TFT高性能光刻胶国产化势在必行

http://www.szruihong.com/News/Show.aspx?id=2

　　TFT-LCD产业是当今产业界几个高成长产业之一。近10年来，日本、韩国及我国台湾等国家和地区，已经为它投资了上千亿美元，形成地域相当集中、规模相当巨大的产业集群。

　　我国光刻胶用量逐年增加

　　中国液晶产业始于1980年，起步并不晚。但是我们长期限于TN、STN-LCD。在2003年后才真正开始大规模建设TFT-LCD生产线，目前已经量产的厂家主要是京东方、上广电、龙腾和深超光电4家，产能约占全球总产能的4%。

　　目前我国在建和待建的大尺寸TFT-LCD生产线共有8条，其中，京东方除了规划在北京建设8代面板生产线外，在位于安徽合肥的6代线已于今年4月动工，位于四川成都的4.5代线则于去年动工。彩虹集团在江苏省张家港的6代线也已动工。深圳天马去年下半年在武汉、成都分别投资2条4.5代线，其中武汉4.5代线已投产。深圳莱宝有1条2.5代线正在兴建中。昆山龙腾光电也正筹建1条7.5代线。

　　随着我国TFT-LCD行业的迅速发展，专用高档光刻胶市场广阔，我国已经建成投产的5代TFT-LCD生产线共需大约550吨～600吨/年的紫外正性光刻胶与之配套，在建及筹建的6代生产线约需500吨/年左右的紫外正性光刻胶与之配套，筹建中的7.5代生产线约需600吨/年左右的紫外正性光刻胶与之配套，而京东方筹建中的8代生产线预计年产能可达600万片左右，仅此生产线所需配套的正胶就将超过1000吨/年的规模。到“十二五”期间，我国高端TFT-LCD生产线配套所需的高档光刻胶将超过3000吨/年的规模。

　　目前为TFT-LCD生产线提供光刻胶产品的主要有日本的东京应化(TOK)、美国的罗门哈斯(Rohm&Haas)、韩国的Dongjinsemichem和我国台湾的永光化学。中国大陆尚无TFT-LCD生产线配套用的光刻胶的生产能力，全部依赖进口。

　　TFT光刻胶国产化迫在眉睫

　　光刻胶作为TFT-LCD产业发展的关键性基础材料之一，是微电子化学品中技术含量最高的产品，其质量的优劣及制备技术的高低已成为制约我国高端TFT-LCD加工技术发展的瓶颈，其重要地位日益凸显，因此专用TFT-LCD光刻胶的研发与国产化生产已经迫在眉睫。

　　在TFT-LCD光刻胶国产化进程中，有若干关键问题需要解决。首先，从光刻胶本身的技术研究来看，在TFT-LCD制造过程中，与IC制作的硅晶圆相比，所使用的玻璃基板面积更大，要求配套使用的光刻胶能够在宽阔的衬底表面形成形状和尺寸等性能良好的抗蚀图形，因此TFT-LCD对光刻胶的要求与IC制作过程中所使用的光刻胶有所不同，TFT-LCD用光刻胶必须具有良好的涂布均匀性，其感光速度快、曝光宽容度大，具有良好的线性、高对比度和高分辨率，与玻璃基板具有良好的粘附性和高抗蚀性。其中涂布均匀性和高感度尤为重要。

　　其次，在TFT-LCD光刻胶的上游原材料中，树脂、感光剂、高纯溶剂等是其中的主要原材料。当前国内材料存在质量稳定性的问题，光刻胶制造所需的大部分原料短期内尚难实现国产化。随着竞争的加剧，基础原料的国产化有效降低产品成本将成为必然趋势。在当前形势下，国内光刻胶公司可采取两步走的方案解决原料国产化的问题：第一步，采用以自主知识产权的技术，委托国外的光刻胶原料公司为其生产原料的方式来解决目前的供货。第二步，随着光刻胶原料市场的逐渐成熟，生产产酸剂、树脂及其他助剂的国内生产企业一定会应运而生的。到时候国内的光刻胶公司必将会尽企业之所能与适时出现的原料生产厂商合作，这不仅能带动相关产业实现光刻胶原料的国产化，也能降低企业的成本。这是水到渠成的事，于国、于民、于企业都有好处。http://www.szruihong.com/News/Show.aspx?id=2

　　TFT-LCD产业是当今产业界几个高成长产业之一。近10年来，日本、韩国及我国台湾等国家和地区，已经为它投资了上千亿美元，形成地域相当集中、规模相当巨大的产业集群。

　　我国光刻胶用量逐年增加

　　中国液晶产业始于1980年，起步并不晚。但是我们长期限于TN、STN-LCD。在2003年后才真正开始大规模建设TFT-LCD生产线，目前已经量产的厂家主要是京东方、上广电、龙腾和深超光电4家，产能约占全球总产能的4%。

　　目前我国在建和待建的大尺寸TFT-LCD生产线共有8条，其中，京东方除了规划在北京建设8代面板生产线外，在位于安徽合肥的6代线已于今年4月动工，位于四川成都的4.5代线则于去年动工。彩虹集团在江苏省张家港的6代线也已动工。深圳天马去年下半年在武汉、成都分别投资2条4.5代线，其中武汉4.5代线已投产。深圳莱宝有1条2.5代线正在兴建中。昆山龙腾光电也正筹建1条7.5代线。

　　随着我国TFT-LCD行业的迅速发展，专用高档光刻胶市场广阔，我国已经建成投产的5代TFT-LCD生产线共需大约550吨～600吨/年的紫外正性光刻胶与之配套，在建及筹建的6代生产线约需500吨/年左右的紫外正性光刻胶与之配套，筹建中的7.5代生产线约需600吨/年左右的紫外正性光刻胶与之配套，而京东方筹建中的8代生产线预计年产能可达600万片左右，仅此生产线所需配套的正胶就将超过1000吨/年的规模。到“十二五”期间，我国高端TFT-LCD生产线配套所需的高档光刻胶将超过3000吨/年的规模。

　　目前为TFT-LCD生产线提供光刻胶产品的主要有日本的东京应化(TOK)、美国的罗门哈斯(Rohm&Haas)、韩国的Dongjinsemichem和我国台湾的永光化学。中国大陆尚无TFT-LCD生产线配套用的光刻胶的生产能力，全部依赖进口。

　　TFT光刻胶国产化迫在眉睫

　　光刻胶作为TFT-LCD产业发展的关键性基础材料之一，是微电子化学品中技术含量最高的产品，其质量的优劣及制备技术的高低已成为制约我国高端TFT-LCD加工技术发展的瓶颈，其重要地位日益凸显，因此专用TFT-LCD光刻胶的研发与国产化生产已经迫在眉睫。

　　在TFT-LCD光刻胶国产化进程中，有若干关键问题需要解决。首先，从光刻胶本身的技术研究来看，在TFT-LCD制造过程中，与IC制作的硅晶圆相比，所使用的玻璃基板面积更大，要求配套使用的光刻胶能够在宽阔的衬底表面形成形状和尺寸等性能良好的抗蚀图形，因此TFT-LCD对光刻胶的要求与IC制作过程中所使用的光刻胶有所不同，TFT-LCD用光刻胶必须具有良好的涂布均匀性，其感光速度快、曝光宽容度大，具有良好的线性、高对比度和高分辨率，与玻璃基板具有良好的粘附性和高抗蚀性。其中涂布均匀性和高感度尤为重要。

　　其次，在TFT-LCD光刻胶的上游原材料中，树脂、感光剂、高纯溶剂等是其中的主要原材料。当前国内材料存在质量稳定性的问题，光刻胶制造所需的大部分原料短期内尚难实现国产化。随着竞争的加剧，基础原料的国产化有效降低产品成本将成为必然趋势。在当前形势下，国内光刻胶公司可采取两步走的方案解决原料国产化的问题：第一步，采用以自主知识产权的技术，委托国外的光刻胶原料公司为其生产原料的方式来解决目前的供货。第二步，随着光刻胶原料市场的逐渐成熟，生产产酸剂、树脂及其他助剂的国内生产企业一定会应运而生的。到时候国内的光刻胶公司必将会尽企业之所能与适时出现的原料生产厂商合作，这不仅能带动相关产业实现光刻胶原料的国产化，也能降低企业的成本。这是水到渠成的事，于国、于民、于企业都有好处。