武汉新芯第二台北方微电子AL PAD PVD设备顺利进厂

http://www.sevenstar.com.cn/show.asp?id=186

      七星电子重组标的—北方微电子再传捷报，北方微电子自主研发的用于集成电路Al Pad工艺的eVictor A830 PVD设备再次成功move in武汉新芯，同时，该设备也获得了多家国际大厂的后续订单。

        eVictor A830 PVD设备是一款应用于IC领域的双传输平台12英寸物理气相沉积设备，支持8腔室配置，可以实现Al导电层、Ti(N)/Ta(N)阻挡层、TiN抗反射层等多种薄膜的制备，是NMC史上体型最庞大，腔室最多的系统。它突破了高温静电卡盘、厚铝连续沉积、低刻蚀速率预清洗工艺、双传输腔系统调度等关键技术，顺利通过了MSTR验证，技术水平处于市场领先地位，具有工艺温度均匀性好、稳定性高、产能大等特点，此外，高Throughput、低CoO和CoC等特点给客户工艺集成提供了广阔的优化空间。

       Al Pad PVD顺利赢得武汉新芯的二次订单，再次move in 武汉新芯，是客户对其技术能力及量产稳定性的肯定，也是对北方微电子技术实力的信赖以及对国产设备的认可。北方微电子将继续秉承以客户为导向的持续创新，以“创造精良，打造民族自尊”为使命，为集成电路装备的国产化贡献力量。


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      七星电子重组标的—北方微电子再传捷报，北方微电子自主研发的用于集成电路Al Pad工艺的eVictor A830 PVD设备再次成功move in武汉新芯，同时，该设备也获得了多家国际大厂的后续订单。

        eVictor A830 PVD设备是一款应用于IC领域的双传输平台12英寸物理气相沉积设备，支持8腔室配置，可以实现Al导电层、Ti(N)/Ta(N)阻挡层、TiN抗反射层等多种薄膜的制备，是NMC史上体型最庞大，腔室最多的系统。它突破了高温静电卡盘、厚铝连续沉积、低刻蚀速率预清洗工艺、双传输腔系统调度等关键技术，顺利通过了MSTR验证，技术水平处于市场领先地位，具有工艺温度均匀性好、稳定性高、产能大等特点，此外，高Throughput、低CoO和CoC等特点给客户工艺集成提供了广阔的优化空间。

       Al Pad PVD顺利赢得武汉新芯的二次订单，再次move in 武汉新芯，是客户对其技术能力及量产稳定性的肯定，也是对北方微电子技术实力的信赖以及对国产设备的认可。北方微电子将继续秉承以客户为导向的持续创新，以“创造精良，打造民族自尊”为使命，为集成电路装备的国产化贡献力量。