超级军网中微等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE(TM) 运抵中芯国际
来源：百度文库 编辑：超级军网 时间：2024/05/01 21:28:26
http://www.prnasia.com/story/58640-1.shtml
中微第二代等离子体刻蚀设备首次在中国试运安装；用于32纳米至28纳米芯片加工
上海和旧金山2012年3月20日电 /美通社亚洲/ -- 中微半导体设备有限公司（以下简称“中微”）于 SEMICON China 展会期间宣布，中微第二代等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE™ 正式装配国内技术最先进的集成电路芯片代工企业中芯国际，用于32纳米至28纳米及更先进的芯片加工。这是继去年 SEMICON West 展会期间 Primo AD-RIE™ 正式发布以来，中微 Primo AD-RIE™ 设备首次进入中国大陆客户生产线。目前，中微第一代等离子体刻蚀设备 Primo D-RIE™ 已在中国建立了稳固的市场地位。Primo AD-RIE™ 设备也已进入台湾客户的生产线。
到目前为止，中微的刻蚀设备已进入11家客户的14条芯片生产线，客户涵盖中国大陆、台湾、新加坡和南韩等地的整合器件制造商（IDM）、晶圆代工厂、芯片封装厂等。这其中也包括中微近日发布的 TSV 硅通孔刻蚀设备 Primo TSV200E™，为中微开辟了新的市场。综合来看，中微的设备均拥有生产率高、工艺性能出色、操作简便、成本竞争优势明显等优点。随着亚洲地区对半导体设备的需求日渐增长，中微不断拓展产品线使之日趋多元化，从而迈入了快速发展的轨道，2011年中微的销售额较2010年增长了两倍多。同时，为了满足企业自身发展的需求，中微位于上海的二期大楼也将竣工，届时将增加10,000平方米的生产基地。
Primo AD-RIE™ 设备是中微第二代甚高频去耦合等离子体刻蚀设备，可满足多种关键生产工艺要求。继第一代已被业界广泛认可的 Primo D-RIE™ 之后，Primo AD-RIE™ 采用了更多技术创新点，以解决生产复杂的22纳米至14纳米芯片所带来的挑战，同时确保芯片加工的质量。这些技术创新点包括：可切换频率的射频系统保证了刻蚀的灵活性和可重复性，更好的调谐能力确保了超精细关键尺寸的均匀度和可重复性，改良的反应室室内材料减少了工艺缺陷并降低了成本消耗。
“我们很高兴中微在中国的第一台 Primo AD-RIE™ 设备能进入国内领先的晶圆代工厂，”中微副总裁兼刻蚀产品事业群总经理朱新萍说道，“与中微第一代产品类似，Primo AD-RIE™ 设备的单位投资产出率比市场上其他同类设备提高了30%以上，占地面积较其他同类设备减少了30%以上，并能使加工晶圆的成本降低20%至40%，Primo AD-RIE™ 设备已成为市场上生产率最高、单位投资产出率最高的先进刻蚀设备，用于各种关键及通常的工艺应用。”
欲了解更多关于 Primo AD-RIE™ 的信息，请访问 www.amec-inc.com/products/ADRIE.php。
关于中微半导体设备有限公司
公司致力于为全球芯片生产厂商和相关高科技领域的世界领先公司提供一系列高端的芯片生产设备。公司拥有业内经验最丰富的管理和技术专家，已形成强有力的市场驱动力，持续拓展产品线以满足各种新兴的技术需求。客户正是运用了中微先进的刻蚀设备和技术，制造了电子产品中最为关键的芯片器件。中微的高端设备在65、45、32、28、22纳米及以下的芯片生产领域实现了技术创新和生产力提高的最优化。中微公司以亚洲为基地，总部位于中国，其研发、制造、销售和客户服务机构遍布日本、南韩、新加坡、中国台湾等地。
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PS:貌似很牛逼呀，有大神能给小白科普下么？
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中微第二代等离子体刻蚀设备首次在中国试运安装；用于32纳米至28纳米芯片加工
上海和旧金山2012年3月20日电 /美通社亚洲/ -- 中微半导体设备有限公司（以下简称“中微”）于 SEMICON China 展会期间宣布，中微第二代等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE™ 正式装配国内技术最先进的集成电路芯片代工企业中芯国际，用于32纳米至28纳米及更先进的芯片加工。这是继去年 SEMICON West 展会期间 Primo AD-RIE™ 正式发布以来，中微 Primo AD-RIE™ 设备首次进入中国大陆客户生产线。目前，中微第一代等离子体刻蚀设备 Primo D-RIE™ 已在中国建立了稳固的市场地位。Primo AD-RIE™ 设备也已进入台湾客户的生产线。
到目前为止，中微的刻蚀设备已进入11家客户的14条芯片生产线，客户涵盖中国大陆、台湾、新加坡和南韩等地的整合器件制造商（IDM）、晶圆代工厂、芯片封装厂等。这其中也包括中微近日发布的 TSV 硅通孔刻蚀设备 Primo TSV200E™，为中微开辟了新的市场。综合来看，中微的设备均拥有生产率高、工艺性能出色、操作简便、成本竞争优势明显等优点。随着亚洲地区对半导体设备的需求日渐增长，中微不断拓展产品线使之日趋多元化，从而迈入了快速发展的轨道，2011年中微的销售额较2010年增长了两倍多。同时，为了满足企业自身发展的需求，中微位于上海的二期大楼也将竣工，届时将增加10,000平方米的生产基地。
Primo AD-RIE™ 设备是中微第二代甚高频去耦合等离子体刻蚀设备，可满足多种关键生产工艺要求。继第一代已被业界广泛认可的 Primo D-RIE™ 之后，Primo AD-RIE™ 采用了更多技术创新点，以解决生产复杂的22纳米至14纳米芯片所带来的挑战，同时确保芯片加工的质量。这些技术创新点包括：可切换频率的射频系统保证了刻蚀的灵活性和可重复性，更好的调谐能力确保了超精细关键尺寸的均匀度和可重复性，改良的反应室室内材料减少了工艺缺陷并降低了成本消耗。
“我们很高兴中微在中国的第一台 Primo AD-RIE™ 设备能进入国内领先的晶圆代工厂，”中微副总裁兼刻蚀产品事业群总经理朱新萍说道，“与中微第一代产品类似，Primo AD-RIE™ 设备的单位投资产出率比市场上其他同类设备提高了30%以上，占地面积较其他同类设备减少了30%以上，并能使加工晶圆的成本降低20%至40%，Primo AD-RIE™ 设备已成为市场上生产率最高、单位投资产出率最高的先进刻蚀设备，用于各种关键及通常的工艺应用。”
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关于中微半导体设备有限公司
公司致力于为全球芯片生产厂商和相关高科技领域的世界领先公司提供一系列高端的芯片生产设备。公司拥有业内经验最丰富的管理和技术专家，已形成强有力的市场驱动力，持续拓展产品线以满足各种新兴的技术需求。客户正是运用了中微先进的刻蚀设备和技术，制造了电子产品中最为关键的芯片器件。中微的高端设备在65、45、32、28、22纳米及以下的芯片生产领域实现了技术创新和生产力提高的最优化。中微公司以亚洲为基地，总部位于中国，其研发、制造、销售和客户服务机构遍布日本、南韩、新加坡、中国台湾等地。
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中微第二代等离子体刻蚀设备首次在中国试运安装；用于32纳米至28纳米芯片加工
上海和旧金山2012年3月20日电 /美通社亚洲/ -- 中微半导体设备有限公司（以下简称“中微”）于 SEMICON China 展会期间宣布，中微第二代等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE™ 正式装配国内技术最先进的集成电路芯片代工企业中芯国际，用于32纳米至28纳米及更先进的芯片加工。这是继去年 SEMICON West 展会期间 Primo AD-RIE™ 正式发布以来，中微 Primo AD-RIE™ 设备首次进入中国大陆客户生产线。目前，中微第一代等离子体刻蚀设备 Primo D-RIE™ 已在中国建立了稳固的市场地位。Primo AD-RIE™ 设备也已进入台湾客户的生产线。
到目前为止，中微的刻蚀设备已进入11家客户的14条芯片生产线，客户涵盖中国大陆、台湾、新加坡和南韩等地的整合器件制造商（IDM）、晶圆代工厂、芯片封装厂等。这其中也包括中微近日发布的 TSV 硅通孔刻蚀设备 Primo TSV200E™，为中微开辟了新的市场。综合来看，中微的设备均拥有生产率高、工艺性能出色、操作简便、成本竞争优势明显等优点。随着亚洲地区对半导体设备的需求日渐增长，中微不断拓展产品线使之日趋多元化，从而迈入了快速发展的轨道，2011年中微的销售额较2010年增长了两倍多。同时，为了满足企业自身发展的需求，中微位于上海的二期大楼也将竣工，届时将增加10,000平方米的生产基地。
Primo AD-RIE™ 设备是中微第二代甚高频去耦合等离子体刻蚀设备，可满足多种关键生产工艺要求。继第一代已被业界广泛认可的 Primo D-RIE™ 之后，Primo AD-RIE™ 采用了更多技术创新点，以解决生产复杂的22纳米至14纳米芯片所带来的挑战，同时确保芯片加工的质量。这些技术创新点包括：可切换频率的射频系统保证了刻蚀的灵活性和可重复性，更好的调谐能力确保了超精细关键尺寸的均匀度和可重复性，改良的反应室室内材料减少了工艺缺陷并降低了成本消耗。
“我们很高兴中微在中国的第一台 Primo AD-RIE™ 设备能进入国内领先的晶圆代工厂，”中微副总裁兼刻蚀产品事业群总经理朱新萍说道，“与中微第一代产品类似，Primo AD-RIE™ 设备的单位投资产出率比市场上其他同类设备提高了30%以上，占地面积较其他同类设备减少了30%以上，并能使加工晶圆的成本降低20%至40%，Primo AD-RIE™ 设备已成为市场上生产率最高、单位投资产出率最高的先进刻蚀设备，用于各种关键及通常的工艺应用。”
欲了解更多关于 Primo AD-RIE™ 的信息，请访问 www.amec-inc.com/products/ADRIE.php。
关于中微半导体设备有限公司
公司致力于为全球芯片生产厂商和相关高科技领域的世界领先公司提供一系列高端的芯片生产设备。公司拥有业内经验最丰富的管理和技术专家，已形成强有力的市场驱动力，持续拓展产品线以满足各种新兴的技术需求。客户正是运用了中微先进的刻蚀设备和技术，制造了电子产品中最为关键的芯片器件。中微的高端设备在65、45、32、28、22纳米及以下的芯片生产领域实现了技术创新和生产力提高的最优化。中微公司以亚洲为基地，总部位于中国，其研发、制造、销售和客户服务机构遍布日本、南韩、新加坡、中国台湾等地。
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PS:貌似很牛逼呀，有大神能给小白科普下么？
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中微第二代等离子体刻蚀设备首次在中国试运安装；用于32纳米至28纳米芯片加工
上海和旧金山2012年3月20日电 /美通社亚洲/ -- 中微半导体设备有限公司（以下简称“中微”）于 SEMICON China 展会期间宣布，中微第二代等离子体刻蚀设备 Primo AD-RIE™ 正式装配国内技术最先进的集成电路芯片代工企业中芯国际，用于32纳米至28纳米及更先进的芯片加工。这是继去年 SEMICON West 展会期间 Primo AD-RIE™ 正式发布以来，中微 Primo AD-RIE™ 设备首次进入中国大陆客户生产线。目前，中微第一代等离子体刻蚀设备 Primo D-RIE™ 已在中国建立了稳固的市场地位。Primo AD-RIE™ 设备也已进入台湾客户的生产线。
到目前为止，中微的刻蚀设备已进入11家客户的14条芯片生产线，客户涵盖中国大陆、台湾、新加坡和南韩等地的整合器件制造商（IDM）、晶圆代工厂、芯片封装厂等。这其中也包括中微近日发布的 TSV 硅通孔刻蚀设备 Primo TSV200E™，为中微开辟了新的市场。综合来看，中微的设备均拥有生产率高、工艺性能出色、操作简便、成本竞争优势明显等优点。随着亚洲地区对半导体设备的需求日渐增长，中微不断拓展产品线使之日趋多元化，从而迈入了快速发展的轨道，2011年中微的销售额较2010年增长了两倍多。同时，为了满足企业自身发展的需求，中微位于上海的二期大楼也将竣工，届时将增加10,000平方米的生产基地。
Primo AD-RIE™ 设备是中微第二代甚高频去耦合等离子体刻蚀设备，可满足多种关键生产工艺要求。继第一代已被业界广泛认可的 Primo D-RIE™ 之后，Primo AD-RIE™ 采用了更多技术创新点，以解决生产复杂的22纳米至14纳米芯片所带来的挑战，同时确保芯片加工的质量。这些技术创新点包括：可切换频率的射频系统保证了刻蚀的灵活性和可重复性，更好的调谐能力确保了超精细关键尺寸的均匀度和可重复性，改良的反应室室内材料减少了工艺缺陷并降低了成本消耗。
“我们很高兴中微在中国的第一台 Primo AD-RIE™ 设备能进入国内领先的晶圆代工厂，”中微副总裁兼刻蚀产品事业群总经理朱新萍说道，“与中微第一代产品类似，Primo AD-RIE™ 设备的单位投资产出率比市场上其他同类设备提高了30%以上，占地面积较其他同类设备减少了30%以上，并能使加工晶圆的成本降低20%至40%，Primo AD-RIE™ 设备已成为市场上生产率最高、单位投资产出率最高的先进刻蚀设备，用于各种关键及通常的工艺应用。”
欲了解更多关于 Primo AD-RIE™ 的信息，请访问 www.amec-inc.com/products/ADRIE.php。
关于中微半导体设备有限公司
公司致力于为全球芯片生产厂商和相关高科技领域的世界领先公司提供一系列高端的芯片生产设备。公司拥有业内经验最丰富的管理和技术专家，已形成强有力的市场驱动力，持续拓展产品线以满足各种新兴的技术需求。客户正是运用了中微先进的刻蚀设备和技术，制造了电子产品中最为关键的芯片器件。中微的高端设备在65、45、32、28、22纳米及以下的芯片生产领域实现了技术创新和生产力提高的最优化。中微公司以亚洲为基地，总部位于中国，其研发、制造、销售和客户服务机构遍布日本、南韩、新加坡、中国台湾等地。
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PS:貌似很牛逼呀，有大神能给小白科普下么？
中微这几年发展的很不错。
32制程今年必须搞定啊
中微是个很牛的企业，希望再接再厉，拿下芯片加工最高端的设备，国内现在高科技行业可以说已经有了长久进步，再过几年将是世界巅峰
不明觉厉。
中国就差光刻机了，加油啊！
最好把最高端的拿下来
中国就差光刻机了，加油啊！
光刻机现在怎么消息了？
光刻机现在怎么消息了？
看成了“中微子”刻蚀，心中一惊。
好消息！
高科技设备上的进步让人鼓舞！
高科技设备上的进步让人鼓舞！
光刻机现在怎么消息了？
不知道，差距比较大，有谁能科普一下。
不知道，差距比较大，有谁能科普一下。
这都是啥时候的新闻了。。前两天还有中微给棒子某家做的10几纳米的新闻，听起来像是丧星的。
gd2812 发表于 2013-4-25 21:56 
这都是啥时候的新闻了。。前两天还有中微给棒子某家做的10几纳米的新闻，听起来像是丧星的。
十几纳米，中微这么逆天了
这都是啥时候的新闻了。。前两天还有中微给棒子某家做的10几纳米的新闻，听起来像是丧星的。
十几纳米，中微这么逆天了
十几纳米，中微这么逆天了
http://www.prnasia.com/story/77560-1.shtml
说是已经完成20纳米的验证，正在做15纳米的验证，都是在棒子那完成的。
http://www.prnasia.com/story/77560-1.shtml
说是已经完成20纳米的验证，正在做15纳米的验证，都是在棒子那完成的。
中微第二代单反应腔等离子体刻蚀设备已在韩国领先的客户生产线上得到验证
用于20纳米及以下关键闪存芯片的加工制造
上海和首尔2013年4月11日电 /美通社/ -- 中微半导体设备有限公司（以下简称“中微”）称已研发成功第二代单反应台等离子体刻蚀设备（Primo SSC AD-RIE）。该设备能够用于加工要求最为严格的半导体器件。在不到一年的时间里，中微的Primo SSC AD-RIE刻蚀设备在韩国领先的半导体制造企业中完成了20纳米及以下关键闪存芯片的生产验证。该韩国客户已正式下单订购，目前正在进行15纳米芯片刻蚀的验证。此前，中微双反应台刻蚀设备Primo D-RIE已在众多亚洲领先的存储芯片和逻辑芯片生产线上确立稳固地位，而中微这款新刻蚀产品延续了Primo D-RIE的创新性。
中微是国内最先进的芯片制造高端设备企业，为全球半导体和LED芯片制造商服务。中微的研发和运营中心位于上海，全球销售和市场中心位于新加坡，其团队由一批来自美国硅谷和亚洲半导体设备领域的专家组成。中微目前的技术成就标志着一个转折点：中微现在所取得的里程碑式的突破，证实了中微完全有能力为客户提供具有高竞争力的设备和技术解决方案，并达到客户最先进芯片的加工要求。更重要的是，中微能够跻身于世界刻蚀设备领域前列，与美国和日本公司竞争。
中微半导体设备有限公司已研发成功第二代单反应台等离子体刻蚀设备（Primo SSC AD-RIE(TM)）。该设备能够用于加工要求最为严格的半导体器件。中微这款新刻蚀产品延续了Primo D-RIE(R)的创新性。
除了韩国客户以外，中国台湾、日本和其他地区的芯片生产厂商也对中微的Primo SSC AD-RIE刻蚀设备表示了极大的兴趣。事实上，20纳米及以下干法刻蚀所伴随的极大挑战已经将小的刻蚀设备供应商排除出局，仅留下一些佼佼者占主导地位。Primo SSC AD-RIE改变了这种局势，为行业提供了又一新的选择。中微目前正在准备晶片DEMO测试。同时，公司也在和部分客户合作开发15纳米闪存芯片加工工艺和VNAND工艺。
为了支持韩国客户并在韩国地区进一步拓展业务，中微韩国分公司将于今年在韩国当地建立研发中心。
中微董事长兼首席执行官尹志尧博士对韩国客户给予的密切合作表示衷心感谢，这样的合作对于解决先进技术难题的发展必不可少，他指出：“中微对于在韩国当地投资建立研发中心、以更好地服务于韩国本地客户的想法非常赞成，基于这一点，我们正在加快韩国本地化计划，并且通过加强知识产权保护、现场产品改进计划和及时现场技术支持来进一步加速这项计划。”
中微韩国区总经理KI Yoon对中微的本地化策略作出了进一步的说明，他表示：“我们一直努力发展韩国本地的供应商，并寻求可靠的合作伙伴，这将使我们能够更好地服务于客户在韩国本土和中国所建的芯片生产线，这不仅仅是为了韩国市场，而且也是为了全球市场。在技术方面，我们致力于为韩国以及其他国家的客户提供创新的技术解决方案，包括第三代CCP介质刻蚀设备、ICP刻蚀设备以及18英寸刻蚀设备的开发。”
Primo SSC AD-RIE是中微公司已申请的注册商标。
关于中微半导体设备有限公司
中微公司致力于为全球半导体芯片和LED芯片生产厂商提供先进的工艺和技术，是中国领先的芯片制造设备企业。公司目前主要提供等离子体刻蚀设备、硅通孔（TSV）刻蚀设备以及MOCVD设备，用于国际一线客户的芯片加工制造。目前，中微已有200多个刻蚀反应台在亚洲地区众多国际领先的生产线上运行。
用于20纳米及以下关键闪存芯片的加工制造
上海和首尔2013年4月11日电 /美通社/ -- 中微半导体设备有限公司（以下简称“中微”）称已研发成功第二代单反应台等离子体刻蚀设备（Primo SSC AD-RIE）。该设备能够用于加工要求最为严格的半导体器件。在不到一年的时间里，中微的Primo SSC AD-RIE刻蚀设备在韩国领先的半导体制造企业中完成了20纳米及以下关键闪存芯片的生产验证。该韩国客户已正式下单订购，目前正在进行15纳米芯片刻蚀的验证。此前，中微双反应台刻蚀设备Primo D-RIE已在众多亚洲领先的存储芯片和逻辑芯片生产线上确立稳固地位，而中微这款新刻蚀产品延续了Primo D-RIE的创新性。
中微是国内最先进的芯片制造高端设备企业，为全球半导体和LED芯片制造商服务。中微的研发和运营中心位于上海，全球销售和市场中心位于新加坡，其团队由一批来自美国硅谷和亚洲半导体设备领域的专家组成。中微目前的技术成就标志着一个转折点：中微现在所取得的里程碑式的突破，证实了中微完全有能力为客户提供具有高竞争力的设备和技术解决方案，并达到客户最先进芯片的加工要求。更重要的是，中微能够跻身于世界刻蚀设备领域前列，与美国和日本公司竞争。
中微半导体设备有限公司已研发成功第二代单反应台等离子体刻蚀设备（Primo SSC AD-RIE(TM)）。该设备能够用于加工要求最为严格的半导体器件。中微这款新刻蚀产品延续了Primo D-RIE(R)的创新性。
除了韩国客户以外，中国台湾、日本和其他地区的芯片生产厂商也对中微的Primo SSC AD-RIE刻蚀设备表示了极大的兴趣。事实上，20纳米及以下干法刻蚀所伴随的极大挑战已经将小的刻蚀设备供应商排除出局，仅留下一些佼佼者占主导地位。Primo SSC AD-RIE改变了这种局势，为行业提供了又一新的选择。中微目前正在准备晶片DEMO测试。同时，公司也在和部分客户合作开发15纳米闪存芯片加工工艺和VNAND工艺。
为了支持韩国客户并在韩国地区进一步拓展业务，中微韩国分公司将于今年在韩国当地建立研发中心。
中微董事长兼首席执行官尹志尧博士对韩国客户给予的密切合作表示衷心感谢，这样的合作对于解决先进技术难题的发展必不可少，他指出：“中微对于在韩国当地投资建立研发中心、以更好地服务于韩国本地客户的想法非常赞成，基于这一点，我们正在加快韩国本地化计划，并且通过加强知识产权保护、现场产品改进计划和及时现场技术支持来进一步加速这项计划。”
中微韩国区总经理KI Yoon对中微的本地化策略作出了进一步的说明，他表示：“我们一直努力发展韩国本地的供应商，并寻求可靠的合作伙伴，这将使我们能够更好地服务于客户在韩国本土和中国所建的芯片生产线，这不仅仅是为了韩国市场，而且也是为了全球市场。在技术方面，我们致力于为韩国以及其他国家的客户提供创新的技术解决方案，包括第三代CCP介质刻蚀设备、ICP刻蚀设备以及18英寸刻蚀设备的开发。”
Primo SSC AD-RIE是中微公司已申请的注册商标。
关于中微半导体设备有限公司
中微公司致力于为全球半导体芯片和LED芯片生产厂商提供先进的工艺和技术，是中国领先的芯片制造设备企业。公司目前主要提供等离子体刻蚀设备、硅通孔（TSV）刻蚀设备以及MOCVD设备，用于国际一线客户的芯片加工制造。目前，中微已有200多个刻蚀反应台在亚洲地区众多国际领先的生产线上运行。
这个不错
gd2812 发表于 2013-4-25 22:51
中微第二代单反应腔等离子体刻蚀设备已在韩国领先的客户生产线上得到验证
用于20纳米及以下关键闪存芯片的 ...
请问中微什么背景啊？
中微第二代单反应腔等离子体刻蚀设备已在韩国领先的客户生产线上得到验证
用于20纳米及以下关键闪存芯片的 ...
请问中微什么背景啊？
光刻机不突破。什么都白搭
中微半导体设备有限公司
中国上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号
邮编：201201
电话：+ 86 21 6100 1199
传真：+ 86 21 6100 2205
中微新加坡
10 Ang Mo Kio Street 65
#02-14 TechPoint Lobby
Singapore 569059
电话：+65 6858 3113
传真：+65 6858 3003
中微日本
Solid Square East 4F,
580 Horikawa, Saiwai, Kawasaki, Kanagawa, Japan 212-0013
电话：+81 (0)44 542 1421
传真：+81 (0)44 542 1422
中微韩国
1005,10th floor, Shinyoung Palace Tower,246-2,
Seohyeon-Dong, Bundang-Ku, Seongnam-Si,Kyeonggi-Do,
South Korea 463824
电话：+82 31 709 2240
传真：+82 31 709 2231
中微台湾
中国台湾新竹市公道五路二段176号四楼
电话：+886 3 572 3111
传真：+886 3 572 3112
牛的一B
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有人没理解“光刻”，photolithography, 准确的说是光学印刷的意思，印刷完毕后你还是得用等离子蚀刻
有人没理解“光刻”，photolithography, 准确的说是光学印刷的意思，印刷完毕后你还是得用等离子蚀刻
也就是说光刻机和等离子蚀刻是用于不同工序咯，我还以为是两种不同工艺呢。。。
也就是说光刻机和等离子蚀刻是用于不同工序咯，我还以为是两种不同工艺呢。。。
也就是说光刻机和等离子蚀刻是用于不同工序咯，我还以为是两种不同工艺呢。。。
光刻是在硅片上画上线，蚀刻是照着线刻。
光刻是在硅片上画上线，蚀刻是照着线刻。
光刻是在硅片上画上线，蚀刻是照着线刻。
中国的光刻机啥时候能有大突破？
中国的光刻机啥时候能有大突破？
hu_sairong 发表于 2013-4-28 12:55
中国的光刻机啥时候能有大突破？
这就不知道了。
中国的光刻机啥时候能有大突破？
这就不知道了。