做间谍卫星镜头的长春光机所做45纳米级以上级光刻机，不 ...

  在LithoVision2010大会上，Intel公司公布了其未来几年的光刻技术发展计划，按这份惊人的计划显示，Intel计划将 193nm波长沉浸式光刻技术延用至11nm制程节点，这表明他们再次后延了其极紫外光刻(EUV)技术的启用日期。

    根据会上Intel展示的光刻技术发展路线图显示，目前Intel 45nm制程工艺中使用的仍是193nm干式光刻技术，而32nm制程工艺则使用的是193nm沉浸式光刻技术，沉浸式光刻工具方面，Intel从去年开始便独家使用尼康公司的193nm沉浸式光刻机制造32nm制程产品。此前曾有传言称台积电最近也购买了尼康公司的193nm沉浸式光刻设备，不过双方后来矢口否认了这一传言。

    过去Intel曾计划在22nm制程节点转向EUV技术，并计划明年开始采用这种技术。不过据Intel负责高级光刻技术的高管Yan Borodovsky表示，Intel目前还没有做好在22/15nm制程节点引入EUV技术的准备。他并表示Intel将在22nm制程节点继续使用193nm沉浸式光刻技术。



EUV技术在Intel的实战中取得成果

    Intel还在会上表示他们有能力将193nm沉浸式光刻技术延用至15nm制程节点，也就是说这项技术的寿命可望延续到2013年左右，Borodovsky并认为，按照目前的情况看来，193nm沉浸式光刻+pitch division的工艺组合才是实现15nm制程产品量产的“唯一选择”。

    不过他表示,在15nm节点制程处，Intel将“首先采用EUV技术进行试产，假如届时无掩模技术已经成熟，那么我们还会采用这种技术进行试产。”

    在接下来的11nm制程节点中，Intel仍有计划想在五重掩模技术（five mask）的配合下继续延用193nm沉浸式光刻技术，Borodovsky称：“193nm沉浸式光刻技术应可在五重掩模技术的配合下满足11nm制程的要求。”

    据Intel表示，11nm制程节点上该公司的光刻技术将采用多种光刻工艺互补混搭的策略，将193nm沉浸式光刻技术与EUV,无掩模光刻（maskless）等技术混合在一起来满足11nm制程的需求。

    目前还不清楚Intel最终会采用EUV或无掩模光刻技术中的哪一种，Intel表示留给EUV技术最终成熟的时间点是在2011/2012年前；而留给无掩模技术的时间点则是在2012年以前。而其EUV领域的主要竞争对手三星公司将EUV技术投入实用的时间点也同样定在了2012年前。

作为新时代的工程精密光学人，我们不仅要志存高远，更要心细如丝。志存高远，心细如丝，是一种明亮而不刺眼的光辉，是一种圆润而不逆耳的音响；志存高远，心细如丝是一种不再需要对别人察颜观色的从容，是一种终于停止向周围申诉求告的大气；志存高远，心细如丝是一种不理会哄闹的微笑，是一种洗杀了偏机的淡漠；志存高远，心细如丝是一种无需生长的厚实，是一种并不陡峭的高度。志存高远，心细如丝是抑张有度，是荣辱不惊。
写得真好。

。。 一般看到这种文章，就知道TB技术有突破了。。

期待高科技井喷时代的到来。。

没有比这更靠谱的事了，他们是中国光学实力最强的团体了，不让他们做难道让挖石油的去吗？

这类纯商业用途的东西不应该由国家投资来搞。芯片制造虽然在军用航天上有用，但归根结底，是民用多过军用。国家应该把这个资金投到私营企业，比如国家承诺10亿投资，要求企业拿出20亿，一起来搞。
大包大揽没有任何出路，国进民退，死胡同一条。美国人不傻，为什么要退休航天飞机鼓励私人公司玩航天？我们在理念上已经输给人家一截了。

链接啊？

没有国家投资，中国哪个私营企业玩的起光刻机？哪个企业能承受的了投资失败？

之前的尝试已经失败了，请了一帮海龟，国家出钱作为风险投资，在上海搞了一家公司，所有关键零部件都从国外进口，连个可用的样机都拿不出来，最后发现这样的办法死路一条。

对于光刻机这样的重大核心关键设备，必须由国家队出场，国家专项投资才能成功。私营企业在目前的中国根本担不起大梁，更不要说指望他们去做出重大突破了。

shthug 发表于 2011-8-21 13:43
这类纯商业用途的东西不应该由国家投资来搞。芯片制造虽然在军用航天上有用，但归根结底，是民用多过军用。 ...

没有国家投资，中国哪个私营企业玩的起光刻机？哪个企业能承受的了投资失败？

之前的尝试已经失败了，请了一帮海龟，国家出钱作为风险投资，在上海搞了一家公司，所有关键零部件都从国外进口，连个可用的样机都拿不出来，最后发现这样的办法死路一条。

对于光刻机这样的重大核心关键设备，必须由国家队出场，国家专项投资才能成功。私营企业在目前的中国根本担不起大梁，更不要说指望他们去做出重大突破了。

shthug 发表于 2011-8-21 13:43
这类纯商业用途的东西不应该由国家投资来搞。芯片制造虽然在军用航天上有用，但归根结底，是民用多过军用。 ...
也可以企业做，国家买，当年硅谷很大的收入不就来自军队

上海的中微好像就是海龟办的吧，不是成功了吗。

shthug 发表于 2011-8-21 13:43
这类纯商业用途的东西不应该由国家投资来搞。芯片制造虽然在军用航天上有用，但归根结底，是民用多过军用。 ...
关键问题不是要不要国家队出场攻关，而是攻下来关之后的产业化怎么搞，其实不必过分强调咱们国家队上得多了，当年拼登月、忽悠星战的时候美国国家队上了多少？
现在人家底子厚了，可以让私人公司研究产业化的问题了。
咱们现在还处于积累爬坡段，没有技术底子，就没有花样翻新的民营新品。

这类纯商业用途的东西不应该由国家投资来搞。芯片制造虽然在军用航天上有用，但归根结底，是民用多过军用。 ...
中国私企没有光学领域研发团队，具备开发能力的只有国企，私企连照相机镜头都做不好，难道还能做光刻机？

上海的中微好像就是海龟办的吧，不是成功了吗。
号称要搞光刻机，专心做国家项目。但上次光刻机就失败了，历时N年，连偷带抄，最后做出来的“光刻机”通过了验收就闲置在那里沦为废铁，因为根本没有使用价值 http://zhidao.baidu.com/question/107361837.html?si=2

世界上有多少国家由国家出资搞这个东西的？
国家队搞的，但一验收就淘汰的例子还少吗？不说别的，计算机上我就能说很多出来。

国进民退，死路一条。

关键问题不是要不要国家队出场攻关，而是攻下来关之后的产业化怎么搞，其实不必过分强调咱们国家队上得多了，当年拼登月、忽悠星战的时候美国国家队上了多少？
现在人家底子厚了，可以让私人公司研究产业化的问题了。
咱们现在还处于积累爬坡段，没有技术底子，就没有花样翻新的民营新品。


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+1

不要听美帝和带路党的忽悠，重大项目由国家投资是必须的，但产业化可以交给民企或者成立股份制公司，充分发挥资本实力和个人能动性。

shthug 发表于 2011-8-21 13:43
这类纯商业用途的东西不应该由国家投资来搞。芯片制造虽然在军用航天上有用，但归根结底，是民用多过军用。 ...
美国私人公司有什么成果吗？美国的退出了在航天的政府投资吗？可笑

不要喷什么国进民退的口号了，这套过时了。

hswz 发表于 2011-8-21 18:19
号称要搞光刻机，专心做国家项目。但上次光刻机就失败了，历时N年，连偷带抄，最后做出来的“光刻机”通过 ...
中微和你说的那家公司是两家！中微做的是蚀刻机，没做光刻机！！

shthug 发表于 2011-8-21 18:40
世界上有多少国家由国家出资搞这个东西的？
国家队搞的，但一验收就淘汰的例子还少吗？不说别的，计算机上 ...
後發的國家把技術與團隊培養起來，最後推出去民營化
台灣就是這樣如台機電。

世界上有多少国家由国家出资搞这个东西的？
国家队搞的，但一验收就淘汰的例子还少吗？不说别的，计算机上 ...
不要人云亦云 人家西洋人说民企好国企不行你就奉为绝对的圣旨 中国目前国情下 做具体项目国企民企各有优劣 要考虑项目具体情况 不能一概而论  要独立思考 不仅仅是对国人 对洋人更要如此

sailormoons 发表于 2011-8-21 23:28
不要人云亦云 人家西洋人说民企好国企不行你就奉为绝对的圣旨 中国目前国情下 做具体项目国企民企各有优劣 ...
我从来没有说过国企不好，银行、电信、电力、供水、公交等等都应该是国企。
但是，做ic设备，绝对不应该是国企。

项目确实有，投资非常大，party中央对此十分重视。。。。。。but，目前没啥进展。。。。。。。

中国的工业化发展到今天这个地步，做出一两项尖端技术并非很困难的事情，关键在于如何实现稳定的高质量的规模化生产，这才是关键，再好的技术如果无法实现没有产业化就没有出路

不客气的说，中国现在也就国企能够老老实实搞点技术研究，私企？别把国家给的补贴贷款卷去炒房已经不错了。

45NM还是有点高，要抓紧，争取搞到15NM。。。

shthug 发表于 2011-8-21 13:43
这类纯商业用途的东西不应该由国家投资来搞。芯片制造虽然在军用航天上有用，但归根结底，是民用多过军用。 ...
没错，其实光机所也就是在国内靠着垄断强大而以。除了国门比台湾比不了
比韩国也比不了。

摩尔定律全靠它 CPU光刻技术分析与展望
http://price.zol.com.cn/178/1784459.html

eeyylx 发表于 2011-8-22 23:00
没错，其实光机所也就是在国内靠着垄断强大而以。除了国门比台湾比不了
比韩国也比不了。
你知道光机所是干什么的没有？台湾和韩国在光学仪器上有什么拿的出手的东西？

别在这里瞎扯淡，小心脸没了。

shthug 发表于 2011-8-21 13:43
**** 作者被禁止或删除 内容自动屏蔽 ****
资本主义经济是高度专业分工的！
TB受西方制裁和封锁，这一行已经被大公司牢牢掌握住且已经发展了几十年
TB要想发展只能依靠国家财政先期投入，转民也只能先搞成功以后
说得轻巧吃个灯草，投给私营，哪个私营在做这个能做这个？山寨手机厂家还是内衣作坊？

shthug 发表于 2011-8-21 13:43
**** 作者被禁止或删除 内容自动屏蔽 ****
你和美国人一样聪明！！！

唉，既然人家都报道出来了，那我也说两句吧，那东西确实非常非常重要，也非常非常之难，咱们的光刻做不到那么细的，但稍微粗的还是有的，不过从现在的进度来看不太乐观，楼上有几位说资本主义民营如何如何，实际我告诉你，这是国家级战略项目，懂不懂什么叫国家级战略项目，情报要是能搞到早就做成了，人家封锁可是很严密的，你以为一个公司就能做到这么严密的封锁么？知道什么叫国家力量么？更何况我们对抗的又不是一个国家

国内45nm光刻机未见实用报道；
Intel马上22nm工艺CPU要上市了。

光刻机应该是一种大规模工业生产的东西，而不应该是研究所攒出来的。
日本在半导体产业中最有底气的是什么——尼康、佳能的光刻机，电脑CPU、相机上的CCD都离不开它。我记得前几年这两家就大规模生产28NM的了。

shthug 发表于 2011-8-21 13:43
**** 作者被禁止或删除 内容自动屏蔽 ****
投资到私人公司，你又怎么知道这个公司不会卷款玩失踪？
有哪个公司有这个技术实力？
如果没有足够的技术实力，骗钱比做出东西容易多了

没有有志向，有毅力，有责任感的私有企业主，没有国家拿下卡喉咙的大骨头再交给私企，就中国目前的现状，在重大国民经济基础产业中，私企基本无法同积累几十年经验的外企竞争。

  直到2000年，美国能源部下属的3个实验室开发出ETS( Engineering Test Stand)原型机，EU-VL（极紫外光刻）向产业化迈进的技术路线才得到了验证。ETS实现了100 nm分辨率全视场扫描曝光，真正奠定了EUVL向商业化发展的道路

全球第一款远紫外线芯片制造设备闪亮登场
http://www.sina.com.cn 2001年04月17日 14:50 新浪科技
　　2001年4月16日北京讯—美国业界和政府官员近日联合宣布，全球第一款利用远紫外线(extreme ultraviolet -- EUV)制造计算机芯片的完整设备原型机(full-scale prototype machine)业已问世，该项突破将使微处理器的速度达到当今最快的芯片的数十倍，并可使存储芯片的存储容量提高数十倍。

　　与照相制版术相似，平版印刷术(lithography)可用于在微芯片上印制电路。开发EUV
平版印刷术的动因在于，现用的电路印刷技术将在今后几年内达到其物理极限。

　　现有的平版印刷技术可使芯片制造商印制出宽度为0.1微米(相当于一根头发丝的千分之一)的电路。目前正在开发的EUV平版印刷技术，可使半导体制造商印制出宽度小于0.1微米(最低达到0.03微米)的线路，从而使当今半导体业界继续保持现有的创新加速度至2010年。

　　“原型机的问世，标志着该计划已取得重大进展，因为我们已经证明了远紫外线平版印刷术的作用，”EUV有限责任公司(LLC)项目经理Chuck Gwyn说，“我们的下一步计划是将该项技术转让给平版印刷设备制造商，以便他们开发测试版和生产工具。”

　　据预测，到2005至2006年，利用EUV技术生产的处理器的速度将达到10GHz，是当今最快的奔腾4处理器(1.5GHz)的6倍以上。

　　这个被命名为“工程试验支架(Engineering Test Stand -- ETS)”的原型机，是由美国能源部下属的三个实验室和一个名叫EUV LLC的半导体企业联盟共同开发出来的。该企业联盟的成员包括英特尔公司、摩托罗拉公司、AMD公司、Micron技术公司、Infineon科技公司和IBM公司等。

　　美国能源部下属的三个实验室--位于加州的劳伦斯·伯克利国家实验室(Lawerence Berkeley National Lab)、劳伦斯·利物摩尔国家实验室(Lawerence Livermore National Lab)和山迪亚国家实验室(Sandia National Lab)——共同组建了一个“虚拟国家实验室”，参与该项研究。

　　通过签署一份有效期从1997年到2002年初的协议，企业以EUV LLC这一组织为平台，向EUV平版印刷研究项目资助了所有的经费。

　　“EUVL合作研究表明，基础科学和创意能够被用于可服务于私营和公共部门的解决方案中，”美国能源部国家核安全管理局局长John Gordon说，“这也是我们的国家实验室最擅长的。”

　　ETS在加州Livermore市Sandia组装。明年，LLC合作伙伴和平版印刷工具供应商将在该原型机的基础上进一步改进平版印刷技术，以便开发出芯片批量生产所要求的商用原型机。EUVLLC已与美国40多家半导体器件厂商建立了合作关系，确保能够获得将该项技术商用化所需的各种关键元件。

  直到2000年，美国能源部下属的3个实验室开发出ETS( Engineering Test Stand)原型机，EU-VL（极紫外光刻）向产业化迈进的技术路线才得到了验证。ETS实现了100 nm分辨率全视场扫描曝光，真正奠定了EUVL向商业化发展的道路

全球第一款远紫外线芯片制造设备闪亮登场
http://www.sina.com.cn 2001年04月17日 14:50 新浪科技
　　2001年4月16日北京讯—美国业界和政府官员近日联合宣布，全球第一款利用远紫外线(extreme ultraviolet -- EUV)制造计算机芯片的完整设备原型机(full-scale prototype machine)业已问世，该项突破将使微处理器的速度达到当今最快的芯片的数十倍，并可使存储芯片的存储容量提高数十倍。

　　与照相制版术相似，平版印刷术(lithography)可用于在微芯片上印制电路。开发EUV
平版印刷术的动因在于，现用的电路印刷技术将在今后几年内达到其物理极限。

　　现有的平版印刷技术可使芯片制造商印制出宽度为0.1微米(相当于一根头发丝的千分之一)的电路。目前正在开发的EUV平版印刷技术，可使半导体制造商印制出宽度小于0.1微米(最低达到0.03微米)的线路，从而使当今半导体业界继续保持现有的创新加速度至2010年。

　　“原型机的问世，标志着该计划已取得重大进展，因为我们已经证明了远紫外线平版印刷术的作用，”EUV有限责任公司(LLC)项目经理Chuck Gwyn说，“我们的下一步计划是将该项技术转让给平版印刷设备制造商，以便他们开发测试版和生产工具。”

　　据预测，到2005至2006年，利用EUV技术生产的处理器的速度将达到10GHz，是当今最快的奔腾4处理器(1.5GHz)的6倍以上。

　　这个被命名为“工程试验支架(Engineering Test Stand -- ETS)”的原型机，是由美国能源部下属的三个实验室和一个名叫EUV LLC的半导体企业联盟共同开发出来的。该企业联盟的成员包括英特尔公司、摩托罗拉公司、AMD公司、Micron技术公司、Infineon科技公司和IBM公司等。

　　美国能源部下属的三个实验室--位于加州的劳伦斯·伯克利国家实验室(Lawerence Berkeley National Lab)、劳伦斯·利物摩尔国家实验室(Lawerence Livermore National Lab)和山迪亚国家实验室(Sandia National Lab)——共同组建了一个“虚拟国家实验室”，参与该项研究。

　　通过签署一份有效期从1997年到2002年初的协议，企业以EUV LLC这一组织为平台，向EUV平版印刷研究项目资助了所有的经费。

　　“EUVL合作研究表明，基础科学和创意能够被用于可服务于私营和公共部门的解决方案中，”美国能源部国家核安全管理局局长John Gordon说，“这也是我们的国家实验室最擅长的。”

　　ETS在加州Livermore市Sandia组装。明年，LLC合作伙伴和平版印刷工具供应商将在该原型机的基础上进一步改进平版印刷技术，以便开发出芯片批量生产所要求的商用原型机。EUVLLC已与美国40多家半导体器件厂商建立了合作关系，确保能够获得将该项技术商用化所需的各种关键元件。

万钢部长专程赴湖南考察国家科技重大专项

　 2010年12月23日下午，全国政协副主席、科技部部长万钢在湖南长沙专程考察了有关重大专项任务执行情况，并与任务承担单位有关人员进行了座谈，湖南省副省长郭开朗，省政协党组副书记、副主席阳宝华等陪同考察。
　　万钢部长一行首先来到中国电子科技集团公司第48研究所，考察了48所承担的集成电路装备重大专项离子注入机项目，参观了该所晶体硅太阳能电池生产线，并听取了有关情况汇报，了解到48所研制的90-65nm大角度离子注入机β机已成功进入中芯国际公司生产线进行工艺验证，同时48所与国防科技大学在集成电路装备专项任务研发方面也有着紧密的合作，研制成功的离子注入机为国防科大承担的超精密光学元件制造装备有关任务的顺利进行奠定了基础。在积极组织力量完成专项任务的同时，48所在重大专项成果的转移与扩散上也取得了喜人的成绩，目前光伏电池产能已居全国第4位，太阳能电池制造业设备占有国内市场70%以上的份额，于2010年迈入了光伏“GW俱乐部”，产值达到60亿元，销售收入50多亿元，其中光伏装备的收入突破10亿元，已成功跻身世界光伏装备十强。
　　看到48所取得的一系列令人振奋的成绩，万钢部长非常高兴地指出，科技体制改革促进了科研的发展，也带动了相关产业、人才的发展和进步。48所面向市场需求，在构建以企业为主体的产学研联合机制、促进多学科交叉融合等方面，取得了很好的成效。实践证明，我国以国家战略发展方向为导向的科研组织思路是正确的。我们要把科学家的兴趣集聚到国家的战略需求上来，主动公开信息，根据市场需求和科学家的理念开展关键技术攻关，给予持续、稳定、超前地支持，并根据市场的变化和技术的发展不断进行评估，寻找新的发展机遇。万部长强调，在市场经济条件下实施重大专项，要特别注重成果向企业的转化，一方面项目承担单位要积极进行产品的拓展、技术的扩散和产业链的延伸，带动产业的发展，另一方面地方政府也应抓住机遇、大力支持专项成果产业化，促进重大专项的果实在地方落地生根,“再长成一片森林”。万部长鼓励企业通过产业联盟的方式构建完整产业链，将自身打造为区域内公共服务平台，通过技术输出、技术入股、技术交易等多种方式从源头及时进行技术扩散，要像推销产品一样推销自己的技术，积极开拓产品市场，带动相关产业和领域的发展。同时，他也提醒企业要注意技术的跃迁点，进一步加强各类学科的交叉和人才的交流，促进与高等院校和科研院所的合作，不断增强科研实力，争取引领相关领域技术的跃升。
　　随后，万钢部长一行赴国防科技大学，考察国防科大承担的核高基、集成电路装备、数控机床等重大专项有关任务的执行情况。国防科大承担核高基专项中“面向大规模科学计算的高性能服务器多核CPU的研制”任务，自主研制成功的64位8核多线程CPU“飞腾1000”已在 “天河一号”超级计算机中成功应用。万部长十分关注该项目中国产CPU与国产操作系统的协同发展情况，并专门就有关问题与科研人员进行了重点探讨。高档数控装置软硬件平台项目应用了国产飞腾64位CPU和“麒麟”操作系统，万部长对此十分赞赏。在了解到国防科大承担的集成电路装备专项有关任务已攻克光刻机光学系统研制的重大瓶颈，突破了光刻机研发的第一道难关，使我国超精密光学加工技术迈入世界前列等有关情况后，万部长十分高兴，鼓励科研人员继续努力，积极开展军民两用技术的联合攻关，进一步加强军地共建，以军带民，以民促军，为军民融合探索新路。
　　万钢部长在长沙考察国家科技重大专项期间，还与湖南省党政主要领导就重大专项如何更好地与地方工作对接、进一步发挥重大专项对区域经济的促进作用等交换了意见。
未来的技术将属于那些以纳米作为精度标准、并首先学习和使用它的国家”，诺贝尔奖得主罗勒的一席话，将人们带入了纳米精度的攻关时代。因为对纳米制造技术的高度重视和巨额投入，世界上性能最好的CPU在美国，线宽最小的集成电路在美国，尖端武器装备也大多源自美国。

　　为了摆脱在高端电子产品领域受到的掣肘，国防科技大学精密工程创新团队承担了某重大专项超高精度光学零件制造装备与工艺的研究任务，在短短一年半的时间里就研制出初样机、试样机，专项首席专家叶甜春研究员在赞赏之余，提出，“你们能不能在两周之内将光学零件面形精度的峰谷值控制在几个纳米以内？”

　　峰谷值控制在几纳米以内，意味着哪怕一个细菌就会导致整个面形崩溃，只能逐层分子、逐层分子地进行去除加工。作为一种“磨洋工”式的细活，高精度光学零件的加工周期一般都是以月作为计算单位，大型光学零件更是以年为计算单位；两周的加工时间必须进行非常精密的规划，才有可能进行高精度光学修形方面的尝试。我国光刻技术迫切需要的使命感，让团队的每一名成员都有一种义不容辞的责任，开始了这一段充满勇气和挑战的“冲高”之旅。

　　“没有金刚钻，不揽瓷器活”，在前期工作的基础上，团队带头人李圣怡教授、戴一帆教授对研究任务、时间节点进行了合理规划，团队成员不分日夜地刻苦钻研。因为心无旁骛，团队成员也闹出了一些“笑话”。有一次在去食堂吃午饭的路上，大家一直讨论相关技术问题，到了食堂，围坐之后又开始了激烈的争论，半小时后终于得出了都比较认可的方案，为了验证方案的可行性，大家径直回到实验室做起了实验。直到实验结果证明方案可行后，大家都松了一口气，却感觉肚子叫个不停，这时才意识到只顾着讨论问题，忘记吃饭了。

　　2010年12月12日，“冲高”进入到关键时刻，晚上11点钟，样件送到学校科技大楼进行检测。到了凌晨两点钟，久久等待的电话终于响起，检测人员用颤抖的声音向李教授汇报：“冲高成功！”12月18日凌晨1点钟，“冲高”再次成功，证明了研制的装备和工艺方法具有重复性、稳定性和快速性。由此，他们大大逼近了光刻物镜制造的极限。


万钢部长专程赴湖南考察国家科技重大专项

　 2010年12月23日下午，全国政协副主席、科技部部长万钢在湖南长沙专程考察了有关重大专项任务执行情况，并与任务承担单位有关人员进行了座谈，湖南省副省长郭开朗，省政协党组副书记、副主席阳宝华等陪同考察。
　　万钢部长一行首先来到中国电子科技集团公司第48研究所，考察了48所承担的集成电路装备重大专项离子注入机项目，参观了该所晶体硅太阳能电池生产线，并听取了有关情况汇报，了解到48所研制的90-65nm大角度离子注入机β机已成功进入中芯国际公司生产线进行工艺验证，同时48所与国防科技大学在集成电路装备专项任务研发方面也有着紧密的合作，研制成功的离子注入机为国防科大承担的超精密光学元件制造装备有关任务的顺利进行奠定了基础。在积极组织力量完成专项任务的同时，48所在重大专项成果的转移与扩散上也取得了喜人的成绩，目前光伏电池产能已居全国第4位，太阳能电池制造业设备占有国内市场70%以上的份额，于2010年迈入了光伏“GW俱乐部”，产值达到60亿元，销售收入50多亿元，其中光伏装备的收入突破10亿元，已成功跻身世界光伏装备十强。
　　看到48所取得的一系列令人振奋的成绩，万钢部长非常高兴地指出，科技体制改革促进了科研的发展，也带动了相关产业、人才的发展和进步。48所面向市场需求，在构建以企业为主体的产学研联合机制、促进多学科交叉融合等方面，取得了很好的成效。实践证明，我国以国家战略发展方向为导向的科研组织思路是正确的。我们要把科学家的兴趣集聚到国家的战略需求上来，主动公开信息，根据市场需求和科学家的理念开展关键技术攻关，给予持续、稳定、超前地支持，并根据市场的变化和技术的发展不断进行评估，寻找新的发展机遇。万部长强调，在市场经济条件下实施重大专项，要特别注重成果向企业的转化，一方面项目承担单位要积极进行产品的拓展、技术的扩散和产业链的延伸，带动产业的发展，另一方面地方政府也应抓住机遇、大力支持专项成果产业化，促进重大专项的果实在地方落地生根,“再长成一片森林”。万部长鼓励企业通过产业联盟的方式构建完整产业链，将自身打造为区域内公共服务平台，通过技术输出、技术入股、技术交易等多种方式从源头及时进行技术扩散，要像推销产品一样推销自己的技术，积极开拓产品市场，带动相关产业和领域的发展。同时，他也提醒企业要注意技术的跃迁点，进一步加强各类学科的交叉和人才的交流，促进与高等院校和科研院所的合作，不断增强科研实力，争取引领相关领域技术的跃升。
　　随后，万钢部长一行赴国防科技大学，考察国防科大承担的核高基、集成电路装备、数控机床等重大专项有关任务的执行情况。国防科大承担核高基专项中“面向大规模科学计算的高性能服务器多核CPU的研制”任务，自主研制成功的64位8核多线程CPU“飞腾1000”已在 “天河一号”超级计算机中成功应用。万部长十分关注该项目中国产CPU与国产操作系统的协同发展情况，并专门就有关问题与科研人员进行了重点探讨。高档数控装置软硬件平台项目应用了国产飞腾64位CPU和“麒麟”操作系统，万部长对此十分赞赏。在了解到国防科大承担的集成电路装备专项有关任务已攻克光刻机光学系统研制的重大瓶颈，突破了光刻机研发的第一道难关，使我国超精密光学加工技术迈入世界前列等有关情况后，万部长十分高兴，鼓励科研人员继续努力，积极开展军民两用技术的联合攻关，进一步加强军地共建，以军带民，以民促军，为军民融合探索新路。
　　万钢部长在长沙考察国家科技重大专项期间，还与湖南省党政主要领导就重大专项如何更好地与地方工作对接、进一步发挥重大专项对区域经济的促进作用等交换了意见。
未来的技术将属于那些以纳米作为精度标准、并首先学习和使用它的国家”，诺贝尔奖得主罗勒的一席话，将人们带入了纳米精度的攻关时代。因为对纳米制造技术的高度重视和巨额投入，世界上性能最好的CPU在美国，线宽最小的集成电路在美国，尖端武器装备也大多源自美国。

　　为了摆脱在高端电子产品领域受到的掣肘，国防科技大学精密工程创新团队承担了某重大专项超高精度光学零件制造装备与工艺的研究任务，在短短一年半的时间里就研制出初样机、试样机，专项首席专家叶甜春研究员在赞赏之余，提出，“你们能不能在两周之内将光学零件面形精度的峰谷值控制在几个纳米以内？”

　　峰谷值控制在几纳米以内，意味着哪怕一个细菌就会导致整个面形崩溃，只能逐层分子、逐层分子地进行去除加工。作为一种“磨洋工”式的细活，高精度光学零件的加工周期一般都是以月作为计算单位，大型光学零件更是以年为计算单位；两周的加工时间必须进行非常精密的规划，才有可能进行高精度光学修形方面的尝试。我国光刻技术迫切需要的使命感，让团队的每一名成员都有一种义不容辞的责任，开始了这一段充满勇气和挑战的“冲高”之旅。

　　“没有金刚钻，不揽瓷器活”，在前期工作的基础上，团队带头人李圣怡教授、戴一帆教授对研究任务、时间节点进行了合理规划，团队成员不分日夜地刻苦钻研。因为心无旁骛，团队成员也闹出了一些“笑话”。有一次在去食堂吃午饭的路上，大家一直讨论相关技术问题，到了食堂，围坐之后又开始了激烈的争论，半小时后终于得出了都比较认可的方案，为了验证方案的可行性，大家径直回到实验室做起了实验。直到实验结果证明方案可行后，大家都松了一口气，却感觉肚子叫个不停，这时才意识到只顾着讨论问题，忘记吃饭了。

　　2010年12月12日，“冲高”进入到关键时刻，晚上11点钟，样件送到学校科技大楼进行检测。到了凌晨两点钟，久久等待的电话终于响起，检测人员用颤抖的声音向李教授汇报：“冲高成功！”12月18日凌晨1点钟，“冲高”再次成功，证明了研制的装备和工艺方法具有重复性、稳定性和快速性。由此，他们大大逼近了光刻物镜制造的极限。

hswz 发表于 2011-8-21 18:19
号称要搞光刻机，专心做国家项目。但上次光刻机就失败了，历时N年，连偷带抄，最后做出来的“光刻机”通过 ...
中微半导体和上海微电子装备完全是两家公司。

是要扶植，是要保护，不过同意shthug，多年的实践证明了这样的国家队模式根本不能解决此类问题，可以说政府在技术培育思路上还是显得老套而粗放的。

是要扶植，是要保护，不过同意shthug，多年的实践证明了这样的国家队模式根本不能解决此类问题，可以说政府在技术培育思路上还是显得老套而粗放的。