超级军网上海微电子预研的 45nm-32nm特征线宽浸没式光刻机样机
来源：百度文库 编辑：超级军网 时间：2024/04/25 17:38:32
集成电路关键核心装备与特色产品和工艺”也是上海市科技“十二五”规划重大任务之一。
上海光刻机的发展目标涉及技术和市场两个方面。在技术方面，紧跟国际光刻机先进水平，缩短与世界先进水平的差距。通过继承“十五”光刻机样机取得的技术成果，继续研制90nm光刻机产品，在国内大规模集成电路生产线得到应用，并形成单工件台扫描光刻机平台，为研制光刻机系列产品奠定基础。同时，为适应集成电路技术从45纳米向32纳米和22纳米发展的趋势，开展双工件台光刻机和浸没光刻机的关键技术研究，研发完成45nm-32nm特征线宽浸没式光刻机样机。在市场方面，以集成电路前道工艺投影光刻机的技术成果为基础，以集成电路先进封装投影光刻机为市场切入点，研发和完善前道工艺投影光刻机、先进封装投影光刻机、MEMS投影光刻机和下一代平板显示投影光刻机系列产品，掌握关键技术和获得自主知识产权，满足国内客户的需求，具备与国外同类产品进行市场竞争的实力，形成一定的产业规模。集成电路关键核心装备与特色产品和工艺”也是上海市科技“十二五”规划重大任务之一。
上海光刻机的发展目标涉及技术和市场两个方面。在技术方面，紧跟国际光刻机先进水平，缩短与世界先进水平的差距。通过继承“十五”光刻机样机取得的技术成果，继续研制90nm光刻机产品，在国内大规模集成电路生产线得到应用，并形成单工件台扫描光刻机平台，为研制光刻机系列产品奠定基础。同时，为适应集成电路技术从45纳米向32纳米和22纳米发展的趋势，开展双工件台光刻机和浸没光刻机的关键技术研究，研发完成45nm-32nm特征线宽浸没式光刻机样机。在市场方面，以集成电路前道工艺投影光刻机的技术成果为基础，以集成电路先进封装投影光刻机为市场切入点，研发和完善前道工艺投影光刻机、先进封装投影光刻机、MEMS投影光刻机和下一代平板显示投影光刻机系列产品，掌握关键技术和获得自主知识产权，满足国内客户的需求，具备与国外同类产品进行市场竞争的实力，形成一定的产业规模。
上海光刻机的发展目标涉及技术和市场两个方面。在技术方面，紧跟国际光刻机先进水平，缩短与世界先进水平的差距。通过继承“十五”光刻机样机取得的技术成果，继续研制90nm光刻机产品，在国内大规模集成电路生产线得到应用，并形成单工件台扫描光刻机平台，为研制光刻机系列产品奠定基础。同时，为适应集成电路技术从45纳米向32纳米和22纳米发展的趋势，开展双工件台光刻机和浸没光刻机的关键技术研究，研发完成45nm-32nm特征线宽浸没式光刻机样机。在市场方面，以集成电路前道工艺投影光刻机的技术成果为基础，以集成电路先进封装投影光刻机为市场切入点，研发和完善前道工艺投影光刻机、先进封装投影光刻机、MEMS投影光刻机和下一代平板显示投影光刻机系列产品，掌握关键技术和获得自主知识产权，满足国内客户的需求，具备与国外同类产品进行市场竞争的实力，形成一定的产业规模。集成电路关键核心装备与特色产品和工艺”也是上海市科技“十二五”规划重大任务之一。
上海光刻机的发展目标涉及技术和市场两个方面。在技术方面，紧跟国际光刻机先进水平，缩短与世界先进水平的差距。通过继承“十五”光刻机样机取得的技术成果，继续研制90nm光刻机产品，在国内大规模集成电路生产线得到应用，并形成单工件台扫描光刻机平台，为研制光刻机系列产品奠定基础。同时，为适应集成电路技术从45纳米向32纳米和22纳米发展的趋势，开展双工件台光刻机和浸没光刻机的关键技术研究，研发完成45nm-32nm特征线宽浸没式光刻机样机。在市场方面，以集成电路前道工艺投影光刻机的技术成果为基础，以集成电路先进封装投影光刻机为市场切入点，研发和完善前道工艺投影光刻机、先进封装投影光刻机、MEMS投影光刻机和下一代平板显示投影光刻机系列产品，掌握关键技术和获得自主知识产权，满足国内客户的需求，具备与国外同类产品进行市场竞争的实力，形成一定的产业规模。
光刻机是半导体芯片制造业中的最核心设备，在国家“十五”“十一五”“十二五”发展规划中都被明确定义为重点制造装备，并被列入国家“02”科技重大专项。10余年来，上海微电子装备有限公司（简称SMEE）在该领域内取得重要突破，并在先进封装光刻机产品方面形成了系列化和量产化，在国际同类产品中处于先进水平，实现了光刻机海外市场的销售突破。目前，企业成为世界上继欧洲和日本3家光刻机公司后，少数掌握高端光刻机系统设计与系统集成的公司。2014年，企业销售额达2亿多元，2015年的销售目标继续有较大幅度增长
没说45nm-32nm浸没式光刻机样机研发成功了啊。
要真成功了，其成果堪比神州上天啊。
45nm-32nm，大大缩小了和ASML的差距啊，真成功了吗？
45nm-32nm，大大缩小了和ASML的差距啊，真成功了吗？
ASML的14nm都已经下崽了，最乐观的估计也是差5年
ASML的14nm都已经下崽了，最乐观的估计也是差5年
ASML的14nm都已经下崽了，最乐观的估计也是差5年
韩国的光刻机怎么样？中国的光刻机有出口台湾、韩国的么？
韩国的光刻机怎么样？中国的光刻机有出口台湾、韩国的么？
xenodragon 发表于 2015-5-6 19:52
ASML的14nm都已经下崽了，最乐观的估计也是差5年
能缩小到差5年，就是很大的进步啊，以前差了太多了吧。
ASML的14nm都已经下崽了，最乐观的估计也是差5年
能缩小到差5年，就是很大的进步啊，以前差了太多了吧。
真早成了，那可牛逼了，自用没问题
呀咩喋……噢吔 发表于 2015-5-6 19:58
韩国的光刻机怎么样？中国的光刻机有出口台湾、韩国的么？
棒子是没能力自产光刻机的。
韩国的光刻机怎么样？中国的光刻机有出口台湾、韩国的么？
棒子是没能力自产光刻机的。
呀咩喋……噢吔 发表于 2015-5-6 19:58
韩国的光刻机怎么样？中国的光刻机有出口台湾、韩国的么？
出口那个是 刻蚀机 不是光刻机
中微电的 16NM刻蚀机 中微电 出口占 中国 出口75%
韩国的光刻机怎么样？中国的光刻机有出口台湾、韩国的么？
出口那个是 刻蚀机 不是光刻机
中微电的 16NM刻蚀机 中微电 出口占 中国 出口75%
要真成功了，其成果堪比神州上天啊。
比神周牛逼
比神周牛逼
棒子是没能力自产光刻机的。
肯定不行 就光学还不如咱呢
肯定不行 就光学还不如咱呢
高大上，妥妥的！
要真成功了，其成果堪比神州上天啊。
神舟？
没啥真正的突破，参考别人的设计、填补自己空白而已；
而且成果难以转化。
神舟？
没啥真正的突破，参考别人的设计、填补自己空白而已；
而且成果难以转化。
理想很美好 别说32nm 上海那个90nm都没有客户用 先别谈asml 赶上佳能再说
楼主在哪里看到的新闻呢？
jeciq 发表于 2015-5-7 13:10
理想很美好 别说32nm 上海那个90nm都没有客户用 先别谈asml 赶上佳能再说
没用户？
质量不过关？
还是价格高？
还是没有需求了？
理想很美好 别说32nm 上海那个90nm都没有客户用 先别谈asml 赶上佳能再说
没用户？
质量不过关？
还是价格高？
还是没有需求了？
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质量不过关？
这玩意，流片一次几十万到几百万，流片完了，还要封装等很多道工序，芯片点亮后再检查，时间不短，
质量不过关？
这玩意，流片一次几十万到几百万，流片完了，还要封装等很多道工序，芯片点亮后再检查，时间不短，
jeciq 发表于 2015-5-7 12:21
肯定不行 就光学还不如咱呢
就是，棒子就是一个暴发户，在光刻机领域要补的课远比我们多
肯定不行 就光学还不如咱呢
就是，棒子就是一个暴发户，在光刻机领域要补的课远比我们多