军民融合技术探讨

来源:百度文库 编辑:超级军网 时间:2024/04/28 09:15:00
http://www.tsinghua.edu.cn/publi ... 5233491740502_.html
清华新闻网2月2日电 1月29-30日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(简称02专项)实施管理办公室在清华大学组织召开了“光刻机双工件台系统样机研发”项目的专项内部验收会。

  项目由清华大学承担,机械工程系朱煜教授担任项目负责人,项目总经费2.23亿元。该项目以研制光刻机双工件台系统样机为目标,为我国自主研发65-28nm双工件台干式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的核心子系统。该项目联合了华中科技大学、上海微电子装备有限公司和成都工具所3家单位,下设10个课题,清华大学机械工程系、精密仪器系和材料学院分别承担了其中6个课题,机械工程系IC装备团队承担了样机集成研发等核心任务。

验收专家组由相关领域22名技术专家和财务专家组成,02专项咨询专家委员会主任马俊如研究员担任任务验收专家组组长。02专项技术总师叶甜春研究员、清华大学科研院院长周羽教授、机械工程学院院长雒建斌院士及财务处相关负责人出席了验收会。
验收会上,专家组认真听取了项目及各课题负责人关于项目及课题完成情况的汇报、用户代表上海微电子装备有限公司对项目样机测试验证的报告和现场测试专家组的测试报告,审阅了验收材料和财务资料。经过充分讨论、质询和评议,专家组一致同意该项目通过内部任务验收和财务验收。

  验收专家组认为,项目研究团队针对光刻机双工件台技术,历经5年完成了任务合同书的全部研究内容,突破了平面电机、微动台、超精密测量、超精密运动控制、系统动力学分析、先进工程材料制备及应用等若干关键技术,攻克了光刻机工件台系统设计和集成技术,通过多轮样机的迭代研发,最终研制出2套光刻机双工件台掩模台系统α样机,并通过了相关测试,达到了预定的全部技术指标。围绕双工件台技术完成专利申请231项(其中国际发明专利41项),已获得授权122项。培养了一支近200人的专业研发团队,建立了高水平研发平台,为后续产品研发和产业化打下了坚实的基础。 专家认为,该项目的完成,标志着我国成为世界上少数可以研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域最尖端系统的国家,显著提升了我国在高端光刻机这一战略高科技产品研发方面的竞争能力。

  专家认为,该项目的完成,标志着我国成为世界上少数可以研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域最尖端系统的国家,显著提升了我国在高端光刻机这一战略高科技产品研发方面的竞争能力。

  该项目是02专项核心任务光刻机项目群中第一个验收的项目。项目将在近期由02专项实施管理办公室组织正式验收。

http://www.tsinghua.edu.cn/publi ... 5233491740502_.html
清华新闻网2月2日电 1月29-30日,国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(简称02专项)实施管理办公室在清华大学组织召开了“光刻机双工件台系统样机研发”项目的专项内部验收会。

  项目由清华大学承担,机械工程系朱煜教授担任项目负责人,项目总经费2.23亿元。该项目以研制光刻机双工件台系统样机为目标,为我国自主研发65-28nm双工件台干式及浸没式光刻机提供具有自主知识产权的核心子系统。该项目联合了华中科技大学、上海微电子装备有限公司和成都工具所3家单位,下设10个课题,清华大学机械工程系、精密仪器系和材料学院分别承担了其中6个课题,机械工程系IC装备团队承担了样机集成研发等核心任务。

验收专家组由相关领域22名技术专家和财务专家组成,02专项咨询专家委员会主任马俊如研究员担任任务验收专家组组长。02专项技术总师叶甜春研究员、清华大学科研院院长周羽教授、机械工程学院院长雒建斌院士及财务处相关负责人出席了验收会。
验收会上,专家组认真听取了项目及各课题负责人关于项目及课题完成情况的汇报、用户代表上海微电子装备有限公司对项目样机测试验证的报告和现场测试专家组的测试报告,审阅了验收材料和财务资料。经过充分讨论、质询和评议,专家组一致同意该项目通过内部任务验收和财务验收。

  验收专家组认为,项目研究团队针对光刻机双工件台技术,历经5年完成了任务合同书的全部研究内容,突破了平面电机、微动台、超精密测量、超精密运动控制、系统动力学分析、先进工程材料制备及应用等若干关键技术,攻克了光刻机工件台系统设计和集成技术,通过多轮样机的迭代研发,最终研制出2套光刻机双工件台掩模台系统α样机,并通过了相关测试,达到了预定的全部技术指标。围绕双工件台技术完成专利申请231项(其中国际发明专利41项),已获得授权122项。培养了一支近200人的专业研发团队,建立了高水平研发平台,为后续产品研发和产业化打下了坚实的基础。 专家认为,该项目的完成,标志着我国成为世界上少数可以研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域最尖端系统的国家,显著提升了我国在高端光刻机这一战略高科技产品研发方面的竞争能力。

  专家认为,该项目的完成,标志着我国成为世界上少数可以研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域最尖端系统的国家,显著提升了我国在高端光刻机这一战略高科技产品研发方面的竞争能力。

  该项目是02专项核心任务光刻机项目群中第一个验收的项目。项目将在近期由02专项实施管理办公室组织正式验收。

有啥用?求解读


重大好消息啊,去年上半年有个CDer转了一篇材料研究所的文章,提到这个双工件台进行上线考核验收,没想到一验收就是大半年
今晚好好喝一顿庆祝一下

重大好消息啊,去年上半年有个CDer转了一篇材料研究所的文章,提到这个双工件台进行上线考核验收,没想到一验收就是大半年
今晚好好喝一顿庆祝一下
相当于阿斯麦XT系列的技术水平?
有啥用?求解读
圆晶刻蚀,生产芯片用的。28nm还算跟得上潮流,不过华为最新的芯片,交给台积电代工的,用的是18nm了,这是最新的工艺。

我们能做到这样的水平,以后芯片会白菜化。。至于台积电的光蚀设备,主要还是从荷兰采购的。
就是这个报道,去年1月份的,竟然是考核了一整年,难怪一直没传出好消息

陶瓷院成功召开“集成电路关键装备用高精密碳化硅陶瓷部件制造技术”科技成果鉴定会
    作者: 时间:2015-01-23【打印】
  1月21日,中国建筑材料联合会在北京主持召开了总院陶瓷院承研的“集成电路关键装备用高精密碳化硅陶瓷部件制造技术”科技成果鉴定会。中国建材联合会科技工作部主任潘东晖、主任助理魏从九、总院副院长颜碧兰、陶瓷院院长胡利明,副院长唐婕、重点实验室首席科学家陈玉峰教授出席会议。来自我国知名院校及科研院所的9名专家组成鉴定委员会,航天材料及工艺研究所周延春研究员担任鉴定委员会主任委员、中科院电子研究所高陇桥研究员、清华大学朱煜教授担任副主任委员。魏从九主持了本次会议。
  会上陶瓷院唐婕、刘海林主任分别汇报了项目的研究过程及主要技术成果。该项目起源于国家科技重大专项“极大规模集成电路制造与成套工艺专项”(02专项),其中清华大学等单位承担核心制造装备光刻机部分研制任务。2011年在面临工件台系统碳化硅陶瓷结构部件国产化制造难题无法解决的情况下,清华大学等单位委托陶瓷院进行复杂结构碳化硅陶瓷部件的研发与制造。研制过程中项目组针对集成电路关键装备对大尺寸、高度轻量化、中空闭孔、精密尺寸控制的碳化硅陶瓷需求,突破了材料设计、近净尺寸成型、复杂部件的高温烧结与连接、精密加工等关键技术,首次研制成功集成电路装备用高精密碳化硅基陶瓷关键部件及成套技术。同时形成了碳/碳化硅体系的凝胶注模成型、一种适用于含碳陶瓷材料复杂部件制备的无模成型、一种碳化硅中空复杂构件的无缝连接,以及陶瓷部件低应力、微形变制造等一批具有自主知识产权的专利技术及专有技术。
  与会专家认真听取了项目组汇报,并对研制基地进行现场考察。经过质询、讨论,鉴定委员会委员一致认为“集成电路关键装备用高精密碳化硅陶瓷部件制造技术”填补了国内空白,成果整体达到国际先进水平。项目顺利通过科技成果鉴定。
  目前,该项成果已成功应用于国家科技重大专项 “极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”(02专项)的65nm光刻机研制,在我国自主研制的双工件台系统中获得装配,目前正在进行整机考核。该成果的研制成功,对于解决光刻机这一国家战略高科技装备的核心部件研制难题,构建光刻机国产化制造完整技术链条具有重要意义。为我国集成电路制造关键装备用高精密陶瓷部件的国产化发展提供了重要支撑。该成果社会、经济效益显著,市场前景广阔
连工作台上零部件的材料和加工模具都是目前材料学领域的前沿产物,高端光刻机果然是皇冠上的明珠
大püpü 发表于 2016-2-2 16:41
有啥用?求解读
过去紫光机的作用就是生产芯片,你买电脑说的CPU多少多少NM就是用这个精度制程的
这是个非常好的消息,不用再被富士讹诈了,但是IC设计还需要加油啊
上图,国产高端光刻机双工件台样机
看样子确实是个好消息
好消息,持续关注。
不知现在是否已经装备工厂了?
风雨江城 发表于 2016-2-2 16:50
就是这个报道,去年1月份的,竟然是考核了一整年,难怪一直没传出好消息

陶瓷院成功召开“集成电 ...
那当然了。
芯片的生产流程大约是3个月,加上前期调试、排故,一年的时间来验证设备的可用性已经算是非常快的了。
圆晶刻蚀,生产芯片用的。28nm还算跟得上潮流,不过华为最新的芯片,交给台积电代工的,用的是18nm了,这 ...
华为是16nm吧,不过我记忆力不太好
坚持下去。。
好消息。。。这玩意终于能国产了
深秋之殇 发表于 2016-2-2 16:53
这是个非常好的消息,不用再被富士讹诈了,但是IC设计还需要加油啊
光刻机唯二的存在就是日本尼康和荷兰AMSL

另外,请头像出处

有啥用?求解读
CPU将白菜价

硅圆都是沙子炼出来的,就靠光刻机刻成芯片

点二八工艺还是堪堪跟上主流的
来自: 手机APP客户端
singledoor 发表于 2016-2-2 16:49
圆晶刻蚀,生产芯片用的。28nm还算跟得上潮流,不过华为最新的芯片,交给台积电代工的,用的是18nm了,这 ...
看报道内容,这个02专项核心任务光刻机项目群好像是相当于荷兰人Twinscan XT系列的技术水平吧。那和荷兰人的差距应该差不多就只剩10年左右了,可喜可贺啊。
风雨江城 发表于 2016-2-2 16:50
就是这个报道,去年1月份的,竟然是考核了一整年,难怪一直没传出好消息

陶瓷院成功召开“集成电 ...
看报道内容,这个02专项核心任务光刻机项目群好像是相当于荷兰人Twinscan XT系列的技术水平吧。那和荷兰人的差距应该差不多就只剩10年左右了,可喜可贺啊。
值得大大庆祝一番。
太乐观了吧,研究出样机到出量产设备,再到产业化应用还远,高端光刻机都是先交钱,再等着提货,能做的就只有阿斯麦,国产半导体设备直解决了有无的问题,工厂里都是凤毛麟角,路还很长,土鳖还得继续努力!
这么说,龙芯能提高一级了?
非常令人振奋的消息。当然目前要追上asml,还不现实,蔡司不佩服不行。摄影产品扔给日本确善能,关闭了天文望远镜,就玩这类高产值的产品。
singledoor 发表于 2016-2-2 16:49
圆晶刻蚀,生产芯片用的。28nm还算跟得上潮流,不过华为最新的芯片,交给台积电代工的,用的是18nm了,这 ...
哪怕是28NM也可以保证我们很多的芯片不被卡脖子
问下保持65NM生产干什么?外国都是单一精度,宓片不是要更小更省钱省电吗?外国老制程以回本国产新机器成本应胜不过才对
看报道内容,这个02专项核心任务光刻机项目群好像是相当于荷兰人Twinscan XT系列的技术水平吧。那和荷兰 ...
自从asml搞出了twinscan,日本两家就基本没戏了,优势太明显,一个一次两片,一个一次一片。后来吗,蔡司无愧于光学巨擎,一再突破,现在nxe3350已经是10nm产品了,而且7nm方案已经有了。日本两家,尼康勉强22nm(低于35nm出光),佳能已经不求制程了。
至少绝大部分芯片莫有问题了,其实需要14nm和16nm的芯片产品很少
光刻机唯二的存在就是日本尼康和荷兰AMSL

另外,请头像出处
早就唯一了。尼康你去看高端哪里来份额。
问下保持65NM生产干什么?外国都是单一精度,宓片不是要更小更省钱省电吗?外国老制程以回本国产新机器成本 ...
cmos类,比如cis,65nm都是先进制程。
singledoor 发表于 2016-2-2 16:49
圆晶刻蚀,生产芯片用的。28nm还算跟得上潮流,不过华为最新的芯片,交给台积电代工的,用的是18nm了,这 ...
TSMC 16nm FinFET+
解决了由0到1的问题,接下来就是产业化了。可喜可贺!
商用估计还有很长一段距离 投入太少了2个亿还是RMB ASML 20亿美元都不止 重视程度太低。。。。。
功率元器件和一些模拟芯片线宽不能太低,另外一些军用的抗电磁干扰和航天级抗辐照需求的元件线宽也不能太低
市场容量多少?小众市场依旧竞争不过人家。
问下保持65NM生产干什么?外国都是单一精度,宓片不是要更小更省钱省电吗?外国老制程以回本国产新机器成本 ...
因为65-28nm光刻机用的光源都是ArF193nm准分子光源
我记得还是荷兰的比较牛,intel用的都是他们的
市场容量多少?小众市场依旧竞争不过人家。
这是压箱底的东西,有了它谁敢卡你脖子
好极!芯片领域也开始发力了。