超级军网SMEE 更新网站了
来源：百度文库 编辑：超级军网 时间：2024/04/23 19:15:44
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上面有光刻机的照片, 不知道那个90NM的光刻机量产了没有<meta http-equiv="refresh" content="0; url=http://sdw.cc">
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我靠，现在连这东西也能山寨了，不知道光源和透镜是不是自己做的
;看来已经有90NM的光刻机产品了。
0.75的NA...............:L同样的单镜头非浸没的ArF光源ASML的PAS 5500系列是0.75-0.80，尼康的NSR-S310F是0.92.......................
看纸面规格，大致相当于尼康的NSR-S305B和NSR-S306C之间的水平.......................
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Chasefreedom 发表于 2010-8-23 03:04 
这东西不是山寨，别习惯性就说山寨，用核高基项目评审专家的话说，这叫博采众长:D
这东西不是山寨，别习惯性就说山寨，用核高基项目评审专家的话说，这叫博采众长:D
博丽灵梦 发表于 2010-8-23 15:02
还凑话吧
应该能用
就是WPH有点低
还凑话吧
应该能用
就是WPH有点低
不知道卖出去了没有？
到底是真做出来的，还是引进的？
到底是真做出来的，还是引进的？
奇怪的是，没有新闻报道！
好东西,俺们要进步.
waaadoooo 发表于 2010-8-23 18:31
等通过了专家组的评审鉴定会后就会的
等通过了专家组的评审鉴定会后就会的
chinatemplar 发表于 2010-8-23 18:23
你要这么想，他们本来是翻修二手机器的，能做到这样已经很难能可贵了
你要这么想，他们本来是翻修二手机器的，能做到这样已经很难能可贵了
博丽灵梦 发表于 2010-8-23 21:53
这个机器不是翻修的吧。。。？
还有，
如果弄出90nm的光刻机来，
以后靠浸入式来做，
是不是这家公司很快就可出65，45nm的光刻机了？
还有，长春光机所的光刻机做怎么样了？有光机所要牛一些的感觉
看来SMEE还挺厉害啊，
以前拍他们的挺多呢
这个机器不是翻修的吧。。。？
还有，
如果弄出90nm的光刻机来，
以后靠浸入式来做，
是不是这家公司很快就可出65，45nm的光刻机了？
还有，长春光机所的光刻机做怎么样了？有光机所要牛一些的感觉
看来SMEE还挺厉害啊，
以前拍他们的挺多呢
他们的老本行就是翻修，又没说这个是翻修的，这个东西是发展的浸入式的基础，国内做这个比较好的反而不是长春光机所，而是成都光电所
查了一下，
NSR-S305B 110nm NA 0.68 Alignment accuracy 30nm or better
NSR-S306C 100nm NA 0.78 Alignment accuracy 20nm or better
SSA600/20 90nm NA 0.75 刻套精度≤20nm
感觉这个SSA600/20应该也就是100nm的样子呀；
而且他们之间的参数好像很类似。。。
NSR-S305B 110nm NA 0.68 Alignment accuracy 30nm or better
NSR-S306C 100nm NA 0.78 Alignment accuracy 20nm or better
SSA600/20 90nm NA 0.75 刻套精度≤20nm
感觉这个SSA600/20应该也就是100nm的样子呀；
而且他们之间的参数好像很类似。。。
博丽灵梦 发表于 2010-8-23 22:10
不过这次重大专项好像是长春光机所拿到了呀。。。
哗啦啦的一大笔钱。。。
不过这次重大专项好像是长春光机所拿到了呀。。。
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waaadoooo 发表于 2010-8-23 22:14
不是整机，而是透镜
不是整机，而是透镜
博丽灵梦 发表于 2010-8-23 22:22
哦。。。
整机莫非是清华大学什么的拿走了？
哦。。。
整机莫非是清华大学什么的拿走了？
博丽灵梦 发表于 2010-8-23 22:10 这个90nm光刻机貌似就是用的成都光电所的90nm光刻机曝光系统
这个90nm光刻机貌似就是用的成都光电所的90nm光刻机曝光系统不是整机，而是透镜
博丽灵梦 发表于 2010-8-23 22:22
不是整机，而是透镜应该是EUV光刻机曝光系统吧，而且一期就有十个亿，另外哈工大也拿到了一部份，是三个亿，据说北京理工大学在EUV光刻机方面的水平也不错
博丽灵梦 发表于 2010-8-23 22:22
回复 19# EKW
这个应该是193/157nm 的DUV的，国内好像没有做EUV的
这个应该是193/157nm 的DUV的，国内好像没有做EUV的
回复 20# Chasefreedom
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
应用光学国家重点实验室重大专项招聘公告
“高NA浸没式曝光光学系统关键技术研究”、“极高精度光学元件与系统检测技术研究”及“极紫外投影光刻关键技术研究”等项目，是国家下达的重大的科技专项任务（第一期经费10亿元），其最终目标是掌握超大规模集成电路制造产业核心装备--DUV及EUV投影光刻机曝光光学系统的研制与生产能力。
DUV及EUV投影光刻曝光光学系统是目前人类所能研制的最为复杂、最为精密的光学仪器，其研制过程涉及到光学材料、光学设计、光学加工、光学检测、光学镀膜、光机结构与光学装校等应用光学所有单元技术，且需将上述单元技术发挥到当前发展的极限水平。
竭诚欢迎2009年优秀应届毕业生加入上述科研项目的研究团队，肩负历史使命，共同迎接与完成国家与民族交付的这一极具挑战性的研究任务！
有志从事最尖端应用光学研究的年青朋友们，来应用光学国家重点实验室重大专项锻炼与发展，将是实现你们人生价值的最佳选择！
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回复 21# waaadoooo
是我孤陋了，以前从来没见过国内的组发EUV的文章
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真靠自己 30年前的G-LINE都做不来
打肿脸充胖子何必呢
走都不会就想跑
纯粹浪费钱
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