鲜为人知的故事:台积电员工林本坚力推浸没式光刻机,从此 ...

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台积电浸润式显影功臣 林本坚:22奈米制程从天空找灵感
发布:2007/4/10 18:51:06|作者:--|来源:|查看:42次
台积电(2330)将于2007年9月正式投入45奈米制程量产!这是台积电首次以自行创发、与设备商共同开发的浸润式微显影设备投产的制程技术,也距离创发人、台积电资深处长林本坚提出这构想足足将近5年之久。从梦想初生到美梦成真,除了印证半导体界的共同努力之外,林本坚的执着及他对科技有如宗教般坚定不移的信仰支撑,绝对是一大功臣。
台积电采用193波长曝光设备,量产45奈米制程,这套设备之所以引人瞩目,在于不同以往的“干式”制程,而是“湿式”机台。过去干式曝光显影是在无尘室中,以空气为媒介进行,透过光罩在晶圆上显影;而浸润式微影则是以水为透镜,在晶圆与光源间注入纯水,波长光束透过“水”为中介,会缩短成更短波长,得以刻出更精密晶片。就是这项发明,让半导体的摩尔定律得以朝45奈米制程之后沿续。
时间回溯到2002年,林本坚受邀参加一场国际光电学会技术研讨会,会中他发表这项发现,语惊四座,因为当时的半导体设备商多研发焦点放在如何延续干式机台的生命,并已耗费数十亿美元进行开发。林本坚的理论无疑是在业界投出一颗炸弹,但经过他无数研讨会努力奔走、寻找与设备商合作,最后,台积电在2004年与ASML共同完成开发全球第一台润式微影机台,让业界在震惊之余也刮目相看。
如今,浸润式显影不但是英特尔(Intel)等半导体龙头、设备商所认定的跨入45奈米制程之后的解决方案,也已正式纳入国际半导体蓝图架构成为主流。回顾过去林本坚提出的“一滴水”理论,过了5年,台积电终于将在2007年下半正式用来量产。林本坚的“微物”论改变的半导体技术的进展,也改变由晶片所驱动的世界,现在的他,则投入22奈米制程之后设备研究,不同的是,这次灵感来自“天空”。
林本坚说,22奈米制程之后多重直接式电子束(E-Beam Direct Write)将是最佳解决方案,他说航太工程的演进给了他许多灵感,他巧妙地比喻,现在许多设备商投入的EUV设备就像是太空梭一样成本太昂贵,又不适合载客,E-Beam就是向不需要飞行跑道的直升机,可以直接空降在晶圆上,灵巧又符合成本效益。看来“一沙一世界、一奈米一宇宙”这句话用在他身上再洽当也不过了。台积电浸润式显影功臣 林本坚:22奈米制程从天空找灵感
发布:2007/4/10 18:51:06|作者:--|来源:|查看:42次
台积电(2330)将于2007年9月正式投入45奈米制程量产!这是台积电首次以自行创发、与设备商共同开发的浸润式微显影设备投产的制程技术,也距离创发人、台积电资深处长林本坚提出这构想足足将近5年之久。从梦想初生到美梦成真,除了印证半导体界的共同努力之外,林本坚的执着及他对科技有如宗教般坚定不移的信仰支撑,绝对是一大功臣。
台积电采用193波长曝光设备,量产45奈米制程,这套设备之所以引人瞩目,在于不同以往的“干式”制程,而是“湿式”机台。过去干式曝光显影是在无尘室中,以空气为媒介进行,透过光罩在晶圆上显影;而浸润式微影则是以水为透镜,在晶圆与光源间注入纯水,波长光束透过“水”为中介,会缩短成更短波长,得以刻出更精密晶片。就是这项发明,让半导体的摩尔定律得以朝45奈米制程之后沿续。
时间回溯到2002年,林本坚受邀参加一场国际光电学会技术研讨会,会中他发表这项发现,语惊四座,因为当时的半导体设备商多研发焦点放在如何延续干式机台的生命,并已耗费数十亿美元进行开发。林本坚的理论无疑是在业界投出一颗炸弹,但经过他无数研讨会努力奔走、寻找与设备商合作,最后,台积电在2004年与ASML共同完成开发全球第一台润式微影机台,让业界在震惊之余也刮目相看。
如今,浸润式显影不但是英特尔(Intel)等半导体龙头、设备商所认定的跨入45奈米制程之后的解决方案,也已正式纳入国际半导体蓝图架构成为主流。回顾过去林本坚提出的“一滴水”理论,过了5年,台积电终于将在2007年下半正式用来量产。林本坚的“微物”论改变的半导体技术的进展,也改变由晶片所驱动的世界,现在的他,则投入22奈米制程之后设备研究,不同的是,这次灵感来自“天空”。
林本坚说,22奈米制程之后多重直接式电子束(E-Beam Direct Write)将是最佳解决方案,他说航太工程的演进给了他许多灵感,他巧妙地比喻,现在许多设备商投入的EUV设备就像是太空梭一样成本太昂贵,又不适合载客,E-Beam就是向不需要飞行跑道的直升机,可以直接空降在晶圆上,灵巧又符合成本效益。看来“一沙一世界、一奈米一宇宙”这句话用在他身上再洽当也不过了。
台积电浸润式显影功臣 林本坚:22奈米制程从天空找灵感
发布:2007/4/10 18:51:06|作者:--|来源:|查看:42次
台积电(2330)将于2007年9月正式投入45奈米制程量产!这是台积电首次以自行创发、与设备商共同开发的浸润式微显影设备投产的制程技术,也距离创发人、台积电资深处长林本坚提出这构想足足将近5年之久。从梦想初生到美梦成真,除了印证半导体界的共同努力之外,林本坚的执着及他对科技有如宗教般坚定不移的信仰支撑,绝对是一大功臣。
台积电采用193波长曝光设备,量产45奈米制程,这套设备之所以引人瞩目,在于不同以往的“干式”制程,而是“湿式”机台。过去干式曝光显影是在无尘室中,以空气为媒介进行,透过光罩在晶圆上显影;而浸润式微影则是以水为透镜,在晶圆与光源间注入纯水,波长光束透过“水”为中介,会缩短成更短波长,得以刻出更精密晶片。就是这项发明,让半导体的摩尔定律得以朝45奈米制程之后沿续。
时间回溯到2002年,林本坚受邀参加一场国际光电学会技术研讨会,会中他发表这项发现,语惊四座,因为当时的半导体设备商多研发焦点放在如何延续干式机台的生命,并已耗费数十亿美元进行开发。林本坚的理论无疑是在业界投出一颗炸弹,但经过他无数研讨会努力奔走、寻找与设备商合作,最后,台积电在2004年与ASML共同完成开发全球第一台润式微影机台,让业界在震惊之余也刮目相看。
如今,浸润式显影不但是英特尔(Intel)等半导体龙头、设备商所认定的跨入45奈米制程之后的解决方案,也已正式纳入国际半导体蓝图架构成为主流。回顾过去林本坚提出的“一滴水”理论,过了5年,台积电终于将在2007年下半正式用来量产。林本坚的“微物”论改变的半导体技术的进展,也改变由晶片所驱动的世界,现在的他,则投入22奈米制程之后设备研究,不同的是,这次灵感来自“天空”。
林本坚说,22奈米制程之后多重直接式电子束(E-Beam Direct Write)将是最佳解决方案,他说航太工程的演进给了他许多灵感,他巧妙地比喻,现在许多设备商投入的EUV设备就像是太空梭一样成本太昂贵,又不适合载客,E-Beam就是向不需要飞行跑道的直升机,可以直接空降在晶圆上,灵巧又符合成本效益。看来“一沙一世界、一奈米一宇宙”这句话用在他身上再洽当也不过了。
张忠谋的爱将林本坚让台积电在未来八年技术领先

未来半导体发展关卡在微影技术,全球专精此技术的不超过十人,林本坚是其中排名很前面的一位, 他的一九三奈米浸润式微影,改写了全世界半导体的微影蓝图。 「就是这个光!」台积电微制像技术发展处资深处长林本坚,一生都在追求心目中最理想 的光,他利用(光)波长的变化,不断改写半导体的历史。 十一月初,台积电正式启用全世界第一台一九三奈米「浸润式微影技术」(Immersion Lithography)机台,正式跨入六十五奈米线宽世代的生产。这项技术的突破让将台积电 足以一口气跳跃成长三个技术世代,也让全世界半导体产业把这项技术列为今后六十五、 四十五及三十二奈米线宽制程的主流。也就是说,台积电在二○一二年前都将保有这项技 术领先的位置。

十月初,美国《新闻周刊》才以「浸润在水里的晶片」为题,指出台积电利用浸润式技术, 晋升至一线晶片制造商行列,令台积电设计能力足够和IBM及英特尔等半导体厂商并驾 齐驱。美林证券亚太区半导体首席分析师何浩铭(Daniel Heyler)更表示,台积电走在晶 片产业的最前线。 去年七月,台积电董事长张忠谋为鼓励创新,颁发「创新奖」给研发有功人员,排名第一 的林本坚,因为这项让台积电奈米技术三级跳的成就「拿了一大笔奖金」。奖金有多高? 林本坚神秘地笑说无法透露,但已足以说明张忠谋对他的器重。

林本坚很小就展现对光学的兴趣,十三岁母亲将一台老式六X九相机送给他,他利用相机 的成像原理,把它改成一台放大机,「我把父亲的照片放上去,又弄一个玻璃片,画了胡 子,两张叠在一起,就合成出爸爸长胡子的照片。」他呵呵笑出来,眼神闪出年少神采, 口音里流露出一股绵软柔细的越南尾韵。 六X九相机 开启光学少年的探索兴趣 他出生於越南,在西贡附近的堤岸市长大,家境优渥。父亲是当地英文中学校长,外祖父 是船商,他在越南受过完整的华侨教育。高三那年,他独立一人远渡来台就读新竹中学, 隔年考上台大电机系。台大电机时代,林本坚特别著迷结合物理和数学的电磁波学,后来 他到美国俄亥俄州立大学投入於当时新兴雷射研究。到他攻读博士,全像学(Holography, 雷射光立体摄影术)当红,他站在这股浪潮上,一头栽入。全像学可以将三度空间里每一 点的资料录下来,包括能完整保存光的绕射(diffraction)所有资讯,他以全像学完成博士 论文。 林本坚很能掌握到这些绕到背后的光线,这些精确掌握的能力令他在IBM从事微影技术 研究时,如鱼得水。他那时常想,自己穷一生之力,都买不下这些昂贵的超级电脑,於是 他像得到宝物似的每天实验、运算,使他得以自发开发很多电脑模拟程式。 他太太回忆著,那时他们大女儿才刚出生不久,林本坚却常下班回家吃完饭,又匆匆回研 究室,他整个心思被光的追求填满,内心燃烧的欲念不断驱动他前进。他自己都说:「有 一次我做实验,一直做,忽然发觉外头怎麼车声人声很吵,原来不知不觉天就亮了。」 IBM期间 养成凡事领先的个性习惯 一九七○到一九九二年林本坚在IBM工作期间,他带领团队研发出一微米、○?七五微米、 ○?五微米的光刻技术,每一步跃进在当时都是世界第一。林本坚说:「我们在IBM做研 究,我们一定要比世界早几步。IBM就是有这种『坏习惯』,凡事要领先,我自己也是 这种个性,才会在IBM待这麼久。」总计至今,他发表论文六十三篇,获美国三十五项 专利。 今年六十二岁的林本坚,他的人生彷佛是由很多「超前」的纪录所累积而成。一九七五年, 他做出当时光刻技术最短波长的光线,「那时没有人知道怎麼叫它,我把它叫『深紫外 线』(Deep UV)的光线,」这种由林本坚命名的光线,直到三十年后的今天仍被广泛应用, 变成光刻显影技术的主流。


一九八六年,林本坚就认为微影技术要再发展下去,就必须从 乾式转向浸润式(Immersion)微影技术。 用浅显的比喻来说,「浸润」就像我们在水里游泳时,不戴蛙镜直接把眼睛睁开,因为光 波改变,我们所看到的世界完全便不同。林本坚在原本一九三奈米乾式微影镜头前上一层 一公厘至二公厘的水,让光波变小。光波越小解析度就越强,刻出的电路越精密,制造出 的晶片也就越小,让半导体产业继续往摩尔定律前进。 两年前,全世界半导体界工程师发现一五七奈米波长的光刻技术(Optical lithography) 已经走到山穷水尽,当时,半导体设备厂商投下超过十亿美元在一五七显影设备上,在光 源、显影剂、光罩及蚀刻材料花费钜资大幅翻新,但却始终困难重重,因为光束无法在晶 片上精确定位,不能蚀刻出有效的电路。

走不同的路 善用一九三奈米波光的魔术

面对一五七奈米波长技术「撞墙」的局面,领导世界「光刻」界长达三十年的「Burn Lin」(林本坚的英文名字)认为与其拚命往一五七奈米波长去钻研,倒不如回头善用一九 三奈米波长的光。只是这里要玩一点光的魔术,才能追求到他要的光线,就像把筷子插入 玻璃杯,水里的筷子立刻折弯的物理现象,林本坚发现一九三奈米波长的光线,透过水的 中介,就能让它缩短至一三四奈米,远低於一五七奈米波长。 但当时世界主要半导体大厂钱都砸了,头都剃了一半,便一股脑儿地往一五七奈米看,想 在这块技术岩盘里,继续破凿出一条血路,於是林本坚的话,没有多少人听进去。 但两年前,一场神奇的转捩点发生了。当时林本坚受邀远赴比利时参加一场以一五七奈米 为主旨的研讨会,原本大会只是找他去讲浸润原理「点缀」一下,没想到轮到他发表演说 时,却上演了一场木马屠城记。他对著会场二百多位半导体业者清楚运算出,「一九三奈 米光波,透过水的折射率一?四四,我把它一除发现,唉呀,不得了,我找到了一三四奈 米波长的光波,大家听到一三四,全都睁大眼睛。之后,大家把原本讨论的一五七奈米都 丢一边了,全部围绕在一九三浸润式的话题上。」

如今随著一九三奈米浸润式微影机台的进驻,台积电也首次主导业界规格,原本IBM及 比利时微电子研究中心(IMEC)等十家已订购一五七乾式机台的国际半导体厂,全数退 单,跟进台积电,改订一九三浸润式机台。 这些年来,频频奔走於国际研讨会,以传教士精神鼓吹浸润式技术的林本坚,看到现今的 成果,也不觉露出浅浅的、谦逊的微笑,证明他过去几年的努力没有白费。 「以前我一直以为水到一九三奈米光波就死了,没想到它到一九三还没死,而且透光度很 高;不只透光度高,折射率反而变好。就在水将死未死的边缘,是它最好的菁华。」在林 本坚眼中,「水」像被赋予生命一样,有死有活。 浸润式技术 让台积电先驰得点 「水是一个大神迹,水在摄氏四度时密度最高,到零度结冰时浮到水面形成保护层,让冰 下的鱼不致被冻死,这是个大神迹。」十四岁就信仰上帝的林本坚更有一种奇特的「半导 体神学观」∶「用在一九三奈米,水的折射率在这波长特高,又非常透光,而且水被半导 体工业广泛使用,没有阻力。是神救了鱼之后,照顾半导体工业的另一神迹


我仔细看了一下日期,确认不是个坟。

顺便LZ不是张忠谋搬来的救兵吗

我仔细看了一下日期,确认不是个坟。

顺便LZ不是张忠谋搬来的救兵吗
我仔细看了一下日期,确认不是个坟。

顺便LZ不是张忠谋搬来的救兵吗
你的心理这么脆弱,讲一讲台积电是怎么在代工业异军突起的就受不了呢?
湾湾现在也只剩芯片代工有点优势了,五年后,不懂台湾还拿什么来吹牛。
湾湾现在也只剩芯片代工有点优势了,五年后,不懂台湾还拿什么来吹牛。
五年内,国内超过台积电?
===
2014年,台积电营收251.75亿美元,台联电营收46.2亿美元,中芯国际,2014年营收同比下降了4.8%,19.7亿美元
你的心理这么脆弱,讲一讲台积电是怎么在代工业异军突起的就受不了呢?

你不更脆,别人吐槽二句就要跳了?

要不来句嘎嘣脆,鸡肉味。
我还以为只有tg才会写这种文章……
五年内,国内超过台积电?
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2014年,台积电营收251.75亿美元,台联电营收46.2亿美元,中芯国际,201 ...
五年前国内的液晶面板产业什么情况?现在呢?国内有资金有市场,用钱都能砸死台积电。
大基金才刚成立,投资了几个小项目而已,等10年后再说吧。
五年前国内的液晶面板产业什么情况?现在呢?国内有资金有市场,用钱都能砸死台积电。
京东方2010年营收80.3亿元,2014年营收368亿元
五年前国内的液晶面板产业什么情况?现在呢?国内有资金有市场,用钱都能砸死台积电。
面板和半导体能一样吗,
面板生产线只是尺寸规格不同,
半导体只有最先进的工艺才能抢到订单
台鸡店只是提出浸润这个概念,,实际这个光刻技术研制哪有它事,,都是ASML和IMEC的事情,,下一步的EUV极深紫外就更没它鸡店的事了。。
越往后越难了,摩尔定律已经失效了
来自:关于超级大本营
台鸡店只是提出浸润这个概念,,实际这个光刻技术研制哪有它事,,都是ASML和IMEC的事情,,下一步的EUV极 ...
    前言:本发明是有关于一种浸没式微影设备及制程。适用于半导体制造程序之中的浸没式微影系统,其提供了一对着晶圆表面移动的镜头组件,并包括了一与镜头组件组装在一起,顺着镜头组件移动的喷嘴及排水组件。喷嘴与排水组件可被环绕配置于镜头周围,并且彼此相对,或者可提供一包括复数个交替配置的可选择性喷嘴及排水设备的环圈,环绕于镜头周围,其中喷嘴及排水组件是可围绕着镜头作转动的。正在进行图刻程序的晶圆至少会有一部份被沉浸于喷嘴组件所提供的液体中,而液流方向可经由操作喷嘴与排水组件来加以控制。可将液流方向指向外侧,如此有助于减轻微粒子污染现象。
   
申    请    号: 200510115212.5 申   请   日: 2005.11.11
名          称:  浸没式微影设备及制程
公开 (公告) 号: CN1963675 公开(公告)日: 2007.05.16
主  分  类  号:  G03F7/20(2006.01)I 分案原申请号:
分    类    号: G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I
颁   证     日:   优   先   权:
申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
地          址: 台湾省新竹市新竹科学工业园区新竹市力行六路8号
发 明 (设计)人: 高蔡胜;陈俊光;刘如淦;林本坚 国  际 申 请:
国  际  公  布:  进入国家日期:
专利 代理 机构: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代   理   人: 寿 宁;张华辉
前言:本发明是有关于一种浸没式微影设备及制程。适用于半导体制造程序之中的浸没式微影系统,其提供 ...
好啦,别吹啦,,专利多去了。。核心专利懂吗?

普罗米修斯王 发表于 2015-7-2 09:12
台鸡店只是提出浸润这个概念,,实际这个光刻技术研制哪有它事,,都是ASML和IMEC的事情,,下一步的EUV极 ...


提出浸润这个概念很差吗?他使众多的代工厂投巨资的193纳米设备和技术顺利持续到45纳米和28纳米两个阶段,并且现在28纳米制程还是台积电的聚宝盆,印钞机,而且EUV的投资极大以及良率和生产率较低,国内多家代工厂认为28纳米制程至少还有5年的黄金期
普罗米修斯王 发表于 2015-7-2 09:12
台鸡店只是提出浸润这个概念,,实际这个光刻技术研制哪有它事,,都是ASML和IMEC的事情,,下一步的EUV极 ...


提出浸润这个概念很差吗?他使众多的代工厂投巨资的193纳米设备和技术顺利持续到45纳米和28纳米两个阶段,并且现在28纳米制程还是台积电的聚宝盆,印钞机,而且EUV的投资极大以及良率和生产率较低,国内多家代工厂认为28纳米制程至少还有5年的黄金期
问题是我们现在没钱了。

来自:关于超级大本营
中国到现在依然大举投资面板,没钱?没钱京东方敢同时开建10.5代线和8.5代线?
03年我上大学本科公选课《微纳加工技术》的时候,课程期末论文就是沉浸式刻蚀,不过我提出的概念是沉浸式粒子束刻蚀,我发誓当时绝对没看过沉浸式可见-紫外光刻的概念。

当时老师还让我去调研一下,把论文写得更完善一些,可以投稿到国内期刊,但也不明说调研什么关键词,我全在那里看粒子束和电子束刻蚀新技术的文章,就没想到去查一下光子刻蚀的信息。所以最后“完善”的也不合老师的意思,不了了之。
台鸡店只是提出浸润这个概念,,实际这个光刻技术研制哪有它事,,都是ASML和IMEC的事情,,下一步的EUV极 ...
這浸潤曝微影技術本來就是林本堅提出發表的,最早達成實用化也是他,台積電也因此領先業界,成為公認的一流大廠,更因此獲選成為2002年IEEE院士,2003年獲選SPIE院士,也陸續在這兩個國際學術學會多次獲獎,這兩個學會你也沒聽過那我沒話說了,顯然學術界和業界都肯定他的成就,包含IBM在內各大半導體廠都因此將原本157奈米的乾式機台訂單取消,改發展浸潤式技術,此技術迄今仍為業界主流,而他所研發命名深紫外線(Deep UV)也是目前業界廣泛應用的技術,眾所公認的成就,你硬要歪曲事實,不知算不算是指鹿為馬,或是他人眼中的小丑行徑? 你提到的EUV極紫光,主要合作夥伴為AMSL,Intel,三星,台積電與學術單位IMEC,這些夥伴共同分享貢獻矽智財(IP),一同加速量產型EUV機台開發,這些網路都有一堆公開資訊可以查,你就不要再扯什麼吹牛。EUV從當年發表技術到現在多少年了,光靠AMSL和IMEC沒有半導體大廠協助是不可能成功的,歷來EUV各型機台,上述幾家業者都是最先取得,並參與測試和改進的過程。
這浸潤曝微影技術本來就是林本堅提出發表的,最早達成實用化也是他,台積電也因此領先業界,成為公認的一 ...
连IMEC有自己的12寸试产线都不知道的鸡店吹就不用来现眼了。。还说IMEC只是个校际学术机构,,台鸡店和其它代工厂搞点研究都要派人跑IMEC去。。别人是工艺联盟主导者,,叫些代工厂出点份子钱。。鸡店吹一吹就把工艺都吹成是鸡店搞的。。
连IMEC有自己的12寸试产线都不知道的鸡店吹就不用来现眼了。。还说IMEC只是个校际学术机构,,台鸡店和其 ...
可是,IMEC在浸没式光刻就没看准,让台积电抓住机会脱颖而出,幸亏台湾太小,不可能在科技发展上全面自主研发,自力研发光刻机,如果浸没式光刻是日本抢占先机,或台积电当时与日本厂商合作,IMEC和ASML现在就不会几乎独占市场,如此风光
03年我上大学本科公选课《微纳加工技术》的时候,课程期末论文就是沉浸式刻蚀,不过我提出的概念是沉浸式粒 ...
这充分说明了我国科研院所的闭门造车,与市场脱轨,如果不与生产部门相结合,不到生产一线去了解,去实践,不解决生产中的实际问题,最后就和你自己说的一样,不了了之