线报道： 中微半导体设备有限公司（简称“中微”）宣布获得韩国先进存储芯片生产厂商购买Primo SSC AD-RIE™（中微单反应台等离子体刻蚀设备）的重复订单。该设备被客户认可为用于16纳米关键闪存芯片加工的首选设备（PTOR），将用于大批量芯片生产。此前，中微的Primo SSC AD-RIE™通过客户生产线上严格的验证，取得了比其他同类竞争产品更加优异的结果。中微现在正在和客户合作研究开发DRAM和3D NAND工艺。中微刻蚀机获得韩国先进存储芯片客户重复订单中微单反应台等离子体刻蚀设备Primo SSC AD-RIE(TM)
中微副总裁兼韩国区总经理尹敬一表示，中微设备成为“PTOR”标志着中微取得了一项重大进展，他说道：“很明显，现在处于世界前沿的客户不单单想从供应商那儿寻找新设备，他们还希望能够为复杂的生产过程带来的挑战寻求全面解决方案。这就要求先进技术和相关专业知识紧密联系在一起，正是依靠这种模式，我们为该客户解决了生产过程中碰到的各种问题，使得客户的闪存芯片开发取得新的进展。”
Primo SSC AD-RIE™是中微Primo系列第三代、也是最新一代刻蚀设备产品，能够满足超高产能、优异的芯片加工质量和芯片刻蚀技术可延展性等严苛的技术要求。Primo SSC AD-RIE™的晶圆传递平台可配置多达6个单晶圆加工反应器，每个反应器可以独立地设定加工条件，从而灵活地实现精准的工艺控制。每个反应器有极高的抽速，并有多区气体分布、动态射频功率以及多区温度控制等可独立调节的工艺参数。而在线工艺微调和稳固的腔体设计避免了高深宽比刻蚀工艺中常出现的刻蚀停止现象以及工艺飘移现象的发生，从而提高刻蚀的重复性并更容易实现反应器之间的良好匹配，能够大大提高生产效率。
中微刻蚀设备的一大关键优势在于它的配置极具灵活性。它在同一个主机系统上可以配备双反应器实现高产出和低成本，或者也可以配备单反应器以满足关键刻蚀工艺中高抽速等要求。这种配置的灵活性还体现在气体控制系统的安装上，他们既可以置于地面以便于维护，也可以置于设备上方以减少占地面积。
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中微副总裁兼韩国区总经理尹敬一表示，中微设备成为“PTOR”标志着中微取得了一项重大进展，他说道：“很明显，现在处于世界前沿的客户不单单想从供应商那儿寻找新设备，他们还希望能够为复杂的生产过程带来的挑战寻求全面解决方案。这就要求先进技术和相关专业知识紧密联系在一起，正是依靠这种模式，我们为该客户解决了生产过程中碰到的各种问题，使得客户的闪存芯片开发取得新的进展。”
Primo SSC AD-RIE™是中微Primo系列第三代、也是最新一代刻蚀设备产品，能够满足超高产能、优异的芯片加工质量和芯片刻蚀技术可延展性等严苛的技术要求。Primo SSC AD-RIE™的晶圆传递平台可配置多达6个单晶圆加工反应器，每个反应器可以独立地设定加工条件，从而灵活地实现精准的工艺控制。每个反应器有极高的抽速，并有多区气体分布、动态射频功率以及多区温度控制等可独立调节的工艺参数。而在线工艺微调和稳固的腔体设计避免了高深宽比刻蚀工艺中常出现的刻蚀停止现象以及工艺飘移现象的发生，从而提高刻蚀的重复性并更容易实现反应器之间的良好匹配，能够大大提高生产效率。
中微刻蚀设备的一大关键优势在于它的配置极具灵活性。它在同一个主机系统上可以配备双反应器实现高产出和低成本，或者也可以配备单反应器以满足关键刻蚀工艺中高抽速等要求。这种配置的灵活性还体现在气体控制系统的安装上，他们既可以置于地面以便于维护，也可以置于设备上方以减少占地面积。
Primo SSC AD-RIE和Primo D-RIE是中微的注册商标。
2014年2月12日存储在线报道： 中微半导体设备有限公司（简称“中微”）宣布获得韩国先进存储芯片生产厂商购买Primo SSC AD-RIE™（中微单反应台等离子体刻蚀设备）的重复订单。该设备被客户认可为用于16纳米关键闪存芯片加工的首选设备（PTOR），将用于大批量芯片生产。此前，中微的Primo SSC AD-RIE™通过客户生产线上严格的验证，取得了比其他同类竞争产品更加优异的结果。中微现在正在和客户合作研究开发DRAM和3D NAND工艺。中微刻蚀机获得韩国先进存储芯片客户重复订单中微单反应台等离子体刻蚀设备Primo SSC AD-RIE(TM)
中微副总裁兼韩国区总经理尹敬一表示，中微设备成为“PTOR”标志着中微取得了一项重大进展，他说道：“很明显，现在处于世界前沿的客户不单单想从供应商那儿寻找新设备，他们还希望能够为复杂的生产过程带来的挑战寻求全面解决方案。这就要求先进技术和相关专业知识紧密联系在一起，正是依靠这种模式，我们为该客户解决了生产过程中碰到的各种问题，使得客户的闪存芯片开发取得新的进展。”
Primo SSC AD-RIE™是中微Primo系列第三代、也是最新一代刻蚀设备产品，能够满足超高产能、优异的芯片加工质量和芯片刻蚀技术可延展性等严苛的技术要求。Primo SSC AD-RIE™的晶圆传递平台可配置多达6个单晶圆加工反应器，每个反应器可以独立地设定加工条件，从而灵活地实现精准的工艺控制。每个反应器有极高的抽速，并有多区气体分布、动态射频功率以及多区温度控制等可独立调节的工艺参数。而在线工艺微调和稳固的腔体设计避免了高深宽比刻蚀工艺中常出现的刻蚀停止现象以及工艺飘移现象的发生，从而提高刻蚀的重复性并更容易实现反应器之间的良好匹配，能够大大提高生产效率。
中微刻蚀设备的一大关键优势在于它的配置极具灵活性。它在同一个主机系统上可以配备双反应器实现高产出和低成本，或者也可以配备单反应器以满足关键刻蚀工艺中高抽速等要求。这种配置的灵活性还体现在气体控制系统的安装上，他们既可以置于地面以便于维护，也可以置于设备上方以减少占地面积。
Primo SSC AD-RIE和Primo D-RIE是中微的注册商标。