中微确立存储器芯片干法蚀刻领域市场地位

http://laoyaoba.com/ss6/html/57/n-409857.html

中微半导体设备公司(Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.；AMEC)开发出第二代单反应台电浆体蚀刻设备(Primo SSC AD-RIE)，能够用于加工要求最严格的半导体元件。中微 Primo SSC AD-RIE 蚀刻设备已在韩国半导体制造企业中完成了20奈米及以下的生产验证，将用于20奈米及以下关键快闪记忆体晶片的加工制造。
目前，中微的韩国客户也已正式下单订购，正进行15奈米晶片蚀刻的验证。在此之前，中微双反应台蚀刻设备 Primo D-RIE 已在众多亚洲领先的记忆体晶片和逻辑晶片生产线上确立稳固地位，而中微这款新蚀刻产品延续了 Primo D-RIE 的创新性。

中微是先进的晶片制造高阶设备企业，为全球半导体和 LED 晶片制造商服务。中微的研发和营运中心位于上海，全球销售和市场中心位于新加坡，其团队由一批来自美国矽谷和亚洲半导体设备领域的专家组成。中微目前的技术已能为客户提供具有高竞争力的设备和技术解决方案，并达到客户最先进晶片的加工要求，跻身于美国和日本等全球蚀刻设备企业相互竞争。

除了韩国客户以外，台湾、日本和其他地区的晶片生产厂商也对中微的 Primo SSC AD-RIE 蚀刻设备表示了极大的兴趣。事实上，20奈米及以下干法蚀刻所伴随的极大挑战已经将小的蚀刻设备供应商排除出局，仅留下一些佼佼者占主导地位。而中微的 Primo SSC AD-RIE 则为业界提供了另一新选择。该公司目前正准备晶片DEMO测试，同时也也正和部份客户合作开发15奈米快闪记忆体晶片加工制程和 VNAND 制程。

为了支援韩国客户并在韩国地区进一步拓展业务，中微韩国分公司将于今年在韩国当地设立研发中心。http://laoyaoba.com/ss6/html/57/n-409857.html

中微半导体设备公司(Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.；AMEC)开发出第二代单反应台电浆体蚀刻设备(Primo SSC AD-RIE)，能够用于加工要求最严格的半导体元件。中微 Primo SSC AD-RIE 蚀刻设备已在韩国半导体制造企业中完成了20奈米及以下的生产验证，将用于20奈米及以下关键快闪记忆体晶片的加工制造。
目前，中微的韩国客户也已正式下单订购，正进行15奈米晶片蚀刻的验证。在此之前，中微双反应台蚀刻设备 Primo D-RIE 已在众多亚洲领先的记忆体晶片和逻辑晶片生产线上确立稳固地位，而中微这款新蚀刻产品延续了 Primo D-RIE 的创新性。

中微是先进的晶片制造高阶设备企业，为全球半导体和 LED 晶片制造商服务。中微的研发和营运中心位于上海，全球销售和市场中心位于新加坡，其团队由一批来自美国矽谷和亚洲半导体设备领域的专家组成。中微目前的技术已能为客户提供具有高竞争力的设备和技术解决方案，并达到客户最先进晶片的加工要求，跻身于美国和日本等全球蚀刻设备企业相互竞争。

除了韩国客户以外，台湾、日本和其他地区的晶片生产厂商也对中微的 Primo SSC AD-RIE 蚀刻设备表示了极大的兴趣。事实上，20奈米及以下干法蚀刻所伴随的极大挑战已经将小的蚀刻设备供应商排除出局，仅留下一些佼佼者占主导地位。而中微的 Primo SSC AD-RIE 则为业界提供了另一新选择。该公司目前正准备晶片DEMO测试，同时也也正和部份客户合作开发15奈米快闪记忆体晶片加工制程和 VNAND 制程。

为了支援韩国客户并在韩国地区进一步拓展业务，中微韩国分公司将于今年在韩国当地设立研发中心。