超级军网震撼：传统浸润式光刻将被彻底颠覆取代
来源：百度文库 编辑：超级军网 时间：2024/04/29 10:25:41
MII和大日本印刷旗下的DNP结成战略技术联盟，准备2013年实用化新的光刻技术-紫外纳米压印光刻， 连EUV都因为成本问题竞争不过，一旦成功了那将真正颠覆传统光刻市场格局。
其竞争对手EV/SUSS/Obducat/Nanoncx都要悲剧了。
2013年准备推向市场，EUV也得靠边站。
MII和大日本印刷旗下的DNP结成战略技术联盟，准备2013年实用化新的光刻技术-紫外纳米压印光刻， 连EUV都因为成本问题竞争不过，一旦成功了那将真正颠覆传统光刻市场格局。
其竞争对手EV/SUSS/Obducat/Nanoncx都要悲剧了。
2013年准备推向市场，EUV也得靠边站。
等离子衍射光学光刻技术貌似也能颠覆传统光刻技术
我关心的是小日又想挑战美国干爹的大饼，会不会又成悲剧？
2013实用化？
看2013能不能找个fab愿意测试先吧
看2013能不能找个fab愿意测试先吧
12英寸65纳米等离子刻蚀机进入大生产线
中国电子报!
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还2013年,中国现在也可以说65纳米等离子刻蚀机已经开始彻底颠覆取代了
楼主又要悲剧了
中国电子报!
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还2013年,中国现在也可以说65纳米等离子刻蚀机已经开始彻底颠覆取代了
楼主又要悲剧了
回复 4# chinatemplar
IBM对这个很热心，找他肯定没问题吧。
IBM对这个很热心，找他肯定没问题吧。
回复 1# 东亚人
拭目以待:D
拭目以待:D
luger 发表于 2010-10-25 19:56 
日本早學乖了,遇到這種事讓乾爹進來分杯羹大家合作下就好
日本早學乖了,遇到這種事讓乾爹進來分杯羹大家合作下就好
LZ，現在連X ray級的技術與機台都有出來，比現有的紫外光刻的線寬豪要強一個等級，屬Sub-nano，而且Aspec Ratio也比現在的要強一個等級，只是在等市場時機而已，小日本這個還真的差遠了!
自己的機台還是要求人家試機，做出來的產品也要被客戶的客戶認證過，否則都是竹藍子打水 - 一場空罷了!這種事不是你慷慨給人試，別人就願意試的。
自己的機台還是要求人家試機，做出來的產品也要被客戶的客戶認證過，否則都是竹藍子打水 - 一場空罷了!這種事不是你慷慨給人試，別人就願意試的。
这技术哪几家有?
我们有没有?
我们有没有?
回复 10# Mcnatsumi
光刻/刻蚀/沉积/去胶/匀胶这些是属于半导体工艺设备的核心，TG的中电45所应该有预研的，进展如何不清楚。
光刻/刻蚀/沉积/去胶/匀胶这些是属于半导体工艺设备的核心，TG的中电45所应该有预研的，进展如何不清楚。
东亚人 发表于 2010-10-27 19:43
中电45所就不用提了。:D
中电45所就不用提了。:D
回复 12# wanghywanghy
实验室里进度应该搞的可以，要想成熟实用化还有相当一段路要走。
实验室里进度应该搞的可以，要想成熟实用化还有相当一段路要走。
回复 2# EKW
ITRS文档里对未来的光刻技术最看好的就是紫外纳米压印光刻，EUV/DUV，双重图形光刻，尤其是紫外纳米压印光刻，如果能把成本有效控制下来可以真正颠覆传统的（Immersion）光刻技术。
我给的那个比较表格也是 ITRS文档里的
ITRS文档里对未来的光刻技术最看好的就是紫外纳米压印光刻，EUV/DUV，双重图形光刻，尤其是紫外纳米压印光刻，如果能把成本有效控制下来可以真正颠覆传统的（Immersion）光刻技术。
我给的那个比较表格也是 ITRS文档里的
我看悲剧！
好像还没有和EUV分出胜负吧
MS楼主喜欢拿将来计划中的事情来骄傲一番。