兔子在极紫外光刻方面的新进展(另加CMP设备最新进展)

来源:百度文库 编辑:超级军网 时间:2024/04/28 14:20:42


                   长春光机所极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究获进展

                http://www.instrument.com.cn/news/20151216/180176.shtml

      极紫外多层膜反射镜是极紫外光刻系统的核心光学元件。极紫外光刻系统需要高性能的极紫外多层膜,包括高反射率、低应力、高稳定性和高均匀性。对于极紫外光刻系统中的投影物镜,必须对镀制在其上的极紫外多层膜进行超高精度的膜厚分布控制,以便实现波长匹配和减小镀膜引起的面形误差。

      近日,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室金春水研究团队在极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究方面取得新进展:通过采用遗传算法,实现了Φ200mm曲面基底上极紫外多层膜膜厚分布控制精度优于±0.1%,镀膜引起的不可补偿面形误差小于0.1nmRMS,相关指标达到国际先进水平。相关结果在线发表于近期的Optics Letters(dx.doi.org/10.1364/OL.40.003958)上。

  极紫外多层膜反射镜是极紫外光刻系统的核心光学元件。极紫外光刻系统需要高性能的极紫外多层膜,包括高反射率、低应力、高稳定性和高均匀性。对于极紫外光刻系统中的投影物镜,必须对镀制在其上的极紫外多层膜进行超高精度的膜厚分布控制,以便实现波长匹配和减小镀膜引起的面形误差。

  该研究团队采用遗传算法,完成了磁控溅射源特性参数的反演和用于控制膜厚分布的公转调速曲线的反演,避免了直接测量磁控溅射速率空间分布的繁琐过程,减少了极紫外多层膜膜厚控制工艺的迭代次数,大大降低了获得超高膜厚分布精度极紫外多层膜反射镜的工艺成本。

  该工作得到了“国家科技重大专项-02专项”项目经费的支持。

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华海清科获国家科技重大专项—02专项支持

http://www.hwatsing.com/html/jian/xwzx/qyxw/2015/1124/99.html

       天津华海清科机电科技有限公司作为联合单位参与的02专项项目—“28-14nm抛光设备及工艺、配套材料产业化”于2015年11月18日正式获批。该项目是国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(02专项)的子项目,项目执行期为2015年—2018年,将研发300mm晶圆28-14nm“干进干出”CMP整机设备及结合配套材料的成套工艺,并实现产业化,预计产品性能指标将达到国际先进水平。

人民日报:国内首台12英寸化学机械抛光机交付

http://www.hwatsing.com/html/jian/xwzx/qyxw/2015/0802/94.html

      记者今天从清华控股有限公司获悉,由清华大学科技成果成功转化的国内首台12英寸化学机械抛光机近日交付使用。

      化学机械抛光是通过使用化学腐蚀和机械作用对加工过程中的晶圆进行平坦化处理,以便获得纳米级别的平整表面,是集成电路制造工艺中的五大关键技术之一。在国家科技重大专项“极大规模集成电路平坦化工艺与材料”的支持下,清华大学研制出了国内首台12英寸“干进干出”铜制程抛光机,主要技术指标达到或者超过国外最先进产品的水平。

      清华控股成员企业天津华海清科机电科技有限公司接受清华大学的技术转让,拥有了化学机械抛光的核心技术,在国内率先具备研发和生产12英寸前段和后段抛光整机设备的能力。近日,华海清科首台12英寸化学机械抛光机交付中芯国际,标志着国内12英寸化学机械抛光机已进入大型生产线。

      2015年8月2日,天津华海清科机电科技有限公司首台12寸CMP设备交付中芯国际剪彩仪式在公司生产车间隆重举行。参加剪彩仪式的领导和嘉宾有公司董事长、清华大学教授路新春、中国科学院院士、清华大学教授雒建斌、清华控股总裁助理赵燕来、天津市科委总工李彭越、津南区副区长吴爱民、咸水沽镇书记葛义发。此外,参加仪式的嘉宾还有天津市科委处长刘惠忠、天津市工信科技处处长王德庆、天津市发改委高新处副处长张楷亮及其他市、区各级领导。剪彩仪式由公司常务副总经理李昆主持。

      在华海清科全体员工的共同努力下,我公司第一台12英寸化学机械抛光机即将交付至中芯国际。这是中国国内首台12英寸化学机械抛光机进入大型生产线,这不仅是华海清科的骄傲,更是高端装备国产化的一个里程碑,它为今后华海清科走向市场化的大舞台奠定了坚实的基础。


                   长春光机所极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究获进展

                http://www.instrument.com.cn/news/20151216/180176.shtml

      极紫外多层膜反射镜是极紫外光刻系统的核心光学元件。极紫外光刻系统需要高性能的极紫外多层膜,包括高反射率、低应力、高稳定性和高均匀性。对于极紫外光刻系统中的投影物镜,必须对镀制在其上的极紫外多层膜进行超高精度的膜厚分布控制,以便实现波长匹配和减小镀膜引起的面形误差。

      近日,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室金春水研究团队在极紫外多层膜膜厚分布超高精度控制研究方面取得新进展:通过采用遗传算法,实现了Φ200mm曲面基底上极紫外多层膜膜厚分布控制精度优于±0.1%,镀膜引起的不可补偿面形误差小于0.1nmRMS,相关指标达到国际先进水平。相关结果在线发表于近期的Optics Letters(dx.doi.org/10.1364/OL.40.003958)上。

  极紫外多层膜反射镜是极紫外光刻系统的核心光学元件。极紫外光刻系统需要高性能的极紫外多层膜,包括高反射率、低应力、高稳定性和高均匀性。对于极紫外光刻系统中的投影物镜,必须对镀制在其上的极紫外多层膜进行超高精度的膜厚分布控制,以便实现波长匹配和减小镀膜引起的面形误差。

  该研究团队采用遗传算法,完成了磁控溅射源特性参数的反演和用于控制膜厚分布的公转调速曲线的反演,避免了直接测量磁控溅射速率空间分布的繁琐过程,减少了极紫外多层膜膜厚控制工艺的迭代次数,大大降低了获得超高膜厚分布精度极紫外多层膜反射镜的工艺成本。

  该工作得到了“国家科技重大专项-02专项”项目经费的支持。

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华海清科获国家科技重大专项—02专项支持

http://www.hwatsing.com/html/jian/xwzx/qyxw/2015/1124/99.html

       天津华海清科机电科技有限公司作为联合单位参与的02专项项目—“28-14nm抛光设备及工艺、配套材料产业化”于2015年11月18日正式获批。该项目是国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”(02专项)的子项目,项目执行期为2015年—2018年,将研发300mm晶圆28-14nm“干进干出”CMP整机设备及结合配套材料的成套工艺,并实现产业化,预计产品性能指标将达到国际先进水平。

人民日报:国内首台12英寸化学机械抛光机交付

http://www.hwatsing.com/html/jian/xwzx/qyxw/2015/0802/94.html

      记者今天从清华控股有限公司获悉,由清华大学科技成果成功转化的国内首台12英寸化学机械抛光机近日交付使用。

      化学机械抛光是通过使用化学腐蚀和机械作用对加工过程中的晶圆进行平坦化处理,以便获得纳米级别的平整表面,是集成电路制造工艺中的五大关键技术之一。在国家科技重大专项“极大规模集成电路平坦化工艺与材料”的支持下,清华大学研制出了国内首台12英寸“干进干出”铜制程抛光机,主要技术指标达到或者超过国外最先进产品的水平。

      清华控股成员企业天津华海清科机电科技有限公司接受清华大学的技术转让,拥有了化学机械抛光的核心技术,在国内率先具备研发和生产12英寸前段和后段抛光整机设备的能力。近日,华海清科首台12英寸化学机械抛光机交付中芯国际,标志着国内12英寸化学机械抛光机已进入大型生产线。

      2015年8月2日,天津华海清科机电科技有限公司首台12寸CMP设备交付中芯国际剪彩仪式在公司生产车间隆重举行。参加剪彩仪式的领导和嘉宾有公司董事长、清华大学教授路新春、中国科学院院士、清华大学教授雒建斌、清华控股总裁助理赵燕来、天津市科委总工李彭越、津南区副区长吴爱民、咸水沽镇书记葛义发。此外,参加仪式的嘉宾还有天津市科委处长刘惠忠、天津市工信科技处处长王德庆、天津市发改委高新处副处长张楷亮及其他市、区各级领导。剪彩仪式由公司常务副总经理李昆主持。

      在华海清科全体员工的共同努力下,我公司第一台12英寸化学机械抛光机即将交付至中芯国际。这是中国国内首台12英寸化学机械抛光机进入大型生产线,这不仅是华海清科的骄傲,更是高端装备国产化的一个里程碑,它为今后华海清科走向市场化的大舞台奠定了坚实的基础。
在基础部件领域多多进步
遗传算法差评。。。
重点是应用和产业化。
来自: 手机APP客户端
别的国家有极紫外光刻机吗?
bjkk 发表于 2015-12-28 10:39
在基础部件领域多多进步
希望早日白菜
webjay 发表于 2015-12-28 12:24
重点是应用和产业化。
这个说的相当到位


目前02专项重点攻关的五大关键集成电路设备,晶圆无应力清洗有盛美ACM、晶圆平坦有华海清科、掩膜量测有睿励、刻蚀有中微和北方微电子、封装光刻有SMEE,就差掩膜光刻了

目前02专项重点攻关的五大关键集成电路设备,晶圆无应力清洗有盛美ACM、晶圆平坦有华海清科、掩膜量测有睿励、刻蚀有中微和北方微电子、封装光刻有SMEE,就差掩膜光刻了
目前02专项重点攻关的五大关键集成电路设备,晶圆无应力清洗有盛美ACM、晶圆平坦有华海清科、掩膜量测有睿 ...
请问在国家规划里什么时候中国能出主流水平的光刻机啊?
请问在国家规划里什么时候中国能出主流水平的光刻机啊?
按规划十三五末追上主流水平
按规划十三五末追上主流水平
是追上现在的主流水平还是追上2020年的主流水平?
是追上现在的主流水平还是追上2020年的主流水平?
2020年的主流
极紫外,大杀器也是极紫外
就看上光所动了
风雨江城 发表于 2015-12-28 14:42
目前02专项重点攻关的五大关键集成电路设备,晶圆无应力清洗有盛美ACM、晶圆平坦有华海清科、掩膜量测有睿 ...
SMEE没有掩膜光刻吗?
风雨江城 发表于 2015-12-28 14:42
目前02专项重点攻关的五大关键集成电路设备,晶圆无应力清洗有盛美ACM、晶圆平坦有华海清科、掩膜量测有睿 ...

盛美也有做CMP而且是无应力的 半导体设备你还忘记了说了几个关键的 而且国内也都在做
极紫外光源研究怎样了 好像上光所在搞
cruelworm 发表于 2015-12-30 22:04
SMEE没有掩膜光刻吗?
有,但目前完全不具竞争力。前面列的那几种都属于被市场认可的设备
jeciq 发表于 2015-12-30 23:05
盛美也有做CMP而且是无应力的 半导体设备你还忘记了说了几个关键的 而且国内也都在做
这几项属于关键设备,机台价格都是百万千万刀级别的

jeciq 发表于 2015-12-30 23:06
极紫外光源研究怎样了 好像上光所在搞


极紫外光源貌似主力没上光所。华中科技、哈工大、长光所都有团队,技术方向各不一样,偏向于理论研究和技术路线探索,搞极紫外光刻光源的是华中科技。目前没有实用型极紫外光源开发入列02专项的消息。02专项准分子ArF光源安光所和毛子,13年完成了光源原理样机,现在正搞实用型样机
jeciq 发表于 2015-12-30 23:06
极紫外光源研究怎样了 好像上光所在搞


极紫外光源貌似主力没上光所。华中科技、哈工大、长光所都有团队,技术方向各不一样,偏向于理论研究和技术路线探索,搞极紫外光刻光源的是华中科技。目前没有实用型极紫外光源开发入列02专项的消息。02专项准分子ArF光源安光所和毛子,13年完成了光源原理样机,现在正搞实用型样机
banma 发表于 2015-12-28 18:08
请问在国家规划里什么时候中国能出主流水平的光刻机啊?
2020年,22nm光刻
这几项属于关键设备,机台价格都是百万千万刀级别的
哪些厂家应用了呢?
2020年,22nm光刻
22nm啊,到那时已经不是主流水平了啊
banma 发表于 2015-12-31 14:59
22nm啊,到那时已经不是主流水平了啊
规划报告原文提到过,22nm以下工艺加工成本高,除了需要追求高性能高密度的芯片会采用尖端工艺,ArF准分子光刻覆盖的22-65nm工艺会占据主流地位很长时间
风雨江城 发表于 2015-12-31 10:32
2020年,22nm光刻

不奢望22nm 65nm啥时候能搞出来 不用说65nm 现在90nm能堪用不