中国首台先进封装光刻机产品实现销售并投入使用

来源:百度文库 编辑:超级军网 时间:2024/04/20 06:47:04


http://www.22ic.cn/html/16/n-3116.html

  2010年7月16日下午,上海微电子装备有限公司(简称“SMEE”)和江阴长电先进封装有限公司  (简称“JCAP”)在江苏省江阴市联合召开了“首台先进封装光刻机使用现场汇报会暨SMEE与JCAP战略合作协议的签约仪式”会议。科技部、国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”实施管理办公室和总体专家组、专项咨询委、上海市科委、江阴市政府等单位的领导出席了会议,科技部曹健林副部长等领导做了重要讲话。
    随着集成电路产业的发展,高端芯片的集成度已经达到数千至数亿晶体管,推动着芯片封装技术向更高密度、更高性能发展,使基于凸点工艺的封装成为主流技术,对封装光刻机的性能也大幅提高,传统的接近/接触式光刻机已不能满足高性能、高密度、低成本等先进封装工艺发展需求,先进的大视场、大焦深、高精度投影光刻机成为先进封装生产线的关键设备。为了改变该类先进封装光刻机完全依赖进口局面,上海微电子装备有限公司在国家科技重大专项和上海市科委等部门的支持下,成功开发出了用于倒装焊凸点制备的先进封装光刻机。该机型具有自主知识产权,在投影物镜、高精密的工件台、对准调焦测量、软件系统等关键技术上取得了系列创新成果,申请了国家发明专利74项,已获国家发明专利授权22项,申请国际发明专利3项。
    2009年9月下旬,上海微电子装备有限公司研发的先进封装光刻机通过了江阴长电先进封装有限公司的出厂工艺测试,并正式签订了产品销售合同。该光刻机具有“大视场、大焦深、高套刻精度、边缘曝光”等技术特点,可满足先进封装工艺中8英寸及12英寸硅片级重新布线凸点等厚胶工艺要求。自2009年11月上生产线运行以来,江阴长电利用该设备已成功完成第一批8英寸“重新布线及凸点工艺”产品的多层光刻生产任务。
   国产首台先进封装光刻机的研制成功与使用,标志着我国在高端封装关键设备产品创新与开发中取得了可喜突破,对提升我国集成电路制造装备、工艺及材料技术的自主创新能力具有重要意义。

http://www.smee.com.cn/02_chanpin/02_2.html
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    好像目前世界上300mm 芯片产品设计的光刻设备都被荷兰的ASML和日本尼康垄断了吧,佳能也拥用光刻机技术不过市场份额比较小。现在中国也能生产300mm硅片封装光刻机了,技术上落后人家但也算起步了。

http://www.22ic.cn/html/16/n-3116.html

  2010年7月16日下午,上海微电子装备有限公司(简称“SMEE”)和江阴长电先进封装有限公司  (简称“JCAP”)在江苏省江阴市联合召开了“首台先进封装光刻机使用现场汇报会暨SMEE与JCAP战略合作协议的签约仪式”会议。科技部、国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”实施管理办公室和总体专家组、专项咨询委、上海市科委、江阴市政府等单位的领导出席了会议,科技部曹健林副部长等领导做了重要讲话。
    随着集成电路产业的发展,高端芯片的集成度已经达到数千至数亿晶体管,推动着芯片封装技术向更高密度、更高性能发展,使基于凸点工艺的封装成为主流技术,对封装光刻机的性能也大幅提高,传统的接近/接触式光刻机已不能满足高性能、高密度、低成本等先进封装工艺发展需求,先进的大视场、大焦深、高精度投影光刻机成为先进封装生产线的关键设备。为了改变该类先进封装光刻机完全依赖进口局面,上海微电子装备有限公司在国家科技重大专项和上海市科委等部门的支持下,成功开发出了用于倒装焊凸点制备的先进封装光刻机。该机型具有自主知识产权,在投影物镜、高精密的工件台、对准调焦测量、软件系统等关键技术上取得了系列创新成果,申请了国家发明专利74项,已获国家发明专利授权22项,申请国际发明专利3项。
    2009年9月下旬,上海微电子装备有限公司研发的先进封装光刻机通过了江阴长电先进封装有限公司的出厂工艺测试,并正式签订了产品销售合同。该光刻机具有“大视场、大焦深、高套刻精度、边缘曝光”等技术特点,可满足先进封装工艺中8英寸及12英寸硅片级重新布线凸点等厚胶工艺要求。自2009年11月上生产线运行以来,江阴长电利用该设备已成功完成第一批8英寸“重新布线及凸点工艺”产品的多层光刻生产任务。
   国产首台先进封装光刻机的研制成功与使用,标志着我国在高端封装关键设备产品创新与开发中取得了可喜突破,对提升我国集成电路制造装备、工艺及材料技术的自主创新能力具有重要意义。

http://www.smee.com.cn/02_chanpin/02_2.html
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    好像目前世界上300mm 芯片产品设计的光刻设备都被荷兰的ASML和日本尼康垄断了吧,佳能也拥用光刻机技术不过市场份额比较小。现在中国也能生产300mm硅片封装光刻机了,技术上落后人家但也算起步了。
很好,很有希望,不久数码相机就不得不大降价了


SMEE还要脸吗?起步?继续做翻修2手设备这个有前途的工作去吧,这还仅仅是封装用的

SMEE还要脸吗?起步?继续做翻修2手设备这个有前途的工作去吧,这还仅仅是封装用的
博丽灵梦 发表于 2010-7-23 11:55 SMEE貌似正在搞90nm光刻机的α样机
请大狗芬里尔评价一下;P
EKW 发表于 2010-7-23 18:43


    06年就开始搞的那个100nm CD的ArF光刻机呢?这都难产了多少年了?:D他们废材得连CKD都不会的
这就叫用旧闻打脸:http://www.sichinamag.net/a//14795.action




      国产100nm光刻机2006年 完成样机调试

  在近日由浙江省半导体行业协会主办的“长三角半导体行业协会联谊会”上获悉,上海微电子装备公司100nm光刻机今年底将开始整机组装、2006年完成样机调试。
  位于上海张江高科技园区内的上海微电子装备有限公司,是由国内多家企业集团和投资公司共同投资组建的半导体设备制造公司,汇集了来自全国及海外的光、机、电、气、化学、材料等多学科高级技术人才,专门从事光刻机等微电子装备的总体设计、系统集成的技术研究,为光刻机及其它相关设备的开发、设计、制造及维修、成套服务等提供系统解决方案。
  据了解,在上海微电子装备有限公司开发的系列产品中,基于0.18 um工艺技术的8英寸设备成套解决方案,最有可能率先实现商用化。(姚钢)
被他们突破了
博丽灵梦 发表于 2010-7-23 20:13
    突破了技术和卖出去了上线生产了不是一回事吧
lzneng 发表于 2010-7-23 21:03


这个得找LPC2103,貌似他比较懂。SMEE搞的是alinger,通常所说的IC暴光光刻还是Stepper/Scanner,这个突破了才有意义。
Stepper还是得看这里http://www.csia.net.cn/Article/ShowInfo.asp?InfoID=809
中科院光电技术研究所的产品,水平如何能不能投入市场使用就不知道了。
东亚人 发表于 2010-7-23 21:21


    这些还都是alinger,不是Stepper,其实就是成都光电所啦,东西确实还算不错的
04年离开smee的飘过?现在公司下班还有班车接送不?